JP2014040373A - 含フッ素化合物、コーティング用組成物、撥水層付き基材およびその製造方法 - Google Patents

含フッ素化合物、コーティング用組成物、撥水層付き基材およびその製造方法 Download PDF

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洋介 竹田
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知子 岸川
Nobuyuki Otosawa
信行 音澤
Daisuke Shirakawa
大祐 白川
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Abstract

【課題】充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない含フッ素化合物、コーティング用組成物、撥水層付き基材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＲＦ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎで表される含フッ素化合物を用いる。ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、Ｙは、ＲＦ側の末端が−ＣＨ２−である炭素数ｑの直鎖状のフルオロアルキレン基（エーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）であり、ｐは、２〜６の整数であり、ｑは、４以上の整数であり、ｐ＋ｑは、１０以上の整数であり、Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、Ｘは、加水分解性基であり、ｎは、１〜３の整数である。
【選択図】なし

Description

本発明は、含フッ素化合物、該含フッ素化合物を用いたコーティング用組成物、該コーティング用組成物からなる撥水層を有する基材およびその製造方法に関する。
基材の表面に撥水性を付与する方法としては、ペルフルオロアルキル基および加水分解性シリル基を有する含フッ素化合物および溶媒を含む撥水撥油剤組成物を基材に塗布し、乾燥することによって撥水性被膜を形成する方法が知られている。該撥水撥油剤組成物としては、たとえば、自動車ガラス用撥水剤組成物等が挙げられる。自動車ガラス用撥水剤組成物から形成される撥水層には、高い動的撥水性（水滴が転がりやすい性質、水滴除去性）、耐摩耗性および耐侯性が要求される。
該要求を満たす自動車ガラス用撥水剤組成物としては、下記のものが提案されている。
（１）下式（Ｉ）で表される化合物および溶媒を含む組成物（特許文献１）。
（Ｒｆ１）ａＳｉ（Ｒ１）ｂ（ＮＣＯ）４−ａ−ｂ ・・・（Ｉ）。
ただし、Ｒｆ１は、炭素数８〜１６のペルフルオロアルキル基を有する有機基であり、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜１６の有機基であり、ａは、１または２であり、ｂは、０または１である。
ところが最近、炭素数８以上のペルフルオロアルキル基を有する化合物は、環境負荷が高い点が指摘されている。そのため、炭素数６以下のペルフルオロアルキル基を有する撥水撥油剤用組成物用の含フッ素化合物が要求されている。しかし、炭素数６以下のペルフルオロアルキル基を有する含フッ素化合物を含む撥水撥油剤用組成物からなる撥水層は、従前の撥水撥油剤用組成物から形成された撥水層に比べ、ペルフルオロアルキル基に基づく結晶性（すなわち、分子間でパッキングする性質）が劣るため、撥水性、特に動的撥水性が低下する。
炭素数６以下のペルフルオロアルキル基を有する含フッ素化合物としては、下記のものが提案されている。
（２）下式（ＩＩ）で表される化合物（特許文献２）。
ＣｎＦ２ｎ＋１（ＣＨ２ＣＦ２）ａ（ＣＦ２ＣＦ２）ｂ（ＣＨ２ＣＨ２）ｃＯＲ ・・・（ＩＩ）。
ただし、Ｒは、水素原子または（メタ）アクリロイル基であり、ｎは、１〜６の整数であり、ａは、１〜４の整数であり、ｂは、１〜３の整数であり、ｃは、１〜３の整数である。
（３）下式（ＩＩＩ）で表される化合物（特許文献３）および該化合物を含む離型剤（特許文献４）。
ＣｎＦ２ｎ＋１（ＣＨ２ＣＦ２）ａ（ＣＦ２ＣＦ２）ｂ（ＣＨ２ＣＨ２）ｃＰ（Ｏ）（ＯＨ）２ ・・・（ＩＩＩ）。
ただし、ｎは、１〜６の整数であり、ａは、１〜４の整数であり、ｂは、１〜３の整数であり、ｃは、１〜３の整数である。
（４）下式（ＩＶ）で表される化合物（特許文献５）。
ＣＦ３（ＣＦ２）ｎＣＨ２（ＣＦ２）ｍＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（ＩＶ）。
ただし、ｎは、０〜５の整数であり、ｍは、１〜７の整数である。
特許第２８００７８６号公報 国際公開第２００７／１０５６３３号 特許第４５０６８９３号公報 特許第４５０６８９４号公報 国際公開第２００９／１５１１１０号
しかし、式（ＩＩ）で表される化合物を含む撥水撥油剤用組成物を用いて撥水層を形成させたところ、基材（特にガラス）との密着性が低く、耐摩耗性および耐候性に劣る。
式（ＩＩＩ）で表される化合物は、金属基材の離型剤として用いられるが、他の基材（特にガラス）には適さない。
式（ＩＶ）で表される化合物を含む撥水撥油剤用組成物からなる撥水層も、基材（特にガラス）との密着性が低く、耐摩耗性および耐候性に劣る。
本発明は、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない含フッ素化合物およびコーティング用組成物ならびに充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない撥水層付き基材およびその製造方法を提供する。
本発明は、下記［１］〜［１１］の発明である。
［１］下式（１）で表される含フッ素化合物。
ＲＦ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
Ｙは、ＲＦ側の末端が−ＣＨ２−である炭素数ｑの直鎖状のフルオロアルキレン基または該基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｑは、４以上の整数であり、
ｐ＋ｑは、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
［２］下式（１１）または下式（１２）で表される含フッ素化合物。
ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１１）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｒは、１以上の整数であり、
ｐ＋ｒ＋４は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−は、ａ個の−（ＣＨ２ＣＨ２）−単位、ｂ個の−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位およびｃ個の−（ＣＦ２ＣＦ２）−単位が連なった構造であって、ＲＦ側の末端が必ず−（ＣＨ２ＣＨ２）−単位または−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位となる他は、前記各単位の並び方が限定されない構造であり、
ａは、０〜１０の整数であり、
ｂは、０〜２０の整数であり、
ｃは、０〜１０の整数であり、
ａ＋ｂは、１以上の整数、ｂ＋ｃは、１以上の整数であり、
ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
［３］下式（１２ａ）、下式（１２ｂ）、および下式（１２ｃ）のいずれかで表される含フッ素化合物。
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ａ）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−は、ｂ個の−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位とｃ個の−（ＣＦ２ＣＦ２）−単位が、記載された順序で連なった構造であり、
ｂは、１〜２０の整数であり、
ｃは、１〜１０の整数であり、
ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｂ）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｂは、１〜２０の整数であり、
ｐ＋２ｂ＋２は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｃ）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｄは、１〜１０の整数であり、
ｐ＋４ｄ＋２は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
［４］前記［１］〜［３］のいずれかの含フッ素化合物および／または該含フッ素化合物の加水分解性基の一部または全部が脱水縮合して生成した加水分解縮合物と、溶媒とを含む、コーティング用組成物。
［５］前記含フッ素化合物および前記加水分解縮合物の総量が、前記コーティング用組成物の全質量中、０．１〜５０質量％である、［４］のコーティング用組成物。
［６］前記溶媒が、有機溶媒である、［４］または［５］のコーティング用組成物。
［７］撥水撥油剤用組成物である、［４］〜［６］のいずれかのコーティング用組成物。
［８］基材と、該基材の表面に前記［４］〜［７］のいずれかのコーティング用組成物から形成された撥水層を有する、撥水層付き基材。
［９］前記基材が、透光性基材である、［８］の撥水層付き基材。
［１０］［９］の撥水層付き基材が塔載された輸送機器用物品。
［１１］［４］〜［７］のいずれかのコーティング用組成物を、基材の表面に塗布して撥水層を形成する、撥水層付き基材の製造方法。
本発明の含フッ素化合物は、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない。
本発明のコーティング用組成物は、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない。
本発明の撥水層付き基材は、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない。
本発明の撥水層付き基材の製造方法によれば、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない撥水層付き基材を製造できる。
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。また、本明細書におけるペルフルオロアルキル基は、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子に置換された基をいう。フルオロアルキレン基は、アルキレン基の水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された基をいう。ペルフルオロアルキレン基は、アルキレン基の水素原子が全てフッ素原子に置換された基をいう。
＜含フッ素化合物＞
（化合物（１））
本発明の含フッ素化合物は、化合物（１）である。
ＲＦ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１）。
ＲＦは、炭素数ｐ（ただし、ｐは２〜６の整数である。）の直鎖状のペルフルオロアルキル基である。以下、直鎖状のペルフルオロアルキル基をＲＦ基という。ｐが２以上であれば、撥水撥油性に優れる。ｐが６以下であれば、含フッ素化合物の分解生成物による環境負荷が少ない。ｐは、原料の入手性の点から、２、４または６が好ましい。
Ｙは、ＲＦ側の末端が−ＣＨ２−である炭素数ｑ（ただし、ｑは、４以上の整数である。）の直鎖状のフルオロアルキレン基、または、該基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。後者の基である場合のエーテル性酸素原子の数は、１個以上である。Ｙは直鎖状のフルオロアルキレン基が好ましい。ｑはＹの炭素数を示し、ｑが大きくなりすぎると、含フッ素化合物の融点が高くなり、取り扱い性が悪くなる。ｑの好ましい上限値は２８であり、２２がより好ましく、１６が特に好ましい。
本発明の含フッ素化合物は、ＲＦとＳｉとの間に、ある程度の鎖長を有する連結基（Ｙ）が存在することが特徴であり、より好ましくは分子の鎖長が長いことが特徴である。該分子の鎖長を表現する数であるｐ＋ｑは１０以上である。ｐ＋ｑが該範囲であれば、ＲＦ−Ｙ−基による結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。ｐ＋ｑは、１０〜３０が好ましく、１０〜２４がより好ましく、１０〜１８が特に好ましい。
ＹにおけるＲＦ側の末端は−ＣＨ２−である。ＲＦ側の末端が−ＣＨ２−であれば、分解生成物として炭素数８以上のＲＦ基を有する化合物が生成することがないため、環境負荷が少ない。
ＹにおけるＳｉ側の末端は、得られる撥水層の耐侯性および含フッ素化合物の合成のしやすさ点から、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−が挙げられ、−ＣＨ２ＣＨ２−が特に好ましい。
ＲＦおよびＹは、直鎖状である。ＲＦおよびＹが直鎖状であれば、ＲＦ−Ｙ−基が直鎖状となり、含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。
Ｒ１は、１価の炭化水素基（ただし、ＲＦ基を有する炭化水素基は除く。）であり、原料の入手性や取り扱い性の点から、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。含フッ素化合物中にＲ１が複数存在する場合には、Ｒ１が同じ基でも異なる基でもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。
Ｘは、加水分解性基である。加水分解性基とは、Ｓｉ−Ｘ基の加水分解によって、Ｓｉ−ＯＨを形成し得るような基である。
Ｘとしては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられ、含フッ素化合物の安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基およびハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。含フッ素化合物中にＸが複数存在する場合には、Ｘが同じ基でも異なる基でもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。
ｎは、１〜３の整数である。ｎが１以上であれば、得られる撥水層と基材との密着性が良好となる。ｎは、得られる撥水層と基材との密着性の点から、２または３が好ましく、３が特に好ましい。
化合物（１）としては、得られる撥水層の撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性、ならびに含フッ素化合物の合成のしやすさの点から、下記化合物（１１）または下記化合物（１２）が好ましい。
（化合物（１１））
ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１１）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐのＲＦ基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｒは、１以上の整数であり、
ｐ＋ｒ＋４（ｐ＋ｒ＋４は、式（１）におけるｐ＋ｑに該当する。）は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ、ｐ、ｐ＋ｒ＋４、Ｒ１、Ｘおよびｎの意味および好ましい態様は、化合物（１）と同様である。ｒが大きくなりすぎると、含フッ素化合物の融点が高くなり、取り扱い性が悪くなる。ｒの好ましい上限値は２４であり、１８がより好ましく、１２が特に好ましい。ｐ＋ｑ＋４が該範囲であれば、ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−基によって含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。ｐ＋ｒ＋４は、１０〜３０が好ましく、１０〜２４がより好ましく、１０〜１８がさらに好ましい。
化合物（１１）の好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
ＣＦ３ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）４−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３。
（化合物（１２））
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐのＲＦ基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−は、ａ個の−（ＣＨ２ＣＨ２）−単位、ｂ個の−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位およびｃ個の−（ＣＦ２ＣＦ２）−単位が連なった構造であって、ＲＦ側の末端が必ず−（ＣＨ２ＣＨ２）−単位または−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位となる他は、前記各単位の並び方が限定されない構造であり、
ａは、０〜１０の整数であり、
ｂは、０〜２０の整数であり、
ｃは、０〜１０の整数であり、
ａ＋ｂは、１以上の整数、ｂ＋ｃは、１以上の整数であり、
ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２（ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、式（１）におけるｐ＋ｑに該当する。）は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ、ｐ、ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２、Ｒ１、Ｘおよびｎの意味および好ましい態様は、化合物（１）と同様である。
化合物（１２）におけるｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２が１０以上であれば、ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−基によって含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２が大きくなりすぎると、含フッ素化合物の融点が高くなり、取り扱い性が悪くなる。ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、１０〜３０が好ましく、１０〜２４がより好ましく、１０〜１８が特に好ましい。
ａ＋ｂ＋ｃは１〜１３が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜７が特に好ましい。ａは０〜６が好ましく、０〜３が特に好ましい。ｂは０〜１３が好ましく、０〜４が特に好ましい。ｃは０〜１２が好ましく、０〜６が特に好ましい。
化合物（１２）としては、含フッ素化合物の合成のしやすさの点から、化合物（１２ａ）、化合物（１２ｂ）、または化合物（１２ｃ）が好ましい。
（化合物（１２ａ））
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ａ）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐのＲＦ基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｂは、１〜２０の整数であり、
ｃは、１〜１０の整数であり、
ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２（ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、式（１）におけるｐ＋ｑに該当する。）は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ、ｐ、ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２、Ｒ１、Ｘおよびｎの意味および好ましい態様は、化合物（１２）と同様である。
式（１２ａ）においては、ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２が１０以上であれば、ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−ＣＨ２ＣＨ２−基によって含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。ｂおよびｃが大きくなりすぎると、含フッ素化合物の融点が高くなり、取り扱い性が悪くなる。ｂは１〜１２が好ましく、１〜６が特に好ましい。ｃは１〜１２が好ましく、１〜６が特に好ましい。ｂ＋ｃは２〜１３が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜７が特に好ましい。ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２は１０〜３０が好ましく、１０〜２４がより好ましく、１０〜１８が特に好ましい。
化合物（１２ａ）の好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
ＣＦ３ＣＦ２−ＣＨ２ＣＦ２−（ＣＦ２ＣＦ２）２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−（ＣＦ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−（ＣＦ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＮＣＯ）３。
（化合物（１２ｂ））
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｂ）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐのＲＦ基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｂは、１〜２０の整数であり、
ｐ＋２ｂ＋２（ｐ＋２ｂ＋２は、式（１）におけるｐ＋ｑに該当する。）は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ、ｐ、ｐ＋２ｂ＋２、Ｒ１、Ｘおよびｎの意味および好ましい態様は、化合物（１２）と同様である。
式（１２ｂ）においては、ｐ＋２ｂ＋２が１０以上であれば、ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−ＣＨ２ＣＨ２−基によって含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。ただし、ｂが大きくなりすぎると、含フッ素化合物の融点が高くなり、取り扱い性が悪くなる。ｂは１〜１３が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜７が特に好ましい。ｐ＋２ｂ＋２は１０〜３０が好ましく、１０〜２４がより好ましく、１０〜１６が特に好ましい。
化合物（１２ｂ）の好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
ＣＦ３ＣＦ２−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３。
（化合物（１２ｃ））
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｃ）。
ただし、ＲＦは、炭素数ｐのＲＦ基であり、
ｐは、２〜６の整数であり、
ｄは、１〜１０の整数であり、
ｐ＋４ｄ＋２（ｐ＋４ｄ＋２は、式（１）におけるｐ＋ｑに該当する。）は、１０以上の整数であり、
Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
ｎは、１〜３の整数である。
ＲＦ、ｐ、ｐ＋４ｄ＋２、Ｒ１、Ｘおよびｎの意味および好ましい態様は、化合物（１２）と同様である。
式（１２ｃ）においては、ｐ＋４ｄ＋２が１０以上であれば、ＲＦ−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２｝ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−基によって含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の動的撥水性が良好となる。ｄが大きくなりすぎると、含フッ素化合物の融点が高くなり、取り扱い性が悪くなる。ｄは１〜７が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜４が特に好ましい。ｐ＋４ｄ＋２は１０〜３２が好ましく、１０〜２６がより好ましく、１０〜２０が特に好ましい。
化合物（１２ｃ）の好ましい具体例としては、下記化合物が挙げられる。
ＣＦ３ＣＦ２−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝３−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＮＣＯ）３。
化合物（１２ａ）〜（１２ｃ）以外の化合物としては、下記化合物が挙げられる。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＨ２）−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）２−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）２−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）２−（ＣＦ２ＣＦ２）２−（ＣＨ２ＣＦ２）２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）−（ＣＨ２ＣＦ２）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＮＣＯ）３。
＜含フッ素化合物の製造方法＞
化合物（１）の製造方法としては、以下に記載の化合物（１１）の製造方法と、化合物（１２）の製造方法とが挙げられる。
（化合物（１１）の製造方法）
まず、ペルフルオロアルキルアイオダイド（化合物（２））とα、ω−ジビニルペルフルオロアルカン（化合物（３））との付加反応によって化合物（４）を得て、次いで、化合物（４）を還元剤（たとえば、水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等）によって還元して化合物（５）を得て、次いで、化合物（５）と化合物（６）とのヒドロシリル化反応によって、化合物（１１）を得る方法である（ただし、下式中における意味は化合物（１１）における意味と同じ意味を示す）。
ＲＦ−Ｉ ・・・（２）、
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（３）、
ＲＦ−ＣＨ２ＣＨＩ−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（４）。
ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（５）。
ＨＳｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（６）、
ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１１）。
前記製造方法は、Ｙの両末端が−ＣＨ２ＣＨ２−である場合の化合物（１）の製造方法である。Ｙが他の構造である化合物は、式（３）で表される化合物の代わりに、式（３）の−（ＣＦ２）ｒ−部分が異なる他の化合物を用いて同様の反応を実施することにより製造できる。
（化合物（１２）の製造方法）
まず、化合物（２）に化合物（７ａ）〜（７ｃ）から任意に選ばれる化合物を反応させ、化合物（８）を得る。
ＲＦ−Ｉ ・・・（２）、
ＣＨ２＝ＣＨ２ ・・・（７ａ）、
ＣＨ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｂ）、
ＣＦ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｃ）、
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−Ｉ ・・・（８）。
以降の反応としては、以下の方法Ａ、および方法Ｂが挙げられる。
［方法Ａ］
化合物（８）とエチレン（化合物（７ａ））との付加反応によって、化合物（９）を得て、次に、塩基の存在下、化合物（９）の脱ヨウ化水素によって化合物（１０）を得て、化合物（１０）と化合物（６）とのヒドロシリル化反応によって、化合物（１２）を得る方法。
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｉ ・・・（９）。
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（１０）。
ＨＳｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（６）、
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２）。
［方法Ｂ］
化合物（８）とビニルシラン化合物（化合物（１３））との付加反応によって、化合物（１４）を得て、次に化合物（１４）を還元剤（たとえば、水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等。）によって還元して化合物（１２）を得る方法。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１３）、
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨＩ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１４）。
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２）。
方法Ａおよび方法Ｂは、いずれの方法を採用してもよい。ただし、化合物（８）中に−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＦ２−構造が含まれる場合には、脱ヨウ化水素反応の塩基の種類や反応条件によって脱フッ化水素反応が進行し、該構造が−ＣＦ＝ＣＨ−ＣＦ２−または−ＣＦ２−ＣＨ＝ＣＦ−に変化することがありうる。該変化は生成物の耐侯性に悪影響を与えうる。よって−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＦ２−構造を有する化合物（１２）には、方法Ｂを採用するのが好ましい。
化合物（８）中に−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＨ２−構が含まれる場合にも該構造は−ＣＦ＝ＣＨ−ＣＨ２−構造に変化しうる。しかし、該変化は塩基の種類や反応条件によって回避しやすい変化であるため、方法Ａおよび方法Ｂを用いうる。
化合物（１２）の製造方法の具体例として、以下に化合物（１２ａ）の製造方法、化合物（１２ｂ）の製造方法、および化合物（１２ｃ）の製造方法を示す。
（化合物（１２ａ）の製造方法）
まず、化合物（２）に化合物（７ｂ）を付加させて化合物（８ｂ）を得て、次に化合物（８ｂ）に化合物（７ｃ）を付加させて化合物（８ａ）を得て、次に、化合物（８ａ）と化合物（１３）との付加反応によって化合物（１４ａ）を得て、次に、化合物（１４ａ）を還元剤（たとえば、水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等）によって還元して、化合物（１２ａ）を得る方法（ただし、式中の記号は化合物（１２ａ）における意味と同じ意味を示す）。
ＲＦ−Ｉ ・・・（２）、
ＣＨ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｂ）、
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−Ｉ ・・・（８ｂ）。
ＣＦ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｃ）、
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−Ｉ ・・・（８ａ）。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１３）、
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−ＣＨ２ＣＨＩ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１４ａ）。
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ａ）。
（化合物（１２ｂ）の製造方法）
まず、化合物（２）に化合物（７ｂ）を付加させて化合物（８ｂ）を得て、次に化合物（８ｂ）と化合物（１３）とを付加反応させて化合物（１４ｂ）を得て、次に化合物（１（４ｂ）を還元剤（たとえば、水素化トリブチルスズ、トリス（トリメチルシリル）シラン等。）によって還元して化合物（１２ｂ）を得る方法（ただし、式中の記号は化合物（１２ｂ）における意味と同じ意味を示す）。
ＲＦ−Ｉ ・・・（２）、
ＣＨ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｂ）、
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−Ｉ ・・・（８ｂ）。
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１３）、
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−ＣＨ２ＣＨＩ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１４ｂ）。
ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｂ）。
（化合物（１２ｃ）の製造方法）
まず、化合物（２）に化合物（７ａ）を付加させて化合物（８ｃ）を得て、次に化合物（８ｃ）に化合物（７ａ）を１倍モル、次に化合物（７ｃ）を１倍モル、次に化合物（７ａ）を１倍モル、次に化合物（７ｃ）を１倍モル反応させる。さらに必要に応じて、化合物（７ａ）を１倍モル、次に化合物（７ｃ）を１倍モル反応させる操作を繰り返して、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２−をｄ個有する化合物（９ｃ）を得る。次に、塩基の存在下に化合物（９ｃ）の脱ヨウ化水素によって化合物（１０ｃ）を得て、次に化合物（１０ｃ）と化合物（６）とのヒドロシリル化反応によって、化合物（１２ｃ）を得る方法（ただし、式中の記号は化合物（１２ｃ）における意味と同じ意味を示す）。
ＲＦ−Ｉ ・・・（２）、
ＣＨ２＝ＣＨ２ ・・・（７ａ）、
ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｉ ・・・（８ｃ）。
ＣＦ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｃ）、
ＲＦ−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２｝ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｉ ・・・（９ｃ）。
ＲＦ−｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２｝ｄ−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（１０ｃ）。
ＨＳｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（６）、
ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｃ）。
上述した製造方法で得た本発明の含フッ素化合物は、公知の方法（蒸留等）で精製する等の方法で不純物を除いた後に用いてもよく、そのままを用いてもよい。また本発明の含フッ素化合物の混合物として得た場合は、それぞれを分離してから用いてもよく、そのまま用いてもよい。
（用途）
本発明の含フッ素化合物は、撥水撥油剤、離型剤、防汚剤、指紋除去性能付与剤、易洗浄付与剤等として用いることができ、輸送機器（自動車等）の物品（窓ガラス等）用撥水剤として好適である。
（作用効果）
本発明の含フッ素化合物は、ＲＦの炭素数が２以上であり、ＲＦ−Ｙ−基の炭素数が１０以上であり、かつＲＦ−Ｙ−基が直鎖状であるため、ＲＦ−Ｙ−基によって含フッ素化合物の結晶性が維持され、得られる撥水層の撥水性（特に動的撥水性）が良好となる。
また、加水分解性シリル基、すなわち−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ基を有するため、得られる撥水層の基材（特にガラス）との密着性が高く、得られる撥水層の耐摩耗性、耐候性が良好となる。
また、ＲＦの炭素数が６以下であり、かつＹにおけるＲＦ側の末端が−ＣＨ２−であるため、含フッ素化合物の分解生成物による環境負荷が少ない。
＜コーティング用組成物＞
本発明のコーティング用組成物は、本発明の含フッ素化合物および／または該含フッ素化合物の加水分解性基の一部または全部が加水分解縮合して生成した加水分解縮合物、溶媒とを含む。該含フッ素化合物は、そのまま用いる場合にも、加水分解縮合反応をさせる場合においても、１種を用いても、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合には、加水分解性基および／または該基以外の構造が、異なる２種以上の化合物を用いてもよい。
（加水分解縮合物）
加水分解縮合物の生成メカニズムとしては、含フッ素化合物の加水分解性シリル基（Ｓｉ−Ｘ基）の一部または全部が加水分解してシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ基）を形成した後、該シラノール基同士が脱水縮合してオリゴマー（多量体）となることにより生成すると考えられている。加水分解縮合反応は、溶媒中において、触媒（酸触媒、アルカリ触媒等）および水の存在下に実施するのが好ましい。加水分解縮合物には、未反応の含フッ素化合物が含まれていてもよい。ただし、加水分解縮合物が進みすぎると、溶媒に溶解しにくくなるため、ある程度の縮合度とする必要がある。
加水分解縮合物反応は、加熱して反応を促進してもよい。ただし、反応が進みすぎると、縮合度が上がりすぎ、溶媒不溶性の生成物が生成する場合がある。適当な量の触媒が存在する限り、常温で反応させることが好ましい。
得られた加水分解縮合物の溶液を、そのまま本発明のコーティング用組成物として用いてもよい。
加水分解縮合に用いる溶媒は、本発明の含フッ素化合物およびその加水分解縮合物を溶解するものが好ましく、有機溶媒が特に好ましい。有機溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類、パラフィン系炭化水素類、含フッ素有機溶媒（ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ポリフルオロアルコール等）が好ましく、コストの点からは、含フッ素有機溶媒以外の有機溶媒が好ましい。特に、コストと取り扱いの点でヘプタン、酢酸ブチルが好ましい。有機溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。
アルカリ触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
加水分解縮合物反応は、
本発明の含フッ素化合物を有機溶媒に溶解し、触媒および水を別々に、または触媒の水溶液を添加する方法、または、
本発明の含フッ素化合物を、水を含む有機溶媒に溶解または混合した溶液に、触媒または触媒の水溶液を添加する方法、
等により実施するのが好ましい。
加水分解縮合物の製造に用いる触媒の量は、含フッ素化合物の１質量部に対して０．０００１〜１質量部が好ましく、０．００１〜０．１質量部が特に好ましい。触媒の量が該範囲であると、加水分解効果が充分に発現し、かつ該組成物が安定性に優れる。
加水分解縮合物の製造に用いる水の量は、含フッ素化合物の１質量部に対して０．００００１〜０．１質量部が好ましく、０．０００１〜０．０１質量部が特に好ましい。水の量が該範囲であると、加水分解効果が充分に発現し、かつ該組成物が安定性に優れる。
（溶媒）
本発明のコーティング用組成物は、経済性、作業性、得られる撥水層の厚さの制御のしやすさ等の点から、溶媒を含むのが好ましい。溶媒としては、加水分解縮合物の製造に用いる溶媒として挙げられた有機溶媒が好ましい。
該有機溶媒としては、別途添加してもよく、加水分解縮合物を含む場合には、加水分解縮合物の製造に用いた溶媒を含んでもよい。加水分解縮合物の製造に用いた溶媒であってもよい。
（他の成分）
本発明のコーティング用組成物は、含フッ素化合物の加水分解および縮合を促進させるために、触媒を含んでもよい。該触媒としては、触媒としては酸触媒が好ましい。触媒を含むことによって、水滴除去性、耐久性の良好な撥水層を形成できる。
本発明のコーティング用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意成分として添加剤を含んでもよい。添加剤としては、非フッ素系撥水性材料（片末端反応性ポリジメチルシロキサン、両末端反応性ポリジメチルシロキサン等）、金属酸化物の超微粒子（シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等）、着色用材料（染料、顔料等）、防汚性材料、硬化触媒、各種樹脂等が挙げられる。添加剤は、必須成分との反応性または相溶性等を考慮して選択するのが好ましい。
（各成分の割合）
本発明の含フッ素化合物および加水分解縮合物の総量は、コーティング用組成物の全質量に対して、０．１〜５０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が特に好ましい。含フッ素化合物および加水分解縮合物の総量が上記範囲の下限値以上であれば、得られる撥水層にムラが発生しにくい。上記範囲の上限値以下であれば、貯蔵安定性に優れる。
添加剤の量は、コーティング用組成物の固形分（有機溶媒等の揮発成分を除いた成分）の１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部が好ましい。コーティング用組成物への機能性添加剤の過剰な添加は、得られる撥水層の水滴除去性等の性能の低下を招くおそれがある。
（用途）
本発明のコーティング用組成物は、撥水撥油剤用組成物、離型剤用組成物、防汚剤用組成物、指紋除去性能付与剤用組成物、易洗浄付与剤用組成物等として用いることができる。また本発明の撥水層付き基材を塔載した輸送機器を提供する。たとえば、撥水層付き基材を自動車等の窓ガラス等として搭載した自動車等が提供されうる。
（作用効果）
以上説明した本発明のコーティング用組成物にあっては、本発明の含フッ素化合物および／またはその加水分解縮合物を含むため、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有する撥水層を形成でき、かつ環境負荷が少ない。
＜撥水層付き基材＞
本発明の撥水層付き基材は、基材と、該基材の表面にコーティング用組成物から形成された撥水層とを有する。撥水層が最外層に存在するのが好ましい。基材の表面と撥水層とは、直接接していても、他の層を介して接していてもよい。他の層については、後述する。
（基材）
基材は、撥水性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料としては、金属、プラスチック、ガラス、セラミック、これらの組み合わせ（複合材料、積層材料等）等が挙げられる。
基材としては、透明性の点から、可視光を通す透光性基材（ガラス等）が好ましい。本発明のコーティング用組成物を用いて形成された撥水層は高い動的撥水性、耐摩耗性、耐侯性を有することから、輸送機器（電車、自動車、船舶、航空機等）用の窓ガラスが特に好ましい。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げられ、ソーダライムガラスが特に好ましい。
基材は、平板でもよく、全面または一部が曲率を有していてもよい。
基材の厚さは、撥水層付き基材の用途により適宜選択すればよく、通常、１〜１０ｍｍである。
基材としては、目的に応じて、その表面に酸処理（希釈したフッ酸、硫酸、塩酸等を用いた処理）、アルカリ処理（水酸化ナトリウム水溶液等を用いた処理）、放電処理（プラズマ照射、コロナ照射、電子線照射等）等が施されたものを用いてもよい。
基材は、その表面に蒸着膜、スパッタ膜、湿式法等により形成された各種の膜が設けられたものでもよい。基材がソーダライムガラスである場合、ナトリウムイオンの溶出を防止する膜を設けることが耐久性の点で好ましい。
（撥水層）
撥水層は、基材の表面の少なくとも一部を覆うように形成される。撥水層は、基材の表面に直接形成されていてもよく、基材の表面に形成された他の層の表面に形成されていてもよい。いずれにしても、撥水層は、本発明の撥水層付き基材の最外層に形成される。
基材がフロート法で製造されたガラスである場合、表面におけるスズ量の少ないトップ面に撥水層を設けることが耐久性の点で好ましい。
撥水層の厚さは、動的撥水性（水滴除去性）と耐久性（耐摩耗性、耐候性等）が両立できるような厚さであればよく、２〜３０ｎｍが好ましく、５〜２０ｎｍが特に好ましい。撥水層の厚さは、コーティング組成物の濃度、塗布条件、加熱条件等によって適宜制御しうる。
（他の層）
他の層としては、シリカを主体とする中間層が好ましい。中間層を設けることにより、撥水層と基材との密着性が増し、また撥水層全体としての緻密性が高まって、耐久性（耐摩耗性、耐候性等）を向上できる。
中間層は、具体的には、シリカ前駆体を含む中間層形成用組成物を用いて形成される層である。
シリカ前駆体としては、化合物（２０）、その加水分解縮合物、およびペルヒドロポリシラザンから選ばれる化合物が挙げられる。
Ｓｉ（Ｘ１）（Ｘ２）（Ｘ３）（Ｘ４） ・・・（２０）。
ただし、Ｘ１〜Ｘ４は、それぞれハロゲン原子、アルコキシ基またはイソシアネート基である。Ｘ１〜Ｘ４は、それぞれ塩素原子、炭素数１〜４のアルコキシ基またはイソシアネート基が好ましく、Ｘ１〜Ｘ４がすべて同一であることがより好ましい。
化合物（２０）としては、具体的には、Ｓｉ（ＮＣＯ）４、Ｓｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４等が好ましく用いられる。
また、化合物（２０）の加水分解縮合物は、本発明の含フッ素化合物の加水分解縮合物の製造において説明したのと同様の方法で得ることができる。
化合物（２０）やその加水分解縮合物として、市販品を用いてもよい。
化合物（２０）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ペルヒドロポリシラザンは、−ＳｉＨ２−ＮＨ−ＳｉＨ２−で表される構造を有する線状または環状のオリゴマーである。ペルヒドロポリシラザンの１分子あたりのケイ素原子の数は、２〜５００が好ましい。
ペルヒドロポリシラザンとして、市販品を用いてもよい。
中間層形成用組成物は、化合物（２０）および／またはその加水分解縮合物と、本発明の含フッ素化合物および／またはその加水分解縮合物との加水分解共縮合物を含んでいてもよい（必要に応じて、化合物（２０）および／または本発明の含フッ素化合物をさらに含んでもよい）。
中間層形成用組成物は、経済性、作業性、中間層の厚さ制御のしやすさ等の点から、通常、有機溶媒を含む。有機溶媒としては、コーティング用組成物に用いる有機溶媒として挙げられた有機溶媒が好ましい。
中間層形成用組成物（１００質量％）中のシリカ前駆体の割合は、コーティング用組成物の場合と同様とすることができる。
中間層の厚さは、特に限定されないが、厚すぎると損傷が目立ちやすくなるため、５０ｎｍ以下が好ましい。中間層の厚さの下限は、単分子層の厚さである。中間層の厚さは、中間層形成用組成物の濃度、塗布条件、加熱条件等によって適宜制御し得る。
撥水層と他の層（中間層等）との合計の厚さは、撥水層の機能の維持、すなわち動的撥水性（水滴除去性）と耐久性（耐摩耗性、耐候性等）の両立、および経済性の点から、２〜１００ｎｍが好ましく、５〜２０ｎｍが特に好ましい。
（輸送機器用物品）
本発明の撥水層付き基材は、輸送機器用物品の用途に好適に用いられる。輸送機器用物品とは、輸送機器（電車、自動車、船舶、航空機等）におけるボディー、窓ガラス（フロントガラス、サイドガラス、リアガラス）、ミラー、バンパ等が挙げられる。
本発明の撥水層付き基材からなる輸送機器用物品は、最外層の撥水層が優れた水滴除去性を有するため、表面への水滴の付着が少なく、付着した水滴がすみやかにはじかれる。加えて、輸送機器の運行に伴う風圧との相互作用により、付着した水滴は表面を急速に移動し、水滴として溜ることはない。このため、水滴が誘発する悪影響を排除できる。また、撥水層は、耐摩耗性および耐候性にも優れるため、たとえば、輸送機器用物品としての屋外での使用を含む各種使用条件下での長期使用においても、水滴除去性を維持できる。
本発明の撥水層付き基材からなる輸送機器用物品は、特に、各種窓ガラス等の透視野部での用途において、水滴の飛散により視野の確保が非常に容易となり、輸送機器の運行において安全性を向上できる。また、水滴が氷結するような環境下でも氷結しにくく、氷結したとしても解凍は著しく速い。さらに、水滴の付着がほとんどないため、清浄の作業回数を少なくでき、しかも清浄作業を容易に行うことができる。
（撥水層付き基材の製造方法）
本発明の撥水層付き基材の製造方法は、本発明のコーティング用組成物を、基材の表面、または基材の表面の形成された他の層の表面に塗布し、硬化させて撥水層を形成する方法である。
塗布方法としては、はけ塗り、流し塗り、回転塗布、浸漬塗布、スキージ塗布、スプレー塗布、手塗り、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法（浸漬法）、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、真空蒸着法等が挙げられる。材料の飛散など、材料の利用効率を損なう要因がなく、材料の無駄が生じがたい点からスキージ塗布が好ましい。
硬化方法としては、空気中または窒素ガス中において、必要に応じて予備乾燥した後、硬化させる方法が挙げられる。予備乾燥することで、コーティング用組成物の溶媒を除去しやすい。
硬化条件は、コーティング用組成物の種類、濃度等により適宜制御される。好ましい硬化条件としては、温度：２０〜５０℃、湿度：５０〜９０％ＲＨが挙げられる。
硬化時間は、コーティング用組成物の種類、濃度、硬化条件等によるが、おおむね１〜７２時間が好ましい。
硬化後に、撥水層の表面に余剰成分が発生し外観品質を損う場合があるが、撥水層の表面を溶媒で拭きとる、撥水層の表面を空拭きする等によって、余剰成分を除去し外観を調節すればよい。
硬化後の撥水層を、さらに基材に付着させるために、さらに加熱処理してもよい。加熱温度は、通常、５０〜３００℃である。加熱時間は、通常、１〜１２０分である。
（作用効果）
以上説明した本発明の撥水層付き基材にあっては、本発明のコーティング用組成物を用いて形成された撥水層を有するため、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有する。
また、本発明の撥水層付き基材の製造方法にあっては、本発明のコーティング用組成物を、基材の表面、または基材の表面の形成された他の層の表面に塗布して撥水層を形成する方法であるため、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない撥水層付き基材を製造できる。
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
例１〜１０、１４〜１８は実施例であり、例１１、１９は比較例であり、例１２、２０は参考例であり、例１３は調製例である。
＜含フッ素化合物＞
〔例１〕
密閉式耐圧反応器（１００ｍＬ、ＳＵＳ製）に、化合物（２−１）の３０．０ｇおよび化合物（３−１）の９２．１ｇを投入して撹拌した。次いで、反応器を２００℃の油浴に入れ、２０時間撹拌した。得られた反応粗液から原料を単蒸留によって除去し、化合物（４−１）を含む混合物の５０．０ｇを得た。ＧＣ（ガスクロマトグラフィ）による純度は４０％であり、収率は３３％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−Ｉ ・・・（２−１）、
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＦ２）６−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（３−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨＩ−（ＣＦ２）６−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（４−１）。
撹拌機、滴下ロートを備えた反応器（内容積１００ｍＬ、ガラス製）に、化合物（４−１）を含む混合物の５０．０ｇを投入して撹拌し、油浴にて反応器の内温が８０℃になるように加熱した。次いで、反応器の内温が８０〜８５℃になるようにして、水素化トリブチルスズの１６．６ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した。得られた反応粗液を単蒸留（沸点／５ｈＰａ〜１００℃／５ｈＰａ）し、さらに留出物と、活性炭の０．５ｇおよびトリデカフルオロヘキシルエタン（旭硝子社製、ＡＣ−６０００）の２０ｍＬとを混合し、固体をろ別した。次いで、ろ液の溶媒を留去することによって、１０．２ｇの化合物（５−１）（無色透明液体）を得た。収率は６２％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（５−１）。
化合物（５−１）の１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、基準：ＴＭＳ）および１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、基準：ＣＦＣｌ３）の測定結果を以下に示す。なお、各測定値は、測定値に続く（）内に示す基に由来する測定値を意味するが、この基に［］で囲まれた部分がある場合は、測定値は［］で囲まれた部分に由来する測定値を意味するものである。以下、実施例で示すＮＭＲの測定結果については、全て同様である。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４１（４Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ２−）、５．８１（１Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ＝）、５．９９（２Ｈ、ｍ、＝ＣＨ２）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．５（３Ｆ、ＣＦ３−）、−１１４．３（２Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ＝）、−１１５．２〜−１１５．５（４Ｆ、−ＣＨ２ＣＦ２−）、−１２２．１〜−１２４．８（１０Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＦ２−、−１２６．５（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
撹拌機、ジムロートを備えた反応器（内容積５０ｍＬ）に、化合物（５−１）の１０．０ｇ、化合物（６−１）の７．０９ｇ、白金触媒（白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体）の２質量％キシレン溶液の０．１１ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２０ｇを投入し、撹拌した。次いで、反応器を６０℃の油浴に入れ、１２時間撹拌した。反応粗液を単蒸留（沸点〜１１０℃／５ｈＰａ）することによって１０．９ｇの化合物（１１−１）（白色固体、融点：５８℃（ＤＳＣ））を得た。収率は８８％であった。
ＨＳｉＣｌ３ ・・・（６−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３ ・・・（１１−１）。
化合物（１１−１）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６６（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ２Ｓｉ−）、２．２〜２．５（６Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ２−）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．６（３Ｆ、ＣＦ３−）、−１１５．３〜−１１６．１（６Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ２−）、−１２２．３〜−１２４．９（１０Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＦ２−、−１２６．６（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
〔例２〕
密閉式耐圧反応器（１００ｍＬ、ＳＵＳ製）に、化合物（２−２）の４０．０ｇおよび化合物（３−１）の９５．３ｇを投入して撹拌した。次いで、反応器を２００℃の油浴に入れ、２０時間撹拌した。得られた反応粗液から原料を単蒸留によって除去し、化合物（４−２）を含む混合物の９０．１ｇを得た。ＧＣ（ガスクロマトグラフィ）による純度は２５％であり、収率は３１％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）５−Ｉ ・・・（２−２）、
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＦ２）６−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（３−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＣＨＩ−（ＣＦ２）６−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（４−２）。
撹拌機、滴下ロートを備えた反応器（内容積１００ｍＬ、ガラス製）に、化合物（４−２）を含む混合物の９０．１ｇを投入して撹拌し、油浴にて反応器の内温が８０℃になるように加熱した。次いで、反応器の内温が８０〜８５℃になるようにして、水素化トリブチルスズの１６．４ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した。得られた反応粗液を単蒸留（沸点／３ｈＰａ〜１０４℃／３ｈＰａ）し、さらに留出物と、活性炭の０．５ｇおよびＡＣ−６０００の３０ｍＬとを混合し、固体をろ別した。次いで、ろ液の溶媒を留去することによって、１４．２ｇの化合物（５−２）（無色透明液体）を得た。収率は６２％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ＝ＣＨ２ ・・・（５−２）。
化合物（５−２）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４１（４Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ２−）、５．８１（１Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ＝）、５．９８（２Ｈ、ｍ、＝ＣＨ２）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．３（３Ｆ、ＣＦ３−）、−１１４．４（２Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ＝）、−１１５．２（４Ｆ、−ＣＨ２ＣＦ２−）、−１２２．０〜−１２４．２（１４Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＦ２−、−１２６．６（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
撹拌機、ジムロートを備えた反応器（内容積５０ｍＬ）に、化合物（５−２）の９．１２ｇ、化合物（６−１）の２．７５ｇ、白金触媒（白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体）の２質量％キシレン溶液の０．０９ｇおよび１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２７ｇを投入して撹拌した。次いで、反応器を６０℃の油浴に入れ、１２時間撹拌した。反応粗液を単蒸留（沸点／３ｈＰａ〜１１８℃／３ｈＰａ）することによって７．１０ｇの化合物（１１−２）（白色固体、融点：７８℃（ＤＳＣ））を得た。収率は６３％であった。
ＨＳｉＣｌ３ ・・・（６−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）６−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３ ・・・（１１−２）。
化合物（１１−２）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６７（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ２Ｓｉ−）、２．２〜２．５（６Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ２−）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．３（３Ｆ、ＣＦ３−）、−１１５．２〜−１１６．１（６Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ２−）、−１２２．３〜−１２３．９（１４Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＦ２−、−１２６．６（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
〔例３〕
耐圧反応器（１Ｌ、ＳＵＳ製）に、化合物（２−１）の７００ｇとジ（ｔ−ブチル）ペルオキシドの４．３８ｇとを投入し、油浴にて反応器の内温が１１５℃になるように加熱した。次いで、化合物（７ｂ）を反応器の内圧が０．７ＭＰａになるように導入し続け、導入量が２６０ｇになったところで化合物（７ｂ）の導入を停止した。その後、反応器の内圧が０ＭＰａになったところで反応を停止した。反応粗液を蒸留することにより、３９８．０ｇの化合物（８ｂ−１）（無色透明液体、沸点：５４℃／６６ｈＰａ）、２６８．９ｇの化合物（８ｂ−２）（無色透明液体、沸点：９２℃／６６ｈＰａ）、および８７．１ｇの化合物（８ｂ−３）（無色透明液体、沸点：１１４℃／４０ｈＰａ）を得た。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−Ｉ ・・・（２−１）、
ＣＨ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｂ）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−Ｉ ・・・（８ｂ−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）２−Ｉ ・・・（８ｂ−２）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−Ｉ ・・・（８ｂ−３）。
耐圧反応器（２００ｍＬ、ＳＵＳ製）に、化合物（８ｂ−１）の１５０ｇとジ（ｎ−プロピル）ペルオキシジカーボネートの０．３８ｇとを投入し、油浴にて反応器の内温が５５℃になるように加熱した。次いで、化合物（７ｃ）を反応器の内圧が０．７ＭＰａになるように導入し続け、導入量が５１ｇになったところで化合物（７ｃ）の導入を停止した。その後、反応器の内圧が０．０ＭＰａになったところで反応を停止した。反応粗液を蒸留することにより、５４．１ｇの化合物（８ａ−１）（無色透明液体、沸点：５５℃／４０ｈＰａ）、および４１．３ｇの化合物（８ａ−２）（無色透明液体、沸点：８１℃／１６ｈＰａ）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦ２ ・・・（７ｃ）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−Ｉ ・・・（８ａ−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−（ＣＦ２ＣＦ２）２−Ｉ ・・・（８ａ−２）。
攪拌機、ジムロートを備えた反応器（５０ｍＬ、ガラス製）に、化合物（８ａ−１）の１５．０ｇ、化合物（１３−１）の５．０ｇ、Ｎ，Ｎ’−アゾビスイソブチロニトリルの０．２４ｇ、およびＡＣ−６０００の１５ｇを投入し、反応器の内温が７０℃になるように加熱した。５時間攪拌した後、未反応の化合物（１３−１）とＡＣ−６０００とを留去することにより、化合物（１４ａ−１）を含む混合物の１９．１ｇを得た。ＧＣ（ガスクロマトグラフィ）による純度は４９％であり、収率は４８％であった。
ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３ ・・・（１３−１）、
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨＩ−ＳｉＣｌ３ ・・・（１４ａ−１）。
上記反応粗液を含む反応器のジムロートを滴下ロートに変え、油浴にて反応器の内温が８０℃になるように加熱した。次いで、反応器の内温が８０〜８５℃になるようにして、水素化トリブチルスズの８．９８ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した。得られた反応粗液を単蒸留（沸点／５ｈＰａ〜７０℃／５ｈＰａ）することによって６．５ｇの化合物（１２ａ−１）（無色透明液体）を得た。収率は８３％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３ ・・・（１２ａ−１）。
化合物（１２ａ−１）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．６７（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ２Ｓｉ−）、２．３４（２Ｈ、ｍ、−ＣＦ２［ＣＨ２］ＣＨ２−）、２．９２（２Ｈ、ｑｕｉ、−ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２−）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．５（３Ｆ、ＣＦ３−）、−１１２．２〜−１１５．２（６Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ２−）、−１２４．６〜−１２５．８（４Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＦ２−、−１２６．３（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
〔例４〕
攪拌機、ジムロートを備えた反応器（５０ｍＬ、ガラス製）に、前記例３で得られた化合物（８ａ−２）の１４．０ｇ、化合物（１３−２）の３．５７ｇ、Ｎ，Ｎ’−アゾビスイソブチロニトリルの０．１８ｇ、およびＡＣ−６０００を投入し、反応器の内温が７０℃になるように加熱した。１２時間攪拌した後、未反応の化合物（１３−２）とＡＣ−６０００とを留去することにより、化合物（１４ａ−２）を含む混合物の１６．６ｇを得た。ＧＣによる純度は９５％であり、収率は９５％であった。
ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３ ・・・（１３−２）。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−（ＣＦ２ＣＦ２）２−ＣＨ２ＣＨＩ−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ ・・・（１４ａ−２）。
上記反応粗液を含む反応器のジムロートを滴下ロートに変え、油浴にて反応器の内温が８０℃になるように加熱した。次いで、反応器の内温が８０〜８５℃になるようにして、水素化トリブチルスズの６．６９ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した。得られた反応粗液を単蒸留（沸点／５ｈＰａ〜９３℃／５ｈＰａ）することによって１３．３ｇの化合物（１２ａ−２）（無色透明液体）を得た。収率は９６％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＦ２−（ＣＦ２ＣＦ２）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ ・・・（１２ａ−２）。
化合物（１２ａ−２）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．８５（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ２Ｓｉ−）、２．１４（２Ｈ、ｍ、−ＣＦ２［ＣＨ２］ＣＨ２−）、２．９１（２Ｈ、ｑｕｉ、−ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２−）、３．５９（９Ｈ、ｓ、−ＯＣＨ３）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．５（３Ｆ、ＣＦ３−）、−１１２．６（４Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２−）、−１１７．１（２Ｆ、−ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−）、−１２１．９〜−１２４．５（８Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＦ２−、−１２６．３（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
〔例５〕
攪拌機、ジムロートを備えた反応器（５０ｍＬ、ガラス製）に、前記例３で得られた化合物（８ｂ−３）の２０．０ｇ、化合物（１３−２）の９．００ｇ、Ｎ，Ｎ’−アゾビスイソブチロニトリルの０．１８ｇ、およびＡＣ−６０００の２０ｇを投入し、反応器の内温が７０℃になるように加熱した。１２時間攪拌した後、未反応の原料とＡＣ−６０００とを留去することにより、化合物（１４ｂ−１）を含む混合物の２６．１ｇを得た。ＧＣによる純度は８０％であり、収率は８２％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨＩ−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ ・・・（１４ｂ−１）。
上記反応粗液を含む反応器のジムロートを滴下ロートに変え、油浴にて反応器の内温が８０℃になるように加熱した。次いで、反応器の内温が８０〜８５℃になるようにして、水素化トリブチルスズの１１．４ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した。得られた反応粗液を単蒸留（沸点／５ｈＰａ〜９６℃／５ｈＰａ）することによって１３．９ｇの化合物（１２ｂ−１）（無色透明液体）を得た。収率は６４％であった。
ＣＦ３（ＣＦ２）３−（ＣＨ２ＣＦ２）３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ ・・・（１２ｂ−１）。
化合物（１２ｂ−１）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：０．７９（２Ｈ、ｍ、−ＣＨ２Ｓｉ−）、１．９８（２Ｈ、ｍ、−ＣＦ２［ＣＨ２］ＣＨ２−）、２．５−３．０（６Ｈ、ｍ、−ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２−）、３．５８（９Ｈ、ｓ、−ＯＣＨ３）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−８１．５（３Ｆ、ＣＦ３−）、−８８．５〜−９７．６（６Ｆ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ２−）、−１１３．２（２Ｆ、−ＣＦ２［ＣＦ２］ＣＨ２−）、−１２４．９（２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ２［ＣＦ２］−）、−１２６．３（２Ｆ、ＣＦ３［ＣＦ２］−）。
＜コーティング用組成物＞
〔例６〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、ヘプタン（純正化学社製）の２．２２ｇ、酢酸ブチル（純正化学社製）の２．２２ｇ、化合物（１１−１）の０．５７ｇを入れ、２５℃にて３０分間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−１）を得た。
〔例７〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、ヘプタンの３．４８ｇ、酢酸ブチルの０．８７ｇ、化合物（１１−２）の０．６５ｇを入れ、２５℃にて３０分間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−２）を得た。
〔例８〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、ヘプタンの０．９１ｇ、酢酸ブチルを０．９１ｇ、化合物（１２ａ−１）の０．１８ｇを入れ、２５℃にて３０分間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−３）を得た。
〔例９〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、イソプロパノールの４．３３ｇ、１．０質量％硝酸水溶液を０．１３ｇ、化合物（１２ａ−２）の０．５４ｇを入れ、２５℃にて３時間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−４）を得た。
〔例１０〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、イソプロパノールの４．３７ｇ、１．０質量％硝酸水溶液の０．１３ｇ、化合物（１２ｂ−１）の０．５０ｇを入れ、２５℃にて３時間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−５）を得た。
〔例１１〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、ヘプタンの２．３１ｇ、酢酸ブチルの２．３１ｇ、化合物（２１）（ゲレスト社製）の０．３９ｇを入れ、２５℃にて３０分間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−６）を得た。
ＣＦ３（ＣＦ２）５−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３ ・・・（２１）。
〔例１２〕
撹拌機がセットされたガラス容器に、ヘプタンの３．６３ｇ、酢酸ブチルの０．９１ｇ、化合物（２２）（ゲレスト社製）の０．４７ｇを入れ、２５℃にて３０分間撹拌し、コーティング用組成物（Ｊ−７）を得た。
ＣＦ３（ＣＦ２）７−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＣｌ３ ・・・（２２）。
＜中間層形成用組成物＞
〔例１３〕
撹拌機、温度計がセットされたガラス容器に、酢酸ブチル（純正化学社製）の９．７０ｇ、化合物（２０−１）（松本製薬工業社製、ＳＩ−４００）の０．３０ｇを入れ、２５℃にて３０分間撹拌し、中間層形成用組成物を得た。
Ｓｉ（ＮＣＯ）４ ・・・（２０−１）。
＜撥水層付き基材＞
撥水層付き基材の評価は、以下のように行った。
（水滴除去性）
水滴除去性は、下記の方法で測定した水接触角（ＣＡ）および水転落角（ＳＡ）の値で評価した。まず、下記の各試験（耐摩耗性、耐アルカリ性、耐候性）を行う前に水接触角および水転落角の初期値を測定し、各試験後にも水接触角および水転落角を測定した。
水接触角が９０°以上かつ水転落角が２０°以下であれば、実用に充分に耐え得る水滴除去性を有するといえる。
（水接触角）
撥水層付き基材の撥水層の表面に置いた、直径１ｍｍの水滴の接触角をＣＡ−Ｘ１５０（協和界面科学社製）を用いて測定した。撥水層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。
（水転落角）
水平に保持した撥水層付き基材の撥水層の表面に５０μＬの水滴を滴下した後、基材を徐々に傾け、水滴が転落しはじめたときの撥水層付き基材と水平面との角度（転落角）をＳＡ−１１（協和界面科学社製）を用いて測定した。
（耐摩耗性）
ＪＩＳ Ｌ ０８４９に準拠して下記試験機を用いて下記試験条件で耐布摩耗性試験を行い、上記方法により水接触角および水転落角を測定した。
試験機：往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）、
試験条件：綿布（ＪＩＳ Ｌ ０８０３に準拠）、荷重１ｋｇ、摩耗回数３，０００往復。
（耐アルカリ性）
撥水層付き基材をｐＨ１１の水酸化ナトリウム水溶液に２時間浸漬した。基材を水洗、乾燥した後、上記方法により水接触角および水転落角を測定した。
（耐候性）
〔屋外暴露試験〕
ＪＩＳ Ｚ ２３８１に準拠して屋外暴露試験を行った。すなわち、撥水層付き基材を、撥水層の表面が水平に対して３０°の角度で南向きになるよう屋外に設置し、試験開始から３ヶ月後、上記方法により水接触角を測定した。
〔ＳＷＯＭ試験〕
ＪＩＳ Ｄ ０２０５に準拠してＳＷＯＭ試験を行った。すなわち、撥水層付き基材の撥水層の表面に対し、紫外線を１，５００時間照射した後、上記方法により水接触角を測定した。
（水滴除去性の耐久性評価）
上記各試験（耐摩耗性、耐アルカリ性、耐候性）の４試験について、試験後における水接触角のすべてが９０°以上である場合を合格「○（良好）」、それ以外を不合格「×（不良）」とした。
〔例１４〕
基材として、酸化セリウムで表面を研磨洗浄し、乾燥した清浄なソーダライムガラス板（水接触角：５°、３００ｍｍ×３００ｍｍ×厚さ３ｍｍ）を用意した。
該ガラス板の表面に、中間層形成用組成物の２ｇをスキージコート法によって塗布して、２５℃で１分間保持し、中間層を形成した。
次いで、中間層の表面に、コーティング用組成物（Ｊ−１）の２ｇをスキージコート法によって塗布して、５０℃、６０％ＲＨに設定された恒温恒湿槽で４８時間保持して撥水層を形成し、撥水層付き基材を得た。評価結果を表１に示す。
〔例１５〜２０〕
コーティング用組成物（Ｊ−１）を、コーティング用組成物（Ｊ−２）〜（Ｊ−７）に変更した以外は、例１４と同様にして撥水層付き基材を得た。評価結果を表１に示す。
Figure 2014040373
表中、評価結果における「−」は、水接触角が低いことによる測定不能を意味する。
表１の結果から、例６〜１０で得られた本発明のコーティング用組成物を用いて形成された撥水層を有する例１４〜１８の撥水層付き基材については、いずれも初期および各試験後においても水滴除去性に優れることがわかる。一方、例１１で得られた比較例のコーティング用組成物を用いて形成された撥水層を有する例１９の撥水層付き基材については、初期の水滴除去性には問題はないが、耐摩耗性試験後の水滴除去性に問題があることがわかる。また、例１２で得られた参考例のコーティング用組成物を用いて形成された撥水層を有する例２０の撥水層付き基材については、例１４〜１８と同等の性能であった。言い換えると、本発明の含フッ素化合物を含むコーティング用組成物を用いれば、優れた水滴除去性を基材に付与することが可能であり、さらにその耐久性も充分でありながら、環境に与える負荷は低いといえる。
本発明の含フッ素化合物は、充分な撥水性（特に動的撥水性）、耐摩耗性および耐候性を有し、かつ環境負荷が少ない撥水層を形成するための材料として有用であり、本発明の撥水層を有する基材は、輸送機器（電車、自動車、船舶、航空機等）用物品（窓ガラス等）として有用である。

Claims (11)

  1. 下式（１）で表される含フッ素化合物。
    ＲＦ−Ｙ−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１）。
    ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
    Ｙは、ＲＦ側の末端が−ＣＨ２−である炭素数ｑの直鎖状のフルオロアルキレン基または該基の炭素−炭素結合間にエーテル性酸素原子が挿入された基であり、
    ｐは、２〜６の整数であり、
    ｑは、４以上の整数であり、
    ｐ＋ｑは、１０以上の整数であり、
    Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
    Ｘは、加水分解性基であり、
    ｎは、１〜３の整数である。
  2. 下式（１１）または下式（１２）で表される含フッ素化合物。
    ＲＦ−ＣＨ２ＣＨ２−（ＣＦ２）ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１１）。
    ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
    ｐは、２〜６の整数であり、
    ｒは、１以上の整数であり、
    ｐ＋ｒ＋４は、１０以上の整数であり、
    Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
    Ｘは、加水分解性基であり、
    ｎは、１〜３の整数である。
    ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２）。
    ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
    ｐは、２〜６の整数であり、
    −｛（ＣＨ２ＣＨ２）ａ・（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ・（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ｝−は、ａ個の−（ＣＨ２ＣＨ２）−単位、ｂ個の−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位およびｃ個の−（ＣＦ２ＣＦ２）−単位が連なった構造であって、ＲＦ側の末端が必ず−（ＣＨ２ＣＨ２）−単位または−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位となる他は、前記各単位の並び方が限定されない構造であり、
    ａは、０〜１０の整数であり、
    ｂは、０〜２０の整数であり、
    ｃは、０〜１０の整数であり、
    ａ＋ｂは、１以上の整数、ｂ＋ｃは、１以上の整数であり、
    ｐ＋２ａ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、１０以上の整数であり、
    Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
    Ｘは、加水分解性基であり、
    ｎは、１〜３の整数である。
  3. 下式（１２ａ）、下式（１２ｂ）、および下式（１２ｃ）のいずれかで表される含フッ素化合物。
    ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ａ）。
    ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
    ｐは、２〜６の整数であり、
    −（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−は、ｂ個の−（ＣＨ２ＣＦ２）−単位とｃ個の−（ＣＦ２ＣＦ２）−単位が、記載された順序で連なった構造であり、
    ｂは、１〜２０の整数であり、
    ｃは、１〜１０の整数であり、
    ｐ＋２ｂ＋２ｃ＋２は、１０以上の整数であり、
    Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
    Ｘは、加水分解性基であり、
    ｎは、１〜３の整数である。
    ＲＦ−（ＣＨ２ＣＦ２）ｂ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｂ）。
    ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
    ｐは、２〜６の整数であり、
    ｂは、１〜２０の整数であり、
    ｐ＋２ｂ＋２は、１０以上の整数であり、
    Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
    Ｘは、加水分解性基であり、
    ｎは、１〜３の整数である。
    ＲＦ−｛（ＣＨ２ＣＨ２）−（ＣＦ２ＣＦ２）｝ｄ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ１）３−ｎ（Ｘ）ｎ ・・・（１２ｃ）。
    ただし、ＲＦは、炭素数ｐの直鎖状のペルフルオロアルキル基であり、
    ｐは、２〜６の整数であり、
    ｄは、１〜１０の整数であり、
    ｐ＋４ｄ＋２は、１０以上の整数であり、
    Ｒ１は、１価の炭化水素基であり、
    Ｘは、加水分解性基であり、
    ｎは、１〜３の整数である。
  4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素化合物および／または該含フッ素化合物の加水分解性基の一部または全部が脱水縮合して生成した加水分解縮合物と、
    溶媒と
    を含む、コーティング用組成物。
  5. 前記含フッ素化合物および前記加水分解縮合物の総量が、前記コーティング用組成物の全質量中、０．１〜５０質量％である、請求項４に記載のコーティング用組成物。
  6. 前記溶媒が、有機溶媒である、請求項４または５に記載のコーティング用組成物。
  7. 撥水撥油剤用組成物である、請求項４〜６のいずれか一項に記載のコーティング用組成物。
  8. 基材と、該基材の表面に請求項４〜７のいずれか一項に記載のコーティング用組成物から形成された撥水層とを有する、撥水層付き基材。
  9. 前記基材が、透光性基材である、請求項８に記載の撥水層付き基材。
  10. 請求項９に記載の撥水層付き基材が塔載された輸送機器用物品。
  11. 請求項４〜７のいずれか一項に記載のコーティング用組成物を、基材の表面に塗布して撥水層を形成する、撥水層付き基材の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016052262A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 ユニマテック株式会社 含フッ素アルキルシラン化合物およびその製造法
WO2016052263A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 ユニマテック株式会社 ポリフルオロアルキルアリル化合物およびその製造法
WO2017119371A1 (ja) 2016-01-08 2017-07-13 東ソー・エフテック株式会社 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤
KR20190114491A (ko) * 2018-03-30 2019-10-10 한국생산기술연구원 일액형 발수 코팅액 제조방법 및 이의 발수 코팅 필름 제조방법

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107108455A (zh) * 2014-12-19 2017-08-29 默克专利股份有限公司 含氟化合物
JP7405613B2 (ja) * 2017-03-02 2023-12-26 Ａｇｃ株式会社 含フッ素シラン化合物の製造方法及び含フッ素シラン化合物
JPWO2019039083A1 (ja) * 2017-08-22 2020-10-15 Ａｇｃ株式会社 含フッ素化合物、組成物、コーティング液、および含フッ素化合物の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3317075B2 (ja) * 1995-03-07 2002-08-19 ミノルタ株式会社 非磁性一成分現像剤
JP2003051138A (ja) * 2001-05-29 2003-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光記録膜とその製造方法、光記録媒体、情報記録再生装置、コンピュータシステム及び映像信号記録再生システム
JP2011001541A (ja) * 2009-05-19 2011-01-06 Central Glass Co Ltd 滑水性物品及び製法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10125069B2 (en) 2014-09-30 2018-11-13 Unimatec Co., Ltd. Polyfluoroalkyl allyl compound and method for producing the same
WO2016052263A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 ユニマテック株式会社 ポリフルオロアルキルアリル化合物およびその製造法
JP5979332B1 (ja) * 2014-09-30 2016-08-24 ユニマテック株式会社 含フッ素アルキルシラン化合物およびその製造法
JP5979333B1 (ja) * 2014-09-30 2016-08-24 ユニマテック株式会社 ポリフルオロアルキルアリル化合物およびその製造法
CN106715447A (zh) * 2014-09-30 2017-05-24 优迈特株式会社 含氟烷基硅烷化合物及其制备方法
KR20170063654A (ko) 2014-09-30 2017-06-08 유니마테크 가부시키가이샤 폴리플루오로알킬알릴 화합물 및 그 제조법
KR20170066379A (ko) 2014-09-30 2017-06-14 유니마테크 가부시키가이샤 함불소 알킬실레인 화합물 및 그 제조법
KR102523918B1 (ko) 2014-09-30 2023-04-20 유니마테크 가부시키가이샤 폴리플루오로알킬알릴 화합물 및 그 제조법
KR102444487B1 (ko) 2014-09-30 2022-09-19 유니마테크 가부시키가이샤 함불소 알킬실레인 화합물 및 그 제조법
US10131598B2 (en) 2014-09-30 2018-11-20 Nok Corporation Polyfluoroalkyl allyl compound and method for producing the same
WO2016052262A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 ユニマテック株式会社 含フッ素アルキルシラン化合物およびその製造法
US10125154B2 (en) 2014-09-30 2018-11-13 Unimatec Co., Ltd. Fluorine-containing alkylsilane compound, and method for producing the same
JPWO2017119371A1 (ja) * 2016-01-08 2018-11-08 東ソー・ファインケム株式会社 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤
CN108473399A (zh) * 2016-01-08 2018-08-31 东曹精细化工株式会社 具有不饱和键的新型含氟化合物以及使用了该含氟化合物的表面改性剂
KR102159824B1 (ko) * 2016-01-08 2020-09-25 토소 화인켐 가부시키가이샤 불포화 결합을 갖는 신규 함불소 화합물 및 이것을 이용한 표면 개질제
JP2021100940A (ja) * 2016-01-08 2021-07-08 東ソー・ファインケム株式会社 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤
CN108473399B (zh) * 2016-01-08 2022-04-01 东曹精细化工株式会社 具有不饱和键的新型含氟化合物以及使用了该含氟化合物的表面改性剂
US11352457B2 (en) 2016-01-08 2022-06-07 Tosoh Finechem Corporation Fluorine-containing compound having unsaturated bond, and surface modifier using the same
KR20180091877A (ko) * 2016-01-08 2018-08-16 토소 화인켐 가부시키가이샤 불포화 결합을 갖는 신규 함불소 화합물 및 이것을 이용한 표면 개질제
WO2017119371A1 (ja) 2016-01-08 2017-07-13 東ソー・エフテック株式会社 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤
KR20190114491A (ko) * 2018-03-30 2019-10-10 한국생산기술연구원 일액형 발수 코팅액 제조방법 및 이의 발수 코팅 필름 제조방법
KR102134280B1 (ko) * 2018-03-30 2020-07-16 한국생산기술연구원 일액형 발수 코팅액 제조방법 및 이의 발수 코팅 필름 제조방법

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