JP2014016589A - 偏光板一体型導電性光学積層体及びそれを用いた表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】薄膜化が可能で、且つ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができ、湿度変化に対する寸法変化を抑制してカールの発生を防止でき、電磁波遮蔽性能をも有する偏光板一体型導電性光学積層体を提供すること。
【解決手段】透明基材111上に導電層112が積層されてなる導電性フィルム11と、偏光素子フィルム12と、が積層されている偏光板一体型導電性光学積層体1であって、
透明基材111は、湿度に対する寸法変化率が0.6%以下である偏光板一体型導電性光学積層体1とする。
【選択図】図2
【解決手段】透明基材111上に導電層112が積層されてなる導電性フィルム11と、偏光素子フィルム12と、が積層されている偏光板一体型導電性光学積層体1であって、
透明基材111は、湿度に対する寸法変化率が0.6%以下である偏光板一体型導電性光学積層体1とする。
【選択図】図2
Description
本発明は、偏光板と導電性光学積層体とが一体となった偏光板一体型導電性光学積層体に関する。
液晶表示装置(LCD)では、通常、液晶セルの表裏に一対の偏光板が配置され、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置では、有機EL素子の視認側に、偏光板、特に楕円又は円偏光板を設置して、反射防止機能を持たせることが多い。そして、これらの偏光板には、最表面に反射防止性、ハードコート性等の機能を有する光学積層体が設けられている。
又、一般に、画像表示パネルは、表示画面から外れる外周部に該画像表示パネルを駆動させるドライバIC等が設けられている。そして、画像表示装置には表示画面の周囲を囲うようにベゼル(メタルカバー)と言われる枠状の部材が最表面に設けられ、該ベゼルによりドライバICを表示画面から隠蔽している(特許文献1、2参照)。
ところで、近年、画像表示装置は、薄型化とともに表示画面のフラット化が進められているが、このようなベゼルを備えた構成の画像表示装置では、ベゼルが表示画面から飛び出した状態となり、フラットな表示画面とすることができなかった。
そこで、例えば、画像表示パネルを駆動させるドライバICを隠蔽するための枠を、光学積層体と偏光素子フィルムとの間に印刷により形成した偏光板一体型光学積層体を、画像表示パネルの表示画面側に配置し、画像表示装置の表示画面をフラットにする方法が考えられている。このような構成の偏光板一体型光学積層体は、最表面にドライバICを隠蔽するためのベゼルが不要であるため、表示画面のフラット化を図ることができる。
しかしながら、画像表示装置の薄膜化には、偏光板一体型光学積層体の薄膜化が必須であるところ、このような構成の偏光板一体型光学積層体は、従来の偏光フィルムと光学積層体との間に、更にドライバICを隠蔽するための枠を含む層を形成する必要があるため、薄膜化の要請に充分応えることができないものであった。
又、従来、光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層が積層された構成を有しており、この光透過性基材としては、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた(特許文献3参照)。これは、セルロースエステルは、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない(面内にほとんど複屈折を有さない)ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、基材の複屈折に起因して、液晶表示装置に色の異なるムラ(以下、「ニジムラ」とも言う)が発生する現象を防止することもできることや、適度な透水性を有することから、光学積層体一体型偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、又、耐湿、耐熱性が充分でなく、光学積層体を偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、セルロースエステルフィルムが膨張したり収縮したりすることで応力が生じ、例えば、画像表示装置がLCDであった場合、液晶セル全体がカールし、表示品位が低下するという問題があった。尚、液晶セル全体がカールし、表示品位が低下する例としては、例えば、液晶セルがカールして、バックライト部材と密着することにより、部分的にモアレやムラを生じること等が挙げられる。このような問題は、近年のノートパソコン用LCD、携帯端末用LCD、携帯電話用LCD等の薄型化の中で、液晶セルのガラス板が、従来0.5〜1mm厚であったものが、0.5mm厚未満のガラス板の採用が進んでいるためである。
一方、液晶表示装置(LCD)等の表示装置、中でも、近年普及が急速に進んでいる小型LCD(携帯電話、スマートフォン等)においては、LCD駆動回路の誤作動、前面側設置電気駆動デバイス(タッチパネルユニット等)の誤作動、周辺機器、及び人体への影響を抑止するために、電磁波遮蔽シート等の電磁波遮蔽を目的とした部材を上記の光学積層体等とは別途に配置することが必須となっている。例えば、そのような電磁波を遮蔽する部材としては、透明基材上に銀粒子等を含む導電インキによる導電性パターンを設けたPDP前面用電磁波遮シートが開示されている(特許文献4参照)。このような電磁波遮蔽シート等の別途の積層は、表示装置の薄膜化、低コスト化の要請に逆行するものであり、何らかの改善手段が求められていた。
尚、このような電磁波遮蔽シートを構成するための透明基材としても、コスト的には不利であるにもかかわらず、上記同様に、複屈折の少ないトリアセチルセルロース(TAC)に代表されるセルロースエステルからなるフィルムが一般的に用いられていた。
本発明は、上記現状に鑑みて、電磁波遮蔽性能を有する光学積層体であって、湿度変化に対する寸法変化を抑制してカールの発生を防止するこができる偏光板一体型導電性光学積層体を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、湿度に対する寸法変化率が所定値以下である透明基材上に導電層が積層されてなる導電性フィルムと、偏光委素子フィルムを一体化するとの着想に至り、本発明を完成するに至った。
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
(1) 透明基材上に導電層が積層されてなる導電性フィルムと、偏光素子フィルムと、が積層されている偏光板一体型導電性光学積層体であって、前記透明基材は、湿度に対する寸法変化率が0.6%以下である偏光板一体型導電性光学積層体。
(1)によれば、湿度変化に対する寸法変化を抑制して、液晶パネルユニット等のカールの発生を防止することができ、又、導電層によって電磁波を遮蔽することができる。これにより、表示装置に好ましい表示品質を発揮させることができる。又、従来よりも一般的に価格の低い材料を用いることができ、更に、一体化により材料の使用量も抑えることができるため、大幅なコストの低減が可能となる。
(2) 前記透明基材は、3000nm以上のリタデーションを有する(1)に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(2)によれば、リタデーションが特定の範囲に限定された透明基材を用いることによって、ニジムラの発生を抑制することができる。
(3) 前記透明基材は、面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸の方向の屈折率(nx)と、前記遅相軸の方向と直交する方向である進相軸の方向の屈折率(ny)との差(nx−ny)が、0.05以上である請求項1又は2に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(3)によれば、によれば、表示装置において、ニジムラの発生をより高度に抑制することができる。又、透明基材の膜厚を不要に大きくせずに好ましい膜厚の範囲内において、上述した所定のリタデーション値を得ることができる。
(4) 前記偏光素子フィルムの吸収軸と前記透明基材とが、該偏光素子フィルムの吸収軸と該透明基材の前記遅相軸のなす角度が、0°±30°又は90°±30°となるように積層されている(2)又は(3)に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(4)によれば、表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる表示装置を提供することができる。
(5) 前記偏光素子フィルムの吸収軸と前記透明基材とが、該偏光素子フィルムの吸収軸と該透明基材の前記遅相軸のなす角度が、45°±30°となるように積層されている(2)又は(3)に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(5)によれば、特に、タッチパネル装置等の表示装置を、偏光サングラスの使用によって視認する必要のある場合には、ニジムラを防止する光学特性を有効に利用して、直線偏光による入射光を、これと直交する直線偏光成分を有する光により出射することができ、これにより偏光サングラスを使用する場合でも、表示画面を見て取ることができる。
(6) 前記透明基材は、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、(メタ)アクロニトリル系樹脂、及び、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択されるいずれか1種の材料からなる(1)から(5)のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(6)によれば、透明基材の好ましい光線透過性を保持しつつ、湿度に対する寸法変化率が0.6%以下とすることができ、且つ、上述した所定のリタデーション値を得て、ニジムラの発生を十分に抑制することができる。
(7) 前記透明基材は、ポリエチレンテレフタレートである(6)に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(7)によれば、(6)による効果に加えて、電磁波遮蔽シートの製造及び加工に伴う加熱条件の選択の幅が広がる。これにより、遮蔽性能の高い導電層をより容易に低コストで透明基材上に形成することができる。
(8) 前記導電層は、透明導電性材料からなる導電膜である(1)から(7)のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(8)によれば、電磁波の遮蔽性と光線透過性に優れ、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる液晶ディスプレイ装置を提供することができる。
(9) 前記導電層は、開口部と不透明部を有する実質的に透明なパターンからなり、不透明部が金属又は導電性インキからなる(1)から(8)のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
(9)によれば、導電性を有する各種の金属材料、導電性インクを使用して、見かけ上透明に導電パターン層を作成することができる。
(10) (1)から(9)のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体と、液晶パネルユニットと、を備える表示装置。
(10)によれば、湿度変化に対する寸法変化を抑制して、液晶パネルユニット等のカールの発生を防止することができ、又、導電層によって電磁波を遮蔽することができ、多層透明基材によって光線を透過させることができる表示装置を提供することができる。
(11) 前記偏光板一体型導電性光学積層体が、前記液晶パネルユニットの出光面側の面上に配置されている(10)に記載の表示装置。
(11)によれば、偏光板一体型導電性光学積層体を画像表示パネルに配置して色味等を管理することができ、製造工程における管理を簡略化することができる。又、電磁波の発生源の近傍側にて、電磁波を遮蔽して、効率よく電磁波を遮蔽することができる。電磁波の発生源の近傍にて、電磁波を遮蔽して、効率よく電磁波を遮蔽することができる。
(12) (10)又は(11)に記載の表示装置であって、前記液晶パネルユニットとは反対側の位置にタッチパネルユニットを備えるタッチパネル方式の表示装置。
(12)によれば、液晶パネルユニットのカール防止、電磁波の遮蔽によるタッチパネルの誤動作の防止により、表示品質の高いタッチパネル方式の表示装置を提供することができる。
(13) 前記導電層が接地されており、前記導電性フィルムが電磁波遮蔽機能を有する(10)から(12)に記載の表示装置。
(13)によれば、より電磁波遮蔽機能に優れた表示装置とすることができる。
(14) 一次光源が白色LEDである(10)から(13)に記載の表示装置。
(14)によれば、白色LEDの発する光線は連続的で幅広い発光スペクトルを有していることからニジムラの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明におけるバックライトの一次光源として好適である。又、消費電力の小さい白色LEDを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することができる。
本発明は、上述した構成からなるものであるため、電磁波遮蔽性能を有する光学積層体であって、湿度変化に対する寸法変化を抑制してカールの発生を防止するこができ、且つ、十分な遮蔽性能を備える導電性光学積層体及びそれを備えた表示装置を提供することができる。
以下に、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書においては、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も「樹脂」と記載する。
<偏光板一体型導電性光学積層体>
図1及び図2に示すように、本発明の偏光板一体型導電性光学積層体1は、導電性フィルム11と、偏光素子フィルム12が積層され一体化されているものである。
図1及び図2に示すように、本発明の偏光板一体型導電性光学積層体1は、導電性フィルム11と、偏光素子フィルム12が積層され一体化されているものである。
ここで、従来の偏光素子フィルムは、偏光素子上にトリアセチルセルロース基板等の保護基板が貼り付けられた構成を有するものであった。これに対し、偏光板一体型導電性光学積層体1においては、偏光素子フィルム12に導電性フィルム11が直接貼り付けられる。そして、導電性フィルム11の透明基材111が、偏光素子の保護フィルムの役割を兼ねている。これにより、偏光板一体型導電性光学積層体1は、従来の偏光素子フィルムの保護フィルムを省略可能とし、表示装置の薄膜化を図ることができるものとなっている。
偏光板一体型導電性光学積層体1は、導電性フィルム11を構成する透明基材111の遅相軸の方向、即ち、透明基材の面内において最も屈折率が大きい方向と、偏光素子フィルム12の吸収軸とのなす角度が、0°±30°又は90°±30°となるように積層されることが好ましく、0°±10°又は90°±10°の範囲にあることがより好ましく、0°±7°又は90°±7°の範囲にあることがより好ましく、0°±3°又は90°±3°の範囲にあることが更に好ましく、上記角度が0°又は90°となるように導電性フィルム11と偏光素子フィルム12が積層されることが最も好ましい。透明基材1111の遅相軸の方向と偏光素子フィルム12の吸収軸とのなす角度が上記範囲内にあることで、タッチパネル装置10の表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる。この理由は明確ではないが、以下の理由によると考えられる。
即ち、外光や蛍光灯の光のない環境下(以下、このような環境下を「暗所」とも言う)では、透明基材111のリタデーションを3000nm以上とすることによって、タッチパネル装置10において、偏光板一体型導電性光学積層体1の透明基材111の遅相軸の方向と偏光素子フィルム12の吸収軸とのなす角度が、どのような角度であってもニジムラの発生を抑制できる。しかしながら、外光や蛍光灯の光のある環境下(以下、このような環境下を「明所」とも言う)においては、外光や蛍光灯の光は、連続的な幅広いスペクトルを有するものばかりではないため、更に、透明基材111の遅相軸の方向と偏光素子フィルム12の吸収軸とのなす角度を上述の範囲にしないと、ニジムラが生じてしまい表示品位が低下してしまう。更に、図3に示すタッチパネル装置10においては、カラーフィルター43を透過したバックライト5の光も連続的な幅広いスペクトルを有するものばかりではくなるため、透明基材111の遅相軸の方向と偏光素子フィルム12の吸収軸とのなす角度を上述の範囲にしないと、ニジムラが生じてしまい表示品位が低下してしまうと推測している。尚、タッチパネル装置10において偏光板一体型導電性光学積層体1の他に、更に保護膜等として透明基材をその他の位置に積層する場合には、全ての層について上記角度範囲に入ることが好ましい。
尚、特に、タッチパネル装置10等の表示装置を、偏光サングラスの使用によって視認する必要のある場合には、偏光板一体型導電性光学積層体1において、透明基材111の遅相軸の方向と、偏光素子フィルム12の吸収軸とのなす角度は、45°±30°の範囲となるように積層されていることが好ましい。これにより、ニジムラを防止する光学特性を有効に利用して、直線偏光による入射光を、これと直交する直線偏光成分を有する光により出射することができ、偏光サングラスを使用する場合でも、表示画面を見て取ることができる。
ここで、上記リタデーションとは、透明基材の面内において最も屈折率が大きい方向(遅相軸方向)の屈折率(nx)と、遅相軸方向と直交する方向(進相軸方向)の屈折率(ny)と、透明基材の厚み(d)とにより、以下の式(数4)によって表わされるものである。尚、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器製KOBRA−WRによって測定(測定角0°、測定波長548.2nm)することができる。
(数1)
リタデーション(Re)=(nx−ny)×d
リタデーション(Re)=(nx−ny)×d
又、クロスニコルに配置した偏光板間に対し、ある角度θで設置されたとき、該偏光板間を透過する光の透過率は下記式(数2)で表される。下記式(数2)において、Iはクロスニコルに配置した偏光板間を透過した光の強度を示し、I0はクロスニコルに配置した偏光板間に入射する光の強度を示す。この場合、偏光素子フィルム12の吸収軸に対して、透明基材111の遅相軸の方向のなす角度(θ)を45°としたときに、光の透過率は最大となるが、透過率は、透明基材111のリタデーション及び透過する光の波長によって変化するため、上記リタデーションの値に特有の干渉色(ニジムラ等)が観測される。ここで、上記角度(θ)を0°又は90°とした場合、上記光の透過率はゼロとなるため、干渉色は観測されなくなる。
(数2)
I/I0=sin22θ・sin2(πRe/λ)
I/I0=sin22θ・sin2(πRe/λ)
尚、上記の遅相軸方向は、分子配向計(MOA;Molecular Orientation Analyzer)を用いて求めた透明基材の遅相軸方向の平均配向角の方向である。又、配向角差については、例えば、王子計測機器社製の分子配向計(MOA;Molecular Orientation Analyzer)を用いて測定した配向角の最大値から最小値を引いた値として求められる。
<導電性フィルム>
図1、図2に示すように、導電性フィルム11は、透明基材111と、透明基材111上に所定のパターンで形成された導電層112とを有する。
図1、図2に示すように、導電性フィルム11は、透明基材111と、透明基材111上に所定のパターンで形成された導電層112とを有する。
透明基材111は、単層又は多層の透明樹脂基材であり、湿度に対する寸法変化率(以下単に「寸法変化率」とも言う。)が、0.6%以下である。透明基材111の寸法変化率が、0.6%を超えると、本発明の偏光板一体型導電性光学積層体をLCD等に用いた場合、湿度変化による透明基材の寸法変化が大きくなり、LCDパネル本体においてカールが発生してしまう。上記寸法変化率の好ましい上限は0.3%であり、より好ましい上限は0.1%である。
本明細書において、湿度に対する寸法変化率とは、それぞれ所定の大きさ(例えば、5mm×20mm)に切り出したフィルムサンプルに対して、所定の荷重条件(例えば、150mN/mm2)にて、30℃0%RHの状態から、30℃度90%RHに変化させたときの寸法変化率のことであり、以下の式(数3)により算出される。
尚、式(数3)において、「30℃90%RH環境下での寸法」及び「30℃0%RH環境下での寸法」とは、透明基材111を、それぞれ30℃90%RH環境下及び30℃0%RH環境下で、一定時間放置後の、遅相軸方向と該遅相軸方向に直交する方向との所定の2点間の長さの平均値である。尚、上記一定時間とは、所定環境での寸法変化が落ち着くまでに必要十分な時間であればよい。又、上記寸法変化率の測定時の上記フィルムサンプルへの荷重条件は、ある程度の荷重をかけて透明基材サンプルの寸法の測定を安定させるための条件である。ただし、上記荷重条件は、透明基材サンプルに荷重をかけることでの弾性変形、塑性変形がおきない程度で、透明基材サンプル雰囲気の条件が寸法変化に直接反映されるような緩やかな条件で荷重をかければよい。
透明基材111は、3000nm以上のリタデーションを有する樹脂基材であることが好ましい。透明基材111のリタデーションが3000nm未満であると、表示装置のニジムラ発生を十分に防止することができない。一方、上記透明基材111のリタデーションの上限は特に限定されないが、30000nm以下であることが好ましく、20000nm程度であることよりが好ましい。30000nmを超えると、これ以上の表示画像のニジムラ改善効果の向上が見られず、又、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
透明基材111は単層の基材からなるものであってもよく、単層の基材を複数積層した多層基材からなるものであってもよい。透明基材111が多層基材からなるものである場合は、多層基材全体としての実質的なリタデーションが3000nm以上であればよいが、この場合、各層には、リタデーションが400nm以上3000未満の基材が含まれないことが好ましい。この範囲のリタデーションを含む透明基材が層構成中に混在すると、ニジムラ発生の防止効果が低減してしまう。
透明基材111は、上記式(数1)における「nx−ny」(以下、Δnとも表記する)が、0.05以上であることが好ましい。Δnが0.05未満であると、充分なニジムラの抑制効果が得られないことがある。又、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。Δnのより好ましい下限は0.07である。
透明基材111を構成する材料としては、上記式(数4)によって規定される湿度に対する寸法変化率が0.6%以下であるものであれば特に限定されないが、リタデーションが3000nm以上であることがより好ましい。例えば、上記寸法変化率の要件を充足する樹脂として、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、(メタ)アクロニトリル系樹脂、及び、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択される1種を用いることができる。
又、透明基材111を構成する材料としては、上記の中でも、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなることが特に好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。又、PETは、光線透過性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても、3000nm以上の好ましいリタデーションが比較的容易に得られるからである。又、PETは環状ポリオレフィンやアクリル、TAC等他の基材に比べ材料密着性等のコンバーティング特性に優れているという特徴もある。
尚、PETは、加熱による熱収縮率が小さいため、加工処理時の加熱条件の制約が小さい。よって導電性フィルム11の製造方法の選択の自由度を高めることができる点においても好ましい。例えば、導電層112の形成時に、熱硬化性樹脂をバインダーとして用いる印刷処理等であっても、広い加熱条件の下で採用することができる。これにより、遮蔽性能の高い導電層112をより容易に低コストで形成するための選択が可能となる。又、例えば、電磁波遮蔽シートから筐体へアースを取る場合にも、PETフィルムを材料として用いることにより、熱圧着の様な簡便で、且つ、耐久性の高い処理を行う事ができる。このように、導電性フィルム11は、透明基材111の材料として、汎用性が極めて高いPETフィルムを用いることにより、製造コストを抑えながらも、表示装置に更に高い表示品質を発揮させることができるものである。
又、上記PETの他、上記式(数3)による寸法変化率が小さく、透明基材111として、特に好ましく用いることができるその他の樹脂として、上記寸法変化率が0.04%程度であるアクリル樹脂、及び、環状ポリオレフィン樹脂(COP)を挙げることができる。
又、透明基材111は、二軸延伸試験装置を用いて、未延伸ポリエステルの横延伸を行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸(以下、「縦延伸」とも言う)を行ったものであってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が2倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が2倍を超えると、Δnの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。又、上記熱処理時の処理温度はしては、100〜250℃が好ましく、より好ましくは180〜245℃である。
透明基材111のリタデーションを3000nm以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、形成する透明基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、又、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得易くなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、又、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得易くなる。
透明基材111の厚みとしては、その構成材料等に応じて適宜決定されるが、20〜500μmの範囲内であることが好ましい。20μm未満であると、透明基材111のリタデーションを3000nm以上にできないことがあり、又、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じ易くなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、500μmを超えると、透明基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記透明基材111の厚さのより好ましい下限は30μm、より好ましい上限は400μmであり、更により好ましい上限は300μmである。
透明基材111は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、84%以上であるものがより好ましい。尚、上記透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
尚、透明基材111は、それぞれの基材の遅相軸方向の配向角差が6°以内であることが好ましく、4°以内であることがより好ましく、2°以内であることが更に好ましい。透明基材111の偏光角差が6°以内にあることにより、後に説明する通り、タッチパネル装置10において、偏光板3の吸収軸と透明基材111の遅相軸の方向とのなす角度を0°又は90度に設置した場合のニジムラ発生を特に防止できる。複数の透明基材111の間に、6°を超えるような大きな配向角差が存在した場合、光の透過率が上昇し、干渉色発生の原因となるからである。
導電層112は、不透明な導電層をパターン形成し開口部の存在によって「実質的に透明なパターン」とすることによって形成することができる。不透明な導電層としてはカーボンや導電性高分子等の他、導電性を持った金属が使用可能であり、銀、銅、金、アルミ、等が好適に用いられる。金属層は単体の金属や合金であってもよく、金属粒子が結着材により結着されたものでもよい。又、必要に応じて、金属表面に対し黒化処理や防錆処理が適用される。尚、本発明における「実質的に透明なパターン」とは、例えば、上記のうに開口部を備えることによって、見かけ上、透明に見えるパターンのことを言う。
導電層112が実質的に透明なパターンである場合、その平面視におけるパターン形状は、メッシュ(網目乃至格子)形状が代表的なものであるが、その他、ストライプ(平行線群乃至縞模様)形状、螺旋形状等も用いられる。メッシュ形状の場合、単位格子形状は、正3角形、不等辺3角形等の3角形、正方形、長方形、台形、菱形等の4角形、6角形、8角形等の多角形、円、楕円等が用いられる。又、モアレを軽減する目的で、ランダム網目状、又は擬似ランダム網目状のパターン等も使用可能である。その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は3〜50μmとすることができ、線間ピッチは100〜5000μmとすることができる。尚、導電層112の光線透過率と下記に詳細を説明する表面抵抗率をより高いレベルで両立させる観点からは、1000〜5000μmであることが好ましい。光線透過率は、通常90%以上である。又、所定パターンとは別に、その周辺部の全周又はその一部にそれと導通を保ちつつ隣接した全ベタ(開口部なし)等の接地パターンが設けられる場合もある。尚、線幅は、より高透明、不可視のものを得るために、より一層微細化することが求められている。この観点から、15μm以下、特に8μm以下とすることが好ましい。上記パターンのピッチやバイアス角度は、適用される表示装置の画素配列等に応じてモアレを軽減するためにその都度最適化されることが好ましい。
導電層112の厚さは、導電層112に備えさせる抵抗値によっても異なるが、導電性能と導電層112上への他部材の接着適性との兼ね合いから、その中央部(突起パターンの頂部)での測定において、通常、0.1μm以上50μm以下であり、好ましくは、0.5μm以上10μm以下である。
導電層112が実質的に透明なパターンである場合、そのパターン形成の方法としては、パターン印刷、表面への不透明導電層形成後のフォトリソグラフィー(エッチング)、転写、自己組織化等が適用可能である。コストパフォーマンスを高める観点からは、特にパターン印刷で形成することが好ましい。パターン印刷の手法としては、導電性組成物を所定のパターンに印刷する手法、無電解めっきの触媒機能を有する材料を所定のパターンに印刷し導電性金属を無電解めっきする手法、無電解めっきの触媒と付加体を形成する材料を印刷後、触媒を付加し無電解めっき処理を行う手法等が挙げられる。導電性組成物としては銀ペースト、銅ペースト、導電性高分子等が挙げられる。触媒機能を有する材料としてはパラジウム等の触媒粒子や、触媒粒子を表面に担持した粒子等を含むインキ等が挙げられる。触媒と付加体を形成する材料としては銀や導電性高分子等を含むインキ等が挙げられる。無電解めっき層を形成する金属としては銅やニッケル、銀等の導電性金属が挙げられる。
パターン印刷の方法としては必要とされるパターン精度により任意の手法が適用できるが、スクリーン印刷や、凹版オフセット印刷、或いは、UV硬化プライマーにより凹版から転写させる方法等が好適に用いられる。
パターン印刷により、金属粒子とバインダー樹脂を含む導電性組成物によって導電層112をパターン形成する場合、金属粒子としては、上記に例示した通り、導電性を持った金属であれば使用可能であり、導電層112は単体の金属や合金であってもよく、金属粒子が結着材により結着されたものでもよい。バインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。尚、後述の電気抵抗低減化処理を施す場合は、酸又は温水にて溶解することのない非水溶性樹脂を用いる。
パターン印刷に用いることができるバインダー樹脂を例示すると、熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として後述する物を挙げることができ、これらを1種単独で、或いは、2種以上混合して用いる。熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の樹脂を挙げることができ、これらを1種単独で、或いは、2種以上混合して用いる。尚、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。紫外線(乃至可視光線)硬化型の電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。又、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。導電性ペーストとして用いる溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤の中から適宜選択して使用できるが、プライマー層を設ける場合には該プライマー層の安定硬化を阻害したり、硬化後のプライマー層を膨潤、白化、溶解させたりしないものが好ましい。溶剤の含有量は通常、10〜70質量%程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ない方が好ましい。又、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
尚、導電層112は、透明基材111上に、透明導電性材料からなる導電膜としても形成することができる。この場合、透明導電材料としてはITO、又、銀等の材料からなる導電性ナノワイヤ、導電性を有するカーボンナノチューブやグラフェン、導電性高分子等を用いることができる。透明導電材料を使用する場合は前述のパターン形状、即ち、微細パターンによる高透過率化は必ずしも必要でなく、全面に導電層が形成されたものを使用できる。
導電層112は、表面抵抗率が105Ω/□以下であればよく、102Ω/□以下であることが好ましい。導電層112の表面抵抗率を105Ω/□以下とすることによって、例えば、タッチパネル部の下側に絶縁層を介して、或いは、カバーガラスの下側の位置等に配置された場合等、必要な配置箇所に応じて求められる必要な電磁波遮蔽性能を十分に満たすことができる。これにより、配置箇所によって遮蔽性能の調整を必要とせずに自在に配置できるようになる。又、一般に、LCDパネルユニットの(ガラス板)上に電磁波遮蔽層として別途設ける必要のあった高価なITOスパッタ層等も不要とすることができる。導電層112の表面抵抗率が102Ω/□以下である場合は、金属又は金属粒子からなる導電メッシュが好適に使用できる。
尚、導電層112は、導電性を有するフラットフレキシブルケーブルや導電性のガスケット、半田付け他の導電性部品を介してフレーム部等アース機能を有する端子類へ接地されていることがより好ましい。この構成により、導電性フィルム11の電磁波遮蔽機能を更に高めることができる。又、同構成によって、吸湿による寸法変化に起因する導電層112と接地用導電性部品との間の破断や接触不良を抑制でき、安定した電磁波遮蔽機能を供給することができる。
導電性フィルム11においては、透明基材111と導電層112との密着性を高めるために、透明基材111と導電層112との間にプライマー層(図示せず)を設けることが好ましい。プライマー層は透明基材111及び導電層112の双方に密着性がよく、又、開口部(導電性パターン層非形成部)の光透過性確保のために透明な層である。更に、導電層112の形成を後述の如き特定の凹版印刷法で行う場合には、プライマー層は、流動性を保持できる状態で透明基材111上に設けられ、凹版印刷時の凹版に接触している間に液状から固化させる層として形成される層となり、最終的な導電層112が形成されたときに固化している層である。
プライマー層を構成する材料としては、本来特に限定はないが、本発明では、導電層112の形成方法として後述の如き特定の凹版印刷法が推奨されるため、プライマー層も、未硬化状態において液状(流動性)の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を塗工、硬化(固体化)してなる層が好適に用いられる。
尚、導電性フィルム11においては、必要に応じ適宜その他の層の形成、又は処理を施してもよい。例えば、錆びに対する耐久性が不十分な場合は、防錆層を設けるとよい。該防錆層は、従来公知の材料及び手法により設けることができる。
<偏光素子フィルム>
偏光素子フィルム12としては、所望の偏光特性を備えるものであれば特に限定されず、一般的に液晶表示装置の偏光板に用いられるものを用いることができる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムが延伸されてなり、ヨウ素を含有する偏光板が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系フィルムとしては特に限定されず、通常使用されているポリビニルアルコール系フィルムを使用することができる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、ポリ(エチレン−酢酸ビニル)共重合体フィルム等を一軸に延伸したもの等が挙げられる。ポリビニル系フィルムの厚みも特に限定されず、例えば、5〜150μm程度のものが用いられる。
偏光素子フィルム12としては、所望の偏光特性を備えるものであれば特に限定されず、一般的に液晶表示装置の偏光板に用いられるものを用いることができる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムが延伸されてなり、ヨウ素を含有する偏光板が好適に用いられる。ポリビニルアルコール系フィルムとしては特に限定されず、通常使用されているポリビニルアルコール系フィルムを使用することができる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、ポリ(エチレン−酢酸ビニル)共重合体フィルム等を一軸に延伸したもの等が挙げられる。ポリビニル系フィルムの厚みも特に限定されず、例えば、5〜150μm程度のものが用いられる。
尚、偏光素子フィルム12において、導電性フィルム11が積層される面と反対側の面については、保護層が積層されることが好ましい。この保護層については、特に限定されないが、例えば透明基材111と同一の透明基材を保護層を形成する基材として好ましく用いることができる。
<偏光板一体型導電性光学積層体の製造方法>
偏光板一体型導電性光学積層体1は、基材樹脂をフィルム状に形成して透明基材111を形成する透明基材形成工程と、透明基材111上に、導電性組成物を所定形状に形成して導電層112を形成して導電性フィルム11を得る導電層形成工程と、導電性フィルム11と偏光素子フィルム12を一体化する偏光板一体化工程を含む製造方法によって製造することができる。
偏光板一体型導電性光学積層体1は、基材樹脂をフィルム状に形成して透明基材111を形成する透明基材形成工程と、透明基材111上に、導電性組成物を所定形状に形成して導電層112を形成して導電性フィルム11を得る導電層形成工程と、導電性フィルム11と偏光素子フィルム12を一体化する偏光板一体化工程を含む製造方法によって製造することができる。
[透明基材形成工程]
この工程では、まずポリエチレンテレフタレート等の材料樹脂を溶融し、公知の押し出し法により未延伸のフィルムを形成する。そして、必要に応じて、この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、順次X,Y方向にそれぞれ異なる倍率で延伸を行う。各延伸倍率については、上記において説明した範囲で適宜調整すればよい。以上の作業により、3000nm以上のリタデーションを有する好ましい透明基材111を得ることができる。
この工程では、まずポリエチレンテレフタレート等の材料樹脂を溶融し、公知の押し出し法により未延伸のフィルムを形成する。そして、必要に応じて、この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、順次X,Y方向にそれぞれ異なる倍率で延伸を行う。各延伸倍率については、上記において説明した範囲で適宜調整すればよい。以上の作業により、3000nm以上のリタデーションを有する好ましい透明基材111を得ることができる。
[導電層形成工程]
この工程では、透明基材111の少なくとも一方の面に金属粒子及びバインダー樹脂を含む導電性組成物(導電性ペースト)を用いて導電層112を形成する。
この工程では、透明基材111の少なくとも一方の面に金属粒子及びバインダー樹脂を含む導電性組成物(導電性ペースト)を用いて導電層112を形成する。
導電層112の有する所定パターンは、例えば、シルクスクリ−ン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷等の公知の各種印刷法によって形成することができる。
又、透明基材111と導電層112との密着性を高めるために、透明基材111と導電層112との間にプライマー層を設ける場合には、上記導電部材の製造方法としては、例えば、公開されている特許文献(WO2008/149969号パンフレット)に記載される特定のプライマーを用いた凹版印刷が推奨される。
尚、導電層112の形成は、金属箔をエッチング処理によってパターン化する方法によっても形成することができる。この場合は、金属箔としては銅箔を好ましく用いることができる。具体的な製造方法としては、透明基材111にプライマー層を介して銅箔をドライラミネートして連続帯状の銅箔積層シートとした後、当該銅箔積層シートの銅箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行うことにより、導電層112を形成することができる。特に、10μm未満の線幅を必要とする場合は、線幅に応じた厚みを有する金属箔を用いて好ましく処理する事で達成可能であり、厚み2μm以下の薄い金属層を透明基材111上に蒸着やスパッタリング等により形成したものを、同様にフォトリソグラフィーによりパターニングを実施してもよい。
<タッチパネル方式の表示装置>
次に、図3を参照しながら、偏光板一体型導電性光学積層体1を配置した表示装置の好ましい一実施例であるタッチパネル方式の表示装置であるタッチパネル装置10について説明する。本発明の表示装置は、偏光板一体型導電性光学積層体1と、液晶パネルユニット4とを必須の構成要件とするものであり、その他の構成部材は必ずしも必須ではないが、以下、偏光板一体型導電性光学積層体1と、液晶パネルユニット4、及びその他の構成部材を備えるタッチパネル装置10について説明する。
次に、図3を参照しながら、偏光板一体型導電性光学積層体1を配置した表示装置の好ましい一実施例であるタッチパネル方式の表示装置であるタッチパネル装置10について説明する。本発明の表示装置は、偏光板一体型導電性光学積層体1と、液晶パネルユニット4とを必須の構成要件とするものであり、その他の構成部材は必ずしも必須ではないが、以下、偏光板一体型導電性光学積層体1と、液晶パネルユニット4、及びその他の構成部材を備えるタッチパネル装置10について説明する。
図3に示すように、タッチパネル装置10は、使用者が画像等を認識する側の面である上面側から順に、タッチパネルユニット2、偏光板一体型導電性光学積層体1、偏光板3、液晶パネルユニット4、がこの順で積層され、更に液晶パネルユニット4の下方には、バックライト5が配置されている。
又、タッチパネル装置10は、偏光板一体型導電性光学積層体1の電磁波遮蔽性能、及びタッチパネル装置10の表示機能を害さない範囲で、その他の機能を備える任意の層が形成された構成であってもよい。上記任意の層としては特に限定されず、例えば、ハードコート層、帯電防止層、低屈折層、高屈折率層、防眩層、防汚層、反射防止層、高誘電体層、電磁波遮蔽層、接着剤層等が挙げられる。
偏光板一体型導電性光学積層体1の詳細については、上述した通りであるが、図3に示す通り、液晶パネルユニット4の上面(出光面側の面)に積層される。
タッチパネルユニット2としては、PET等のフィルム上にx方向の導電パターン、又はy方向の導電パターンが形成されたセンサーフィルムを順次ガラス板上に積層した構成を有する公知のタッチパネルユニットを用いることができる。タッチパネルユニット2は、センサーフィルム上に任意のその他の層が単層及び/又は複層形成された構成であってもよい。上記任意の層としては特に限定されず、例えば、ハードコート層、帯電防止層、低屈折層、高屈折率層、防眩層、防汚層、反射防止層、高誘電体層、接着剤層等が挙げられる。
液晶パネルユニット4としては、特に限定されず、一般的に液晶表示装置の液晶パネルユニットとして公知のものを用いることができる。例えば、図1に示すように、液晶層41の上下をガラス板42で挟み更にその上面にカラーフィルター43を配置した一般的な構造を有する液晶パネルユニット4、具体的には、TN、STN、VA、IPS及びOCB等の表示方式のものを用いることができる。
カラーフィルター43としては、特に限定されず、例えば、一般的に液晶表示装置のカラーフィルターとして公知のものを用いることができる。このようなカラーフィルターは、通常、赤色、緑色及び青色の各色の透明着色パターンから構成され、それら各透明着色パターンは、着色剤が溶解又は分散、好ましくは顔料微粒子が分散された樹脂組成物から構成される。尚、上記カラーフィルターの形成は、所定の色に着色したインキ組成物を調整して、着色パターン毎に印刷することによって行ってもよいが、所定の色の着色剤を含有した塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によって行うのがより好ましい。
又、液晶パネルユニット4は、更に、液晶パネルユニット4の上面と下面を、2つの偏光板で挟持した構造であってもよい。この場合、液晶パネルユニット4のカラーフィルター43と反対側面に偏光板3が設けられる。或いは、この位置にも偏光板一体型導電性光学積層体1を更に配置してもよい。このように、タッチパネル装置10において複数の偏光板が積層される場合これら複数の偏光板は、通常、互いの吸収軸が90°(クロスニコル)となるように配設される。
又、液晶パネルユニット4は電磁波の発生源でもあるため、電磁波を遮蔽するために、一般的には、上述した通りのITOスパッタ層を液晶パネルユニット4の出光面側のガラス板42上に設ける必要があったが、タッチパネル装置10においては、この層を、偏光板一体型導電性光学積層体1で代替するか、もしくは、他の位置に導電層112の表面抵抗率を102Ω/□以下とした偏光板一体型導電性光学積層体1を配置することにより、この位置に配置される遮蔽層そのものを不要とし当該遮蔽層を配置しない構成とすることもできる。
バックライト5の一次光源は、特に限定されないが、白色発光ダイオード(白色LED)であることが好ましい。上記白色LEDとは、蛍光体方式、即ち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることからニジムラの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライトの一次光源として好適である。又、消費電力の小さい白色LEDを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
タッチパネル装置10の表示画像は、バックライト5の一次光源から照射された光がカラーフィルター43を透過することでカラー表示される。ところが、カラーフィルター43を透過する光が単色表示となるように制御した場合、当該光線が透過する箇所に配置される透明基材として、従来使用されている配向ポリエステルフィルムを用いると、ニジムラがより強く生じる場合がある。これに対して、偏光板一体型導電性光学積層体1を備えるタッチパネル装置10は、透明基材111の光学特性によって、このような単色表示とした場合であっても、ニジムラの発生を好適に抑制することができる。
以上、本発明の好ましい一実施例として、偏光板一体型導電性光学積層体1を液晶ディスプレイ(LCD)を備えるタッチパネル方式の表示装置に配置したタッチパネル装置10について、説明した。偏光板一体型導電性光学積層体1は、タッチパネル装置10の透明電極や携帯電話機等に設けられる透明アンテナ等に特に好ましく使用することができるものである。偏光板一体型導電性光学積層体1を備えることにより、タッチパネル装置10において、タッチの誤認や、異常検知によるタッチ認識ロックによる誤動作を防止することができ、又、LCD駆動回路の誤動作による画像ノイズや画像の乱れも防止できる。
又、偏光板一体型導電性光学積層体1は、上記用途に限られず、その他の各種用途にも使用可能である。各種の、テレビジョン受像装置、測定機器や計器類の表示部、事務用機器や電算機の表示部、電話機の表示部、遊戯機器の表示部、電飾看板(照明広告)等に用いられるプラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管ディスプレイ(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、電場発光ディスプレイ(EL)等の画像表示装置の前面設置型電磁波遮蔽フィルタ用として好ましく用いることができる。又、その他、建築物の窓、車両、船舶、航空機、或は電子レンジの窓等の電磁波遮蔽フィルタ用途にも使用可能である。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。尚、本明細書においては、特別に断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。
又、実施例及び比較例で用いた透明基材の寸法変化率及びリタデーションは、以下のようにして測定した。
<寸法変化率測定>
熱機械的分析装置(SII社製 TMA/SS6000)と、湿度発生用循環槽(THERMO社製 PHOENIX II C25P)とを用いて測定した。具体的には、透明基材から5mm×20mmのフィルムサンプルを切り出し、該フィルムサンプルに対して、荷重条件150mN/mm2にて、30℃0%RH環境下に300min保持した時の寸法と、30℃90%RH環境下に300min保持した時の寸法とを測定し、それらの値から上述の式(数4)にて寸法変化率を算出した。測定方向は、遅相軸方向と、遅相軸方向に直交する方向とし、平均値としている。
熱機械的分析装置(SII社製 TMA/SS6000)と、湿度発生用循環槽(THERMO社製 PHOENIX II C25P)とを用いて測定した。具体的には、透明基材から5mm×20mmのフィルムサンプルを切り出し、該フィルムサンプルに対して、荷重条件150mN/mm2にて、30℃0%RH環境下に300min保持した時の寸法と、30℃90%RH環境下に300min保持した時の寸法とを測定し、それらの値から上述の式(数4)にて寸法変化率を算出した。測定方向は、遅相軸方向と、遅相軸方向に直交する方向とし、平均値としている。
<リタデーションの測定>
リタデーション値が1000nm未満の光透過性基材のリタデーションは、王子計測機器社製KOBRA−WRを用いて測定した。リタデーション値が1000nmをこえる光透過性基材のリタデーションは、次のようにして測定した。
まず、延伸後の光透過性基材を、二枚の偏光板を用いて、光透過性基材の配向軸方向を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の波長590nmに対する屈折率(nx、ny)を、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)によって求めた。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。光透過性基材の厚みd(nm)は、電気マイクロメータ(アンリツ社製)を用いて測定し、単位をnmに換算した。屈折率差(nx−ny)と、フィルムの厚みd(nm)の積より、リタデーションを計算した。
リタデーション値が1000nm未満の光透過性基材のリタデーションは、王子計測機器社製KOBRA−WRを用いて測定した。リタデーション値が1000nmをこえる光透過性基材のリタデーションは、次のようにして測定した。
まず、延伸後の光透過性基材を、二枚の偏光板を用いて、光透過性基材の配向軸方向を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の波長590nmに対する屈折率(nx、ny)を、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)によって求めた。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。光透過性基材の厚みd(nm)は、電気マイクロメータ(アンリツ社製)を用いて測定し、単位をnmに換算した。屈折率差(nx−ny)と、フィルムの厚みd(nm)の積より、リタデーションを計算した。
(実施例1)
<偏光板一体型導電性光学積層体作成>
以下の工程により、実施例1のタッチパネル装置に用いる偏光板一体型導電性光学積層体を作成した。
[透明基材形成]
ポリエチレンテレフタレート材料を290℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを形成した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置(東洋精機製)にて、120℃にて1分間予熱した後、120℃にて、延伸倍率4.5倍に延伸した後、その延伸方向とは90度の方向に延伸倍率1.5倍にて延伸を行い、リタデーション=3300nm、膜厚=33μm、Δn=0.099、寸法変化率0.07%の透明基材を得た。
<偏光板一体型導電性光学積層体作成>
以下の工程により、実施例1のタッチパネル装置に用いる偏光板一体型導電性光学積層体を作成した。
[透明基材形成]
ポリエチレンテレフタレート材料を290℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを形成した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置(東洋精機製)にて、120℃にて1分間予熱した後、120℃にて、延伸倍率4.5倍に延伸した後、その延伸方向とは90度の方向に延伸倍率1.5倍にて延伸を行い、リタデーション=3300nm、膜厚=33μm、Δn=0.099、寸法変化率0.07%の透明基材を得た。
[導電層形成]
上記の透明基材に、斜線版のグラビアリバースロールコート方式で、下記組成の紫外線硬化性樹脂組成物からなる液状のプライマーを厚み14μmにコーティングした。
エポキシアクリレートプレポリマー:35質量部
ウレタンアクリレートプレポリマー:12質量部
フェノキシエチルアクリレートからなる単官能アクリレートモノマー:44質量部
エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレートからなる3官能アクリレートモノマー:9質量部
光重合開始剤 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュア184):3質量部
上記の透明基材に、斜線版のグラビアリバースロールコート方式で、下記組成の紫外線硬化性樹脂組成物からなる液状のプライマーを厚み14μmにコーティングした。
エポキシアクリレートプレポリマー:35質量部
ウレタンアクリレートプレポリマー:12質量部
フェノキシエチルアクリレートからなる単官能アクリレートモノマー:44質量部
エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレートからなる3官能アクリレートモノマー:9質量部
光重合開始剤 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュア184):3質量部
次に、導電性組成物として、下記組成の銀ペーストインキを用意した。
(導電性組成物(銀ペースト)の組成)
金属粒子(平均粒子径1μmの銀粒子):93質量部
バインダー樹脂(熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂):7質量部
溶剤(ブチルカルビトールアセテート):25質量部
(導電性組成物(銀ペースト)の組成)
金属粒子(平均粒子径1μmの銀粒子):93質量部
バインダー樹脂(熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂):7質量部
溶剤(ブチルカルビトールアセテート):25質量部
凹版として、版凹部パターンの平面視形状が線幅5μm、ピッチ3200μmの正方格子で、版深25μmである上記凹版ロールを用いた。充填容器に満たされた銀ペーストインキをピックアップロールにより版表面にコーティングし、余剰インキをドクターブレードにより掻き取った版面と、プライマー層が形成された透明基材のプライマー層側とをニップロールで圧着し、引続き高圧水銀灯を配置してなる紫外線照射ゾーン間を走行する間に、プライマー層の紫外線硬化樹脂を硬化させた。その後、出口側のニップロールによってフィルムが凹版ロールから剥離され、プライマー層上には導電性組成物層が転移形成される。このようにして得られた転移フィルムを、120℃の乾燥ゾーンを通過させて銀ペーストの溶剤を蒸発させ、プライマー層上にメッシュパターンからなる導電層を形成し、偏光板一体型導電性光学積層体用の導電性フィルムを得た。
次いで、電気抵抗低減化処理として、導電部材を、気温80℃、相対湿度90%の雰囲気中で48時間放置した後、室温雰囲気(気温23℃、相対湿度50%)中に取り出した。印刷された導電性パターン層の厚み(メッシュ非形成部のプライマー層表面を基準にして測定)は23μmであり、版深と印刷厚みの比で計算した転移率は、(メッシュパターン厚み23μm/版深25μm)×100=92%であった。印刷された導電性パターン層の厚み(メッシュ非形成部のプライマー層表面を基準にして測定)は23μmであり、版深と印刷厚みの比で計算した転移率は、(メッシュパターン厚み23μm/版深25μm)×100=92%であったが、実際には銀ペーストインキの転写後の流動、溶剤乾燥による体積收縮があるため、転写直後には、ほぼ100%に近い転移がなされていると推定される。
以上によって得た実施例の導電性フィルムにおけるアクティブエリア(画像表示領域)のパターン形状は、格子状のパターンが格子状に配列した形状であり、線幅は5μm、開口ピッチは3200μmであった。
[偏光素子フィルム一体化]
上記の導電性フィルムに、偏光素子フィルム、偏光子保護シートの順に貼り合せ、偏光板一体型導電性光学積層体を作製した。偏光素子フィルムは、PVA系フィルムを一軸延伸する工程、該PVA系フィルムを二色性色素で染色して、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたPVA系フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程、及び、これらの工程が施されて二色性色素が吸着配向された一軸延伸PVA系フィルムを偏光素子フィルムとし、導電性フィルムを偏光素子フィルムの一方の面に、偏光子保護シートを他方の面に貼り付ける工程を経て製造した。偏光子保護シートとしては、膜厚80μm、寸法変化率0.76%のトリアセチルセルロース基材(TD80ULM 富士フィルム社製)を用いた。尚、実施例1の偏光板一体型導電性光学積層体においては、導電性フィルムの透明基材の遅相軸の方向と偏光板素子フィルムの吸収軸とのなす角度が0°となるように配置した。
上記の導電性フィルムに、偏光素子フィルム、偏光子保護シートの順に貼り合せ、偏光板一体型導電性光学積層体を作製した。偏光素子フィルムは、PVA系フィルムを一軸延伸する工程、該PVA系フィルムを二色性色素で染色して、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたPVA系フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程、及び、これらの工程が施されて二色性色素が吸着配向された一軸延伸PVA系フィルムを偏光素子フィルムとし、導電性フィルムを偏光素子フィルムの一方の面に、偏光子保護シートを他方の面に貼り付ける工程を経て製造した。偏光子保護シートとしては、膜厚80μm、寸法変化率0.76%のトリアセチルセルロース基材(TD80ULM 富士フィルム社製)を用いた。尚、実施例1の偏光板一体型導電性光学積層体においては、導電性フィルムの透明基材の遅相軸の方向と偏光板素子フィルムの吸収軸とのなす角度が0°となるように配置した。
<タッチパネル装置作成>
次に、液晶モニター(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan社製))の観測者側の面に、得られた偏光板一体型導電性光学積層体を配置し、タッチパネル装置を作成した。
次に、液晶モニター(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan社製))の観測者側の面に、得られた偏光板一体型導電性光学積層体を配置し、タッチパネル装置を作成した。
(実施例2)
透明基材として、アクリル樹脂からなる透明基材を用いた。この透明基材は、面内リタデーション=1.2nm、膜厚=80μm、Δn=0.000015。寸法変化率0.44%であった。このアクリル樹脂からなる透明基材を用いた以外は、実施例1と同様にして偏光板一体型光学積層体を製造した。
透明基材として、アクリル樹脂からなる透明基材を用いた。この透明基材は、面内リタデーション=1.2nm、膜厚=80μm、Δn=0.000015。寸法変化率0.44%であった。このアクリル樹脂からなる透明基材を用いた以外は、実施例1と同様にして偏光板一体型光学積層体を製造した。
(実施例3)
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を30°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を30°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(実施例4)
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を60°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を60°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(実施例5)
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を90°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を90°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(実施例6)
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を45°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸の方向と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を45°とした以外は、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(実施例7)
実施例1における透明基材に替えて、下記の透明基材を用いた。その他については、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。この実施例7に用いた透明基材は、実施例1における透明基材の作成における延伸倍率を調整して得た、リタデーション=2800nm、膜厚=100μm、Δn=0.028の透明基材である。この透明基材の寸法変化率は0.10%であった。
実施例1における透明基材に替えて、下記の透明基材を用いた。その他については、実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。この実施例7に用いた透明基材は、実施例1における透明基材の作成における延伸倍率を調整して得た、リタデーション=2800nm、膜厚=100μm、Δn=0.028の透明基材である。この透明基材の寸法変化率は0.10%であった。
(比較例1)
実施例1における透明基材に替えて、透明基材として、トリアセチルセルロース基材(TD80ULM 富士フイルム社製)を用いた。この透明基材は、リタデーション=5.6nm、膜厚=80μm、Δn=0.00007、寸法変化率0.76%であった。この透明基材を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
実施例1における透明基材に替えて、透明基材として、トリアセチルセルロース基材(TD80ULM 富士フイルム社製)を用いた。この透明基材は、リタデーション=5.6nm、膜厚=80μm、Δn=0.00007、寸法変化率0.76%であった。この透明基材を用いた以外は、実施例1と同様にして実施例1と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
<カール評価>
各実施例、比較例において作成したタッチパネル装置における、偏光板一体型導電性光学積層体と液晶セルを一体化した部材を、30℃60%RHの条件下で、1週間放置した後にカール量を測定した。測定は、カールの凸面を水平台の上に置き、台からもっともカールの大きい端面までの高さを測定してカール値とした。カールは、カール値を液晶モニターのインチサイズで割った値C/Sで示し、その値を以下の基準に従い評価した。
A:C/S<0.002。
B:0.002≦C/S<0.005。
C:C/S≧0.005
各実施例、比較例において作成したタッチパネル装置における、偏光板一体型導電性光学積層体と液晶セルを一体化した部材を、30℃60%RHの条件下で、1週間放置した後にカール量を測定した。測定は、カールの凸面を水平台の上に置き、台からもっともカールの大きい端面までの高さを測定してカール値とした。カールは、カール値を液晶モニターのインチサイズで割った値C/Sで示し、その値を以下の基準に従い評価した。
A:C/S<0.002。
B:0.002≦C/S<0.005。
C:C/S≧0.005
<ニジムラ評価>
実施例1〜7、比較例1にて作成したタッチパネル装置を、暗所及び明所(液晶モニター周辺照度400ルクス)にて、5人の人間が、正面及び斜め方向(約50度)から目視及び、明所においては更に偏光サングラス越しに、表示画像の観測を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。
A:ニジムラが観測されない。
B:ニジムラが観測されるが、薄く、実使用上問題ないレベル。
C:ニジムラが観測される。
D:ニジムラが強く観測される。
実施例1〜7、比較例1にて作成したタッチパネル装置を、暗所及び明所(液晶モニター周辺照度400ルクス)にて、5人の人間が、正面及び斜め方向(約50度)から目視及び、明所においては更に偏光サングラス越しに、表示画像の観測を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。
A:ニジムラが観測されない。
B:ニジムラが観測されるが、薄く、実使用上問題ないレベル。
C:ニジムラが観測される。
D:ニジムラが強く観測される。
尚、より実製品に近い例として、上記カール評価試験後の実施例、比較例の各部材をタッチパネル装置に組み込んで画像表示を行ったところ、寸法変化率が、0.6%以下である透明基材を用いた実施例のタッチパネル装置においては、いずれも、モアレや輝度ムラ等の表示品位の低下は全く観測されなかったが、寸法変化率の大きな比較例のタッチパネル装置においては、若干の輝度ムラや、目視における表示画像のウネリ、画面端からの観察として下部バックライトからの光もれが観測された。
又、偏光板一体型導電性光学積層体を積層した実施例のタッチパネル装置は、リタデーションが3000nm以上の透明基材を用いることにより、ニジムラを抑制できることが分る。尚、偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度が0°±30°又は90°±30°の範囲にあるタッチパネル装置は、明所及び暗所における目視のニジムラの評価に優れるものであった。これに対して、同角度が45°であった実施例6に係るタッチパネル装置は、明所での偏光サングラス越しでのニジムラ評価に劣るものではあったが、暗所でのニジムラ評価は良好であり、実用上好ましい範囲に、ニジムラを抑制できるものとなっている。
(変形例)
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を任意の角度とし、それ以外は、実施例1と同様の方法で作成したタッチパネル装置については、暗所での使用において実用上好ましい範囲に、ニジムラを抑制できるものとなっている。
偏光板一体型導電性光学積層体における透明基材の遅相軸と偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度を任意の角度とし、それ以外は、実施例1と同様の方法で作成したタッチパネル装置については、暗所での使用において実用上好ましい範囲に、ニジムラを抑制できるものとなっている。
以上、実施例より、本発明の偏光板一体型導電性光学積層体及びそれを用いたタッチパネル装置は、画面にニジムラが生じることを極めて高度に抑制でき、高品質が要求されるタッチパネル装置に適用することができることが理解できる。
<電磁波遮蔽性能評価>
実施例1の偏光板一体型導電性光学積層体の電磁波遮蔽性能を評価した。
即ち、先ず、テレビジョン受像装置として、WOOO(日立製作所社製、商品名)から既存の前面フィルタを取り外したものを用意し、その前面硝子板の表面に実施例1の偏光板一体型導電性光学積層体に用いた導電性フィルムを貼着した。そして、周縁部に露出した導電性フィルムに接地加工を施したものを実施例1の評価用テレビジョン受像装置として準備した。
実施例1の偏光板一体型導電性光学積層体の電磁波遮蔽性能を評価した。
即ち、先ず、テレビジョン受像装置として、WOOO(日立製作所社製、商品名)から既存の前面フィルタを取り外したものを用意し、その前面硝子板の表面に実施例1の偏光板一体型導電性光学積層体に用いた導電性フィルムを貼着した。そして、周縁部に露出した導電性フィルムに接地加工を施したものを実施例1の評価用テレビジョン受像装置として準備した。
電磁波遮蔽性は、評価用テレビジョン受像装置を電磁波遮蔽材評価装置((株)アドバンテスト製、TR17301A)を用いて電磁波遮蔽特性を測定した結果が、200〜600MHzの範囲で−30デシベル程度以下の遮蔽特性を有するものを「良好」として評価し、−30デシベル程度より高い遮蔽特性を有するものを「不良」として評価した。
評価結果は、「良好」であった。
以上よりの本発明の偏光板一体型導電性光学積層体は、タッチパネル方式の液晶表示装置に代表される表示装置において、優れた電磁波遮蔽性を発揮し、又、表示装置の画像等の品質向上にも大きく寄与できる物であることが分る。
1 偏光板一体型導電性光学積層体
11 導電性フィルム
111 透明基材
112 導電層
12 偏光素子フィルム
2 タッチパネルユニット
3 偏光板
4 液晶パネルユニット
41 液晶層
42 ガラス板
43 カラーフィルター
5 バックライト
10 タッチパネル装置
11 導電性フィルム
111 透明基材
112 導電層
12 偏光素子フィルム
2 タッチパネルユニット
3 偏光板
4 液晶パネルユニット
41 液晶層
42 ガラス板
43 カラーフィルター
5 バックライト
10 タッチパネル装置
Claims (14)
- 透明基材上に導電層が積層されてなる導電性フィルムと、
偏光素子フィルムと、が積層されている偏光板一体型導電性光学積層体であって、
前記透明基材は、湿度に対する寸法変化率が0.6%以下である偏光板一体型導電性光学積層体。 - 前記透明基材は、3000nm以上のリタデーションを有する請求項1に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記透明基材は、面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸の方向の屈折率(nx)と、前記遅相軸の方向と直交する方向である進相軸の方向の屈折率(ny)との差(nx−ny)が、0.05以上である請求項1又は2に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記偏光素子フィルムの吸収軸と前記透明基材とが、該偏光素子フィルムの吸収軸と該透明基材の前記遅相軸のなす角度が、0°±30°又は90°±30°となるように積層されている請求項2又は3に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記偏光素子フィルムの吸収軸と前記透明基材とが、該偏光素子フィルムの吸収軸と該透明基材の前記遅相軸のなす角度が、45°±30°となるように積層されている請求項2又は3に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記透明基材は、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、(メタ)アクロニトリル系樹脂、及び、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択されるいずれか1種の材料からなる請求項1から5のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記透明基材は、ポリエチレンテレフタレートである請求項6に記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記導電層は、透明導電性材料からなる導電膜である請求項1から7のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 前記導電層は、開口部と不透明部を有する実質的に透明なパターンからなり、不透明部が金属又は導電性インキからなる請求項1から8のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体。
- 請求項1から9のいずれかに記載の偏光板一体型導電性光学積層体と、
液晶パネルユニットと、を備える表示装置。 - 前記偏光板一体型導電性光学積層体が、前記液晶パネルユニットの出光面側の面上に配置されている請求項10に記載の表示装置。
- 請求項10又は11に記載の表示装置であって、
前記液晶パネルユニットとは反対側の位置にタッチパネルユニットを備えるタッチパネル方式の表示装置。 - 前記導電層が接地されており、前記導電性フィルムが電磁波遮蔽機能を有する請求項10から12に記載の表示装置。
- 一次光源が白色LEDである請求項10から13に記載の表示装置。
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