JP2013543060A - 電解質溶液及び電気化学的な表面改変方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、同一出願人による出願であって、本出願と共に出願された「電解質溶液及び電解研磨方法」という発明の名称の出願と関連する。
通常、αケース除去及びクラック調節は、電解研磨方法で改善されなかった。先行技術の電解研磨において使用される典型的な電解質溶液中に見出される強酸成分は、結果として、水素を金属表面中に移動させ、クラックを更に深くさせうる攻撃的且つ制御の利かないエッチングを引き起こす。強酸成分が存在せず、弱酸及びABFの溶液を用いた、新たな電解研磨槽化学物質の開発において、本発明者は、電解研磨によって、αケース除去及びクラック調節の両者が効果的に改善できたことを発見した。そこで、電解研磨方法による酸化物除去及びクラック調節方法を本明細書において開示する。これらの方法では、これらの方法に適した新規の槽化学物質を用いる。
約0.1重量%〜約59重量%の濃度範囲のカルボン酸;及び
約0.1重量%〜約25重量%の濃度範囲のフッ化物塩
を含み、実質的に強酸を含まない水系電解質溶液。
以下を含む水系電解質溶液であって、
約1.665g/L以上約982g/L以下のクエン酸;及び
約2g/L以上約360g/L以下のフッ化物塩としての二フッ化水素アンモニウム
実質的に強酸を含まない該電解質溶液。
非鉄金属加工物の表面を処理する方法であって、以下のステップを含む方法;
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約300g/L以下の濃度範囲のクエン酸;及び
約10g/L以上の濃度範囲の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
約54℃以上になるように前記槽の温度を制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に電流を与えるステップ。
非鉄金属加工物の表面中のクラックを調節する方法であって、以下のステップを含む方法;
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約300g/L以下の濃度のクエン酸;及び
約60g/L以上の濃度の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
槽の温度を約54℃以上になるように制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に約53.8A/m2未満の電流を与えるステップ。
非鉄金属加工物の表面から金属酸化物を除去する方法であって、以下のステップを含む方法;
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約60g/L以下の濃度のクエン酸;及び
約60g/L以上の濃度の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
槽の温度を約54℃以上になるように制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に約53.8A/m2未満の電流を与えるステップ。
チタンまたはチタン合金加工物の表面からアルファケースを除去する方法であって、以下のステップを含む該方法:
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約60g/L以下の濃度のクエン酸;及び
約60g/L以上の濃度の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
前記槽の温度を約54℃以上になるように制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に約53.8A/m2未満の電流を与えるステップ。
本明細書では、反応性金属(チタン及びチタン合金を含むがこれらに限定されない)の表面処理に特に有用である水系電解質溶液について開示する。比較的少量のフッ化物塩及びカルボン酸が水中に溶解しており、溶液が実質的に強酸を有さないように、実質的に強酸(例えば鉱酸)が欠乏している。本発明の電解質溶液は、反応性金属(チタン及びチタン合金を含むがこれらに限定されない)の表面処理用の電解質槽においてのこれまでの試み(典型的には強酸を用い、電解質溶液の水量は絶対最小量に維持する必要があった)からすれば、特筆すべき発展である。
本明細書で開示する水系電解質溶液は、表面のクラックの底部を調節または丸めるために使用することができ、これにより、鋭くとがったクラックの先端を除外することができる。該先端は、金属の表面において様々な深さで形成されるものである。そして、反応性金属のファミリーの中で最も有害たる物として、以下の物が挙げられるがこれらに限定されない:チタン及びチタン合金、ニッケル基合金、ジルコニウムなど。これらの金属は、酸素を含む雰囲気下で上昇した温度からの冷却が行われた時点でクラックを形成する。例えば、こうした表面クラックは、以下にあげる処理からの冷却時に生じる可能性があるが、これらに限定されない:熱を伴う処理(例えば、鍛造、圧延、超塑性成形など)、溶接、及び加熱処理。更には、水系電解質溶液は、比較的ロスを生じることがほとんどなく、これらのクラックを調節することができる。丸められた又は調整されたクラックの先端は、その後の金属熱処理に適する。その理由として、こうしたクラックは、その後の熱間加工において治癒を行うことができるからである。一方で、典型的な金属冷却クラックは、完全に除去しないと、次の処理で伝播し(runs)、金属が割離するか、または割れる。
Claims (14)
- 約0.1重量%〜約59重量%の濃度範囲のカルボン酸;及び
約0.1重量%〜約25重量%の濃度範囲のフッ化物塩
を含み、実質的に強酸を含まない水系電解質溶液。 - 請求項1に記載の電解質溶液であって、前記フッ化物塩がアルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物、シリケートエッチング化合物、及びこれらの組合せからなる群から選択される該電解質溶液。
- 請求項2に記載の電解質溶液であって、前記フッ化物塩が二フッ化水素アンモニウムである該電解質溶液。
- 請求項1に記載の電解質溶液であって、前記カルボン酸がクエン酸である該電解質溶液。
- 以下を含む水系電解質溶液であって、
約1.665g/L以上約982g/L以下のクエン酸;及び
約2g/L以上約360g/L以下のフッ化物塩としての二フッ化水素アンモニウム
実質的に強酸を含まない該電解質溶液。 - 非鉄金属加工物の表面を処理する方法であって、以下のステップを含む方法;
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約300g/L以下の濃度範囲のクエン酸;及び
約10g/L以上の濃度範囲の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
約54℃以上になるように前記槽の温度を制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に電流を与えるステップ。 - 請求項6に記載の方法であって、前記槽の温度を約71℃以上に制御する該方法。
- 請求項6に記載の方法であって、前記槽内に与えた電流が約538A/m2以下である該方法。
- 請求項8に記載の方法であって、前記槽内に与えた電流が約53.8A/m2以下である該方法。
- 請求項6に記載の方法であって、前記クエン酸濃度が約60g/L未満である方法。
- 請求項6に記載の方法であって、前記二フッ化水素アンモニウム濃度が約60g/L以上である該方法。
- 非鉄金属加工物の表面中のクラックを調節する方法であって、以下のステップを含む方法;
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約600g/L以下の濃度のクエン酸;及び
約60g/L以上の濃度の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
槽の温度を約54℃以上になるように制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に約53.8A/m2未満の電流を与えるステップ。 - 非鉄金属加工物の表面から金属酸化物を除去する方法であって、以下のステップを含む方法;
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約60g/L以下の濃度のクエン酸;及び
約60g/L以上の濃度の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
槽の温度を約54℃以上になるように制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に約53.8A/m2未満の電流を与えるステップ。 - チタンまたはチタン合金加工物の表面からアルファケースを除去する方法であって、以下のステップを含む該方法:
前記表面を水系電解質溶液槽に曝すステップ
(ここで、前記水系電解質溶液は:
約60g/L以下の濃度のクエン酸;及び
約60g/L以上の濃度の二フッ化水素アンモニウムを含み;並びに
強酸が約3.35g/L以下である);
前記槽の温度を約54℃以上になるように制御するステップ;
DC電源の陽極に前記加工物を接続し、且つ前記DC電源の陰極を前記槽内に浸漬するステップ;並びに
前記槽に約53.8A/m2未満の電流を与えるステップ。
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EP3640372A1 (de) * | 2018-10-18 | 2020-04-22 | Hirtenberger Engineered Surfaces GmbH | Verfahren zum entfernen von metallischen stützstrukturen an einem additiv gefertigten metallbauteil |
IT202100025232A1 (it) * | 2021-10-01 | 2023-04-01 | T A G Srl | Metodo di rimozione di un rivestimento di barriera termica ceramica |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63195300A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Mitsubishi Metal Corp | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 |
JP2003027296A (ja) * | 2001-07-06 | 2003-01-29 | Chemical Yamamoto:Kk | ステンレス鋼表面の清浄、不動態化処理方法 |
JP2004207718A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Hc Starck Gmbh | ニオブまたはタンタルの成形品を電気化学エッチングで製造する方法 |
JP2007231413A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-09-13 | Chiaki Taguchi | ステンレス鋼の電解研磨法に用いる電解液 |
JP2009108405A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-05-21 | Ebara Corp | 基板を電解研磨する方法及び電解研磨装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4220509A (en) * | 1979-07-30 | 1980-09-02 | Karyazin Pavel P | Electrolyte for electrochemical polishing of articles made of titanium and titanium alloys |
SU876808A1 (ru) * | 1979-11-29 | 1981-10-30 | Харьковский Государственный Педагогический Институт Им.Г.С.Сковороды | Раствор дл электрохимического полировани изделий из ниоби |
SU1059937A1 (ru) * | 1982-05-11 | 1986-02-07 | Организация П/Я В-2108 | Способ обработки поверхности молибдена |
RU1225282C (ru) * | 1983-11-21 | 1995-10-20 | Московский электроламповый завод | Раствор для электрохимического травления молибдена и его сплавов |
SU1236018A1 (ru) * | 1984-08-09 | 1986-06-07 | Харьковский Ордена Ленина Политехнический Институт Им.В.И.Ленина | Раствор дл электрохимической обработки титана и его сплавов |
SU1236081A1 (ru) * | 1984-12-17 | 1986-06-07 | Московский Ордена Трудового Красного Знамени Инженерно-Строительный Институт Им.В.В.Куйбышева | Способ изготовлени греющего щита опалубки |
WO1990000476A1 (en) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | The Regents Of The University Of California | Planarized interconnect etchback |
RU2046158C1 (ru) * | 1990-08-17 | 1995-10-20 | Акимов Евгений Николаевич | Способ анодной обработки заготовок из легированной и высоколегированной стали |
US5417819A (en) * | 1994-01-21 | 1995-05-23 | Aluminum Company Of America | Method for desmutting aluminum alloys having a highly reflective surface |
US5567300A (en) * | 1994-09-02 | 1996-10-22 | Ibm Corporation | Electrochemical metal removal technique for planarization of surfaces |
FR2795433B1 (fr) * | 1999-06-25 | 2001-08-31 | Org Europeene De Rech | Composition de bain pour le polissage electrolytique du titane, et son procede d'utilisation |
RU2227818C1 (ru) * | 2002-11-28 | 2004-04-27 | Костромской государственный технологический университет | Способ электрохимического полирования серебра и его сплавов импульсным током |
KR20040059132A (ko) * | 2002-12-28 | 2004-07-05 | 주식회사 포스코 | 우수한 내식성 및 용접성을 갖는 도금강판 및 이에사용되는 도금용액 |
KR100680255B1 (ko) * | 2003-11-24 | 2007-02-09 | 신홍섭 | 마그네슘 및 마그네슘 합금의 친환경적 표면처리방법 |
ES2301049T3 (es) * | 2004-09-25 | 2008-06-16 | Chemetall Gmbh | Procedimiento para eliminar escoria de laser. |
KR20070006061A (ko) * | 2005-07-07 | 2007-01-11 | 한국아이디켐주식회사 | 금속 세정제 |
DE102006047713B3 (de) * | 2006-10-09 | 2008-03-27 | Poligrat Gmbh | Elektropolierverfahren für Niob und Tantal und Elektrolyt |
RU2373306C2 (ru) * | 2007-06-25 | 2009-11-20 | ООО "НПП Уралавиаспецтехнология" | Способ многоэтапного электролитно-плазменного полирования изделий из титана и титановых сплавов |
KR100976787B1 (ko) * | 2008-04-25 | 2010-08-18 | 남동화학(주) | 전기아연도금강판 제조용 하지도금용액으로서의철도금용액과 철도금용액이 하지도금액으로 도금된전기아연도금강판 및 그 제조방법 |
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Patent Citations (5)
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JPS63195300A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Mitsubishi Metal Corp | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 |
JP2003027296A (ja) * | 2001-07-06 | 2003-01-29 | Chemical Yamamoto:Kk | ステンレス鋼表面の清浄、不動態化処理方法 |
JP2004207718A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Hc Starck Gmbh | ニオブまたはタンタルの成形品を電気化学エッチングで製造する方法 |
JP2007231413A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-09-13 | Chiaki Taguchi | ステンレス鋼の電解研磨法に用いる電解液 |
JP2009108405A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-05-21 | Ebara Corp | 基板を電解研磨する方法及び電解研磨装置 |
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