JP2013533615A - マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図1
Description
本出願は、両方共に2010年6月10日出願のドイツ特許出願DE 10 2010 029 905.7及びUS 61/353,250に対する優先権を請求する。これらの出願の内容は、引用によって本明細書に組み込まれている。
10 照明系
11 光学ユニット
12 偏向ミラー
20 投影対物系
300 偏光影響光学配置
Claims (24)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列(200)と、
第1のλ/2板(310,810,910)と少なくとも1つの第2のλ/2板(320,920,930)とを含む偏光影響光学配置(300,800,900)と、
を含むことを特徴とする光学系。 - 前記第1のλ/2板(310)と前記第2のλ/2板(320)は、光伝播方向に関して光学系内に連続して配置されることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)と前記第2のλ/2(320)は、それらの相対位置において互いに対して変位可能であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)及び前記第2のλ/2板(320)の互いに対するそれらの相対位置における変位機能が、該λ/2板の少なくとも一方の平行移動変位及び/又は該λ/2板の少なくとも一方の回転を含むことを特徴とする請求項3に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)及び前記第2のλ/2板(320)の互いに対するそれらの相対位置における前記変位機能は、互いに異なる空間方向、特に互いに垂直の空間方向に実行することができることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)と前記第2のλ/2板(320)は、前記光伝播方向に可変である重ね合わせ度を伴って互いに対して変位可能であることを特徴とする請求項3から請求項5のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)及び/又は前記第2のλ/2板(320)は、それぞれの該λ/2板が前記ミラー配列(200)の光学的有効領域の完全に外側にある第1の位置と、該それぞれのλ/2板が該ミラー配列(200)の該光学有効領域の完全に内側に配置される第2の位置との間で変位可能であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)は、複屈折の第1の速軸(fa−1)を有し、前記第2のλ/2板(320)は、複屈折の第2の速軸(fa−2)を有し、
前記第1の速軸(fa−1)の向きと前記第2の速軸(fa−2)の向きが、互いに異なっている、
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。 - 前記第1の速軸(fa−1)と前記第2の速軸(fa−2)は、互いに対して45°±5°の角度で配置されることを特徴とする請求項8に記載の光学系。
- 前記第1の速軸(fa−1)は、前記配列(300)上に入射する光ビームの優先偏光方向に対して22.5°±2°の角度で延び、前記第2の速軸(fa−2)は、該配列(300)上に入射する光ビームの該優先偏光方向に対して−22.5°±2°の角度で延びることを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)のみを通過する第1の直線偏光光ビームの振動平面が、第1の回転角を通して回転され、前記第2のλ/2板(320)のみを通過する第2の直線偏光光ビームの該振動平面は、第2の回転角を通して回転され、該第1の回転角は、該第2の回転角とは異なることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1の回転角と前記第2の回転角は、量に関して同じであり、かつ反対の符号のものであることを特徴とする請求項11に記載の光学系。
- 前記第1のλ/2板(310)と前記第2のλ/2板(320)は、互いに重なる領域内で90°回転子を形成することを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響光学配置(300)は、厳密に2つのλ/2板(310,320)を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響光学配置(800,900)は、少なくとも3つ、特に少なくとも7つのλ/2板(810,820,830;910〜970)を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記偏光影響光学配置(300,800,900)は、それが、該光学系の作動時に前記ミラー配列(200)との組合せで、該配置上に入射する光ビームの光ビーム断面にわたって一定である優先偏光方向を有する直線偏光分布を近似的にタンジェンシャルな偏光分布に変換する方法で調節可能であることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の光学系。
- 光学活性材料から生成され、かつ変化する厚みプロフィールを有する偏光影響光学要素(400)を更に有することを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の光学系。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
照明系と、
投影対物系と、
を含み、
前記照明系(110)及び/又は前記投影対物系(130)は、請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 照明系(10)の光源を用いて生成された光が、投影対物系(20)の物体平面を照明するための投影露光装置に給送され、かつ該物体平面が、該投影対物系(20)を用いて該投影対物系(20)の像平面内に結像されるマイクロリソグラフィ露光方法であって、
照明系において、
ミラー配列によって反射される光の角度分布を変更するために互いに独立して変位可能である複数のミラー要素を有する少なくとも1つのミラー配列(200)と、
第1のλ/2板(310,810,910)と少なくとも1つの第2のλ/2板(320,920,930)とを含む偏光影響光学配置(300,800,900)と、
が使用される、
ことを特徴とする方法。 - 少なくとも2つの互いに異なる照明設定が、前記第1のλ/2板(310,810,910)と前記第2のλ/2板(320,920,930)との相対位置を変更することによって調節されることを特徴とする請求項19に記載の方法。
- 前記照明設定のうちの少なくとも1つを調節する時に、前記第1のλ/2板(310,810,910)と前記第2のλ/2板(320,920,930)は、それらが前記光伝播方向に部分的に互いに重なって少なくとも1つの重複領域及び少なくとも1つの非重複領域を形成するように配置されることを特徴とする請求項20に記載の方法。
- 前記照明設定のうちの前記少なくとも1つを調節するために、前記重複領域及び同じく前記非重複領域の両方が、少なくとも部分的に照明されることを特徴とする請求項21に記載の方法。
- 前記ミラー配列(200)の異なるミラー要素によって反射され、かつ前記偏光影響配列(300)の作用の結果として異なる偏光方向を有する少なくとも2つのビーム部分が、相互に重ね合わされることを特徴とする請求項19から請求項22のいずれか1項に記載の方法。
- 微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産のための処理であって、
感光材料の層が少なくとも部分的に付加された基板(40)を準備する段階と、
結像される構造を有するマスク(30)を準備する段階と、
請求項18に記載の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置を準備する段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスク(30)の少なくとも一部を前記層の領域の上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする処理。
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