JP2013528454A - 傾斜された位相格子構造 - Google Patents
傾斜された位相格子構造 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013528454A JP2013528454A JP2013514700A JP2013514700A JP2013528454A JP 2013528454 A JP2013528454 A JP 2013528454A JP 2013514700 A JP2013514700 A JP 2013514700A JP 2013514700 A JP2013514700 A JP 2013514700A JP 2013528454 A JP2013528454 A JP 2013528454A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- phase
- ribs
- rotation
- interferometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 10
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 3
- 238000002583 angiography Methods 0.000 claims description 2
- 238000009607 mammography Methods 0.000 claims description 2
- 238000002601 radiography Methods 0.000 claims description 2
- 238000009659 non-destructive testing Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000009548 contrast radiography Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 2
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 2
- 241000416536 Euproctis pseudoconspersa Species 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 1
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000010603 microCT Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/48—Diagnostic techniques
- A61B6/484—Diagnostic techniques involving phase contrast X-ray imaging
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/42—Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4291—Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis the detector being combined with a grid or grating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1866—Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
- G02B5/1871—Transmissive phase gratings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/02—Arrangements for diagnosis sequentially in different planes; Stereoscopic radiation diagnosis
- A61B6/03—Computed tomography [CT]
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/40—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4064—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis specially adapted for producing a particular type of beam
- A61B6/4092—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis specially adapted for producing a particular type of beam for producing synchrotron radiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/50—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment specially adapted for specific body parts; specially adapted for specific clinical applications
- A61B6/502—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment specially adapted for specific body parts; specially adapted for specific clinical applications for diagnosis of breast, i.e. mammography
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/50—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment specially adapted for specific body parts; specially adapted for specific clinical applications
- A61B6/504—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment specially adapted for specific body parts; specially adapted for specific clinical applications for diagnosis of blood vessels, e.g. by angiography
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Public Health (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Surgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
Description
平行な放射幾何学に関してdmは次式の値を取る。
λ(ラムダ)=波長、
p1=g1(位相格子)の格子周期、
m=奇数の整数=分数タルボ距離の次数。
術語「干渉計」乃至「格子干渉計」は、本発明の範囲において、タルボ効果を利用して動作する装置に関する。
以下の記述及び添付の図面では、明細書及び図面における同一の部分乃至特徴が同一の参照符号によって表されている。図面は縮尺通りのものではない。見やすくするため、また分かりやすくするために、本発明の幾つかの特徴を過度に大きく、又は概略的な形で図示している場合もあり、従って同様に、慣例もしくは公知の構成要素の幾つかの詳細を図示していない場合もある。
a)格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、干渉計構造における格子構造を入射方向乃至光学軸に対して傾斜させることによって、及び/又は、
b)それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造を傾斜させて製造することによって得られる。
−組み立て後に事後的に所望される傾斜、又は、
−組み立て時に所望された傾斜であると解される。
i)格子リブに平行に延在する格子中心軸についての格子の回転に応じて、入射方向乃至光学軸に対して、干渉計構造において傾斜されている位相格子、及び/又は、
ii)それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造が傾斜されて配置されている位相格子が使用される。
p’=(1−cosΘ)*p,Δp=p*cosΘ
−分析格子G2の周期を有するマスターマスクが使用され、
−直接的な垂直方向の露光によって分析格子G2が形成され、
−所定の傾斜角度での露光又は配置によって、格子周期G1を用いた投影によって位相格子G1が形成される、
ことを特徴としている。
格子の製造公差が例えば10nm(格子マスクの製造に使用される電子ビームリソグラフィの公差)である場合、独立した格子では周期を絶対的に20nmだけ偏差させることができるか、又は、格子構造全体にわたり20nmだけ変動させることができる。周期が2μmの場合には、このことは、100*2μm=200μmの周期を有するモアレパターンが生じることを意味する。
図1:
この図は、垂直方向に構造化された格子における傾斜を示す。格子構造が基板4上に垂直に製造され、続いて格子構造が干渉計構造において所望の角度だけ傾斜された位相格子が表されている。
図2は、本発明による第2のヴァリエーションを示す。このヴァリエーションにおいては、通常の構造に必要とされる数度の角度(周期長)を有する構造が基板4上に製造され、基板がこの角度で(同期)放射内に設置される。
この場合、放射は構造を直線的に通過する。
この図は本発明による第2のヴァリエーションの利点を示す。何故ならば、タルボ距離が変化した際の角度変化は小さく、それどころか1°よりも小さい範囲にあるので、この変化を、前述の角度から出発して、画像の品質の極僅かな劣化でもって実現することができるからである。薄板構造の構造が非常に高い場合であっても覆われることはなく、また吸収プロファイルにおける側縁の勾配も高いままである。
82keVのX線エネルギーでの硬貨の位相コントラストラジオグラフィの記録を示す。
左:発散が補償されていない格子を用いた記録(ここで、発散の補償とは傾斜されていること、また状況及び周期に適合されていることを意味する)。右:発散がほぼ完全に補償された格子を用いた記録(ここで具体的には、155mのソース距離、2.4μmの格子周期、格子間の距離55cmでの5°の発散補償が行われている)。
位相コントラスト像がよりシャープになり、付加的な輝度変調を含んでいないことがはっきりと見て取れる。
Claims (10)
- 格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、又は、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて傾斜されている位相格子構造を備えていることを特徴とする、格子干渉計。
- 前記傾斜された位相格子構造は、
a)格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、干渉計構造における格子構造を入射方向に対して傾斜させることによって、及び/又は、
b)それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、前記位相格子の基板上に前記格子構造を傾斜させて製造することによって得られる、請求項1に記載の格子干渉計。 - 入射方向に対する位相格子の傾斜は外部から制御可能乃至調整可能である、請求項1又は2に記載の格子干渉計。
- 交換可能な複数の位相格子を含んでいる、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の格子干渉計。
- それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造が傾斜されて配置されていることを特徴とする、干渉計用の位相格子。
- タルボ効果を基礎とする干渉計乃至用途において位相コントラスト像の画像品質を向上させるための方法において、
i)格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、干渉計構造において入射方向に対して傾斜されている位相格子を使用する、及び/又は、
ii)それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に格子構造が傾斜されて配置されている位相格子を使用することを特徴とする、位相コントラスト像の画像品質を向上させるための方法。 - それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて、位相格子の基板上に傾斜された格子構造を製造するための方法であって、
X線干渉計のための位相格子及び分析格子を同一のマスターマスクから製造する方法において、
−分析格子の周期を有するマスターマスクを使用し、
−直接的な垂直方向の露光によって分析格子を形成し、
−所定の傾斜角度での露光又は配置によって、格子周期を用いた投影によって位相格子を形成することを特徴とする、方法。 - 電子ビームリソグラフィによって製造されたマスターマスクを用いて前記格子を製造する、請求項7に記載の方法。
- 特に画像品質を向上乃至改善するための、干渉計における位相格子としての、格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、又は、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて傾斜されている位相格子構造の使用。
- 医療技術のX線を基礎とするシステム、材料及び構成要素の非破壊検査のための装置、コンピュータトモグラフのガントリーユニット、マイクロCT装置におけるX線光学系、医療用ラジオグラフィ(マンモグラフィ)もしくは血管造影法のためのレントゲン光学システムにおける位相格子としての、格子リブに平行に延在する格子中心軸についてのそれぞれの格子の回転に応じて、又は、それぞれが格子中心軸に平行に配置されている長手方向軸についての個々の格子リブの回転に応じて傾斜されている位相格子構造の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102010017425A DE102010017425A1 (de) | 2010-06-17 | 2010-06-17 | Geneigte Phasengitterstrukturen |
DE102010017425.4 | 2010-06-17 | ||
PCT/EP2011/059940 WO2011157749A1 (de) | 2010-06-17 | 2011-06-15 | Geneigte phasengitterstrukturen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013528454A true JP2013528454A (ja) | 2013-07-11 |
JP6053674B2 JP6053674B2 (ja) | 2016-12-27 |
Family
ID=44629215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013514700A Expired - Fee Related JP6053674B2 (ja) | 2010-06-17 | 2011-06-15 | 傾斜された位相格子構造 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9480447B2 (ja) |
EP (1) | EP2582300B1 (ja) |
JP (1) | JP6053674B2 (ja) |
DE (1) | DE102010017425A1 (ja) |
WO (1) | WO2011157749A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012125520A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Canon Inc | X線撮像装置およびx線撮像方法 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI20126119L (fi) | 2012-10-29 | 2014-04-30 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Interferometrinen dynaamihila-kuvannusmenetelmä, diffraktiohila ja kuvannuslaitteisto |
AU2012268876A1 (en) * | 2012-12-24 | 2014-07-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Non-linear solution for 2D phase shifting |
DE102014221599A1 (de) | 2014-10-23 | 2016-04-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung und Verfahren zur Röntgen-Phasenkontrast-Bildgebung |
DE102015201741A1 (de) | 2015-02-02 | 2016-08-04 | Siemens Healthcare Gmbh | Phasenkontrastgitter und Verfahren zur Herstellung eines Phasenkontrastgitters |
EP3534377B1 (de) * | 2018-02-28 | 2021-11-17 | Siemens Healthcare GmbH | Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturbauteils |
EP3534376A1 (de) | 2018-02-28 | 2019-09-04 | Siemens Healthcare GmbH | Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturbauteils, mikrostrukturbauteil und röntgengerät |
US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
JP7117452B2 (ja) | 2018-07-26 | 2022-08-12 | シグレイ、インコーポレイテッド | 高輝度反射型x線源 |
DE112019004478T5 (de) | 2018-09-07 | 2021-07-08 | Sigray, Inc. | System und verfahren zur röntgenanalyse mit wählbarer tiefe |
WO2021046059A1 (en) | 2019-09-03 | 2021-03-11 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
WO2021162947A1 (en) | 2020-02-10 | 2021-08-19 | Sigray, Inc. | X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal / hyperbolic surface profiles |
US11215572B2 (en) | 2020-05-18 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and a plurality of detector elements |
US11549895B2 (en) | 2020-09-17 | 2023-01-10 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
WO2022126071A1 (en) | 2020-12-07 | 2022-06-16 | Sigray, Inc. | High throughput 3d x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
US11992350B2 (en) | 2022-03-15 | 2024-05-28 | Sigray, Inc. | System and method for compact laminography utilizing microfocus transmission x-ray source and variable magnification x-ray detector |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4506949A (en) * | 1983-05-27 | 1985-03-26 | Rca Corporation | Diffractive color separation filter |
US5009484A (en) * | 1989-05-03 | 1991-04-23 | Advanced Environmental Research Group | Diffraction gratings having high efficiencies |
US5116461A (en) * | 1991-04-22 | 1992-05-26 | Motorola, Inc. | Method for fabricating an angled diffraction grating |
JPH1096807A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラフィック光学素子及びその作製方法 |
JP2000075117A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-14 | Fujitsu Ltd | 回折格子作製方法及び回折格子 |
JP2001134204A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Stanley Electric Co Ltd | 反射型ディスプレイ及びその製造方法 |
JP2005004068A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Dainippon Printing Co Ltd | スラント凹凸パターンの形成方法及びスラント凹凸パターンを有する基板 |
JP2007203064A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | X線装置の焦点‐検出器装置 |
JP2007206075A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | X線装置の焦点−検出器装置 |
JP2008545981A (ja) * | 2005-06-06 | 2008-12-18 | パウル・シェラー・インスティトゥート | 非干渉性多色x線源を用いた定量的位相コントラスト画像法及び断層撮影法のための干渉計 |
JP2010519588A (ja) * | 2007-02-23 | 2010-06-03 | ナノコンプ リミテッド | 回折格子構造及び該回折格子構造の設計方法 |
JP2011206490A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
JP2011206489A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10025694C2 (de) * | 2000-05-24 | 2003-06-05 | Zeiss Carl | Verwendung eines Beugungsgitters |
DE10143131B4 (de) * | 2001-09-03 | 2006-03-09 | Siemens Ag | Verfahren zur Ermittlung von Dichte- und Ordnungszahlverteilungen bei radiographischen Untersuchungsverfahren |
DE102006037281A1 (de) * | 2006-02-01 | 2007-08-09 | Siemens Ag | Röntgenoptisches Durchstrahlungsgitter einer Fokus-Detektor-Anordnung einer Röntgenapparatur zur Erzeugung projektiver oder tomographischer Phasenkontrastaufnahmen von einem Untersuchungsobjekt |
GB0611807D0 (en) * | 2006-06-14 | 2006-07-26 | Univ Huddersfield | A near common-path optical fibre interferometer for potentially fast on-line micro/nano scale surface measurement |
DE102008048688B4 (de) * | 2008-09-24 | 2011-08-25 | Paul Scherrer Institut | Röntgen-CT-System zur Erzeugung tomographischer Phasenkontrast- oder Dunkelfeldaufnahmen |
CN102460237B (zh) | 2009-06-16 | 2015-04-15 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 倾斜光栅和用于生产倾斜光栅的方法 |
EP2510522B1 (en) * | 2009-12-10 | 2015-12-02 | Koninklijke Philips N.V. | Non-parallel grating arrangement with on-the-fly phase stepping and x-ray system |
JP5702586B2 (ja) | 2010-02-04 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム |
-
2010
- 2010-06-17 DE DE102010017425A patent/DE102010017425A1/de not_active Ceased
-
2011
- 2011-06-15 WO PCT/EP2011/059940 patent/WO2011157749A1/de active Application Filing
- 2011-06-15 EP EP11737906.5A patent/EP2582300B1/de not_active Not-in-force
- 2011-06-15 JP JP2013514700A patent/JP6053674B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-06-15 US US13/703,824 patent/US9480447B2/en active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4506949A (en) * | 1983-05-27 | 1985-03-26 | Rca Corporation | Diffractive color separation filter |
US5009484A (en) * | 1989-05-03 | 1991-04-23 | Advanced Environmental Research Group | Diffraction gratings having high efficiencies |
US5116461A (en) * | 1991-04-22 | 1992-05-26 | Motorola, Inc. | Method for fabricating an angled diffraction grating |
JPH1096807A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラフィック光学素子及びその作製方法 |
JP2000075117A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-14 | Fujitsu Ltd | 回折格子作製方法及び回折格子 |
JP2001134204A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Stanley Electric Co Ltd | 反射型ディスプレイ及びその製造方法 |
JP2005004068A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Dainippon Printing Co Ltd | スラント凹凸パターンの形成方法及びスラント凹凸パターンを有する基板 |
JP2008545981A (ja) * | 2005-06-06 | 2008-12-18 | パウル・シェラー・インスティトゥート | 非干渉性多色x線源を用いた定量的位相コントラスト画像法及び断層撮影法のための干渉計 |
JP2007203064A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | X線装置の焦点‐検出器装置 |
JP2007206075A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | X線装置の焦点−検出器装置 |
JP2010519588A (ja) * | 2007-02-23 | 2010-06-03 | ナノコンプ リミテッド | 回折格子構造及び該回折格子構造の設計方法 |
JP2011206490A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
JP2011206489A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び放射線撮影方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012125520A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Canon Inc | X線撮像装置およびx線撮像方法 |
US9239304B2 (en) | 2010-12-17 | 2016-01-19 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray imaging apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130148780A1 (en) | 2013-06-13 |
DE102010017425A1 (de) | 2011-12-22 |
EP2582300A1 (de) | 2013-04-24 |
US9480447B2 (en) | 2016-11-01 |
JP6053674B2 (ja) | 2016-12-27 |
EP2582300B1 (de) | 2019-05-08 |
WO2011157749A1 (de) | 2011-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6053674B2 (ja) | 傾斜された位相格子構造 | |
JP7271628B2 (ja) | 検査装置の照明源、検査装置および検査方法 | |
TWI459153B (zh) | 量測方法、量測裝置、微影裝置及元件製造方法 | |
US7643149B2 (en) | Method of aligning an optical system | |
JP4482487B2 (ja) | ダイナミックピューピルフィルシアリング干渉計 | |
CN101286013B (zh) | 校准量测工具的衬底及其形成方法以及量测工具校准方法 | |
KR20200000818A (ko) | 리소그래피 마스크의 구조를 검출하기 위한 방법 및 그 방법을 수행하기 위한 장치 | |
CN107924132A (zh) | 检查设备、检查方法和制造方法 | |
CN106019855A (zh) | 基于衍射的重叠量测工具和方法 | |
CN107750350A (zh) | 量测方法、检查设备、光刻***和器件制造方法 | |
CN108431694B (zh) | 波前分析的装置与方法 | |
US9195146B2 (en) | Interference exposure device and method | |
US7088458B1 (en) | Apparatus and method for measuring an optical imaging system, and detector unit | |
US9989864B2 (en) | Lithographic method and apparatus | |
CN103917920B (zh) | 光刻设备和方法 | |
CN109426097A (zh) | 曝光装置、调整方法和物品制造方法 | |
CN111183396B (zh) | 用于确定辐射的束的对齐属性的方法和装置 | |
US11426067B2 (en) | Method and assembly for analysing the wavefront effect of an optical system | |
JP4600047B2 (ja) | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 | |
KR20210056357A (ko) | 퓨필 형상을 측정하기 위한 방법 및 장치 | |
JP2006339600A (ja) | 露光方法及び装置、並びに電子デバイス製造方法 | |
JP2006269578A (ja) | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 | |
Mohacsi et al. | High efficiency x-ray nanofocusing by the blazed stacking of binary zone plates | |
JPH06267824A (ja) | 露光方法 | |
David et al. | X-ray grating interferometry-applications in metrology and wave front sensing |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141027 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141031 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151030 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160322 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160622 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161114 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6053674 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |