JP2013519221A - 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図4
Description
[0001] 本願は、2010年2月9日に出願された米国仮特許出願第61/302,752号と、2010年3月25日に出願された第61/317,529号の優先権を主張
し、これらの出願は、参照することによりその全体を本明細書に組み込む。
ここで、λは用いられる放射の波長であり、NAはパターンのプリントに用いられる投影システムの開口数であり、k1はレイリー定数とも呼ばれる、プロセス依存型調節係数であり、CDはプリントされたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンション)である。式(1)から、フィーチャの最小プリント可能サイズの縮小は、3つの方法、すなわち、露光波長λを短くすること、開口数NAを大きくすること、またはk1の値を小さくすることによって得られることが分かる。
1.ステップモードでは、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それにより別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードでは、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードでは、通常、パルス放射源が採用され、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (15)
- リソグラフィ装置に極端紫外線ビームを供給する放射源デバイスであって、
放射生成エレメントを囲む真空チャンバと、
前記真空チャンバに水素を供給するガス供給源と、
前記真空チャンバに微量の保護化合物を供給する保護デバイスと、
を含む、放射源デバイス。 - 前記保護デバイスは、H2O、H2O2、O2、NH3、NOx、O3、CO2、およびLOXからなる群から選択される保護化合物を供給するように構成される、請求項1に記載の放射源。
- 前記放射生成エレメントは、燃料の小滴を放出する小滴ジェネレータと、前記燃料の小滴を照射するビーム生成デバイスとを含む、請求項1または2に記載の放射源。
- 前記小滴ジェネレータは、前記燃料として、液体スズの小滴を生成するように構成される、請求項3に記載の放射源。
- 前記保護デバイスは、前記真空チャンバ内の前記保護化合物の分圧が、前記真空チャンバ内の水素の分圧の約10−4倍より大きくなるような比率で前記保護化合物を供給するように構成される、請求項1から4のいずれか一項に記載の放射源。
- 前記保護デバイスは、前記真空チャンバ内の前記保護化合物の分圧が、前記真空チャンバ内の水素の分圧の約10−2倍未満となるような比率で前記保護化合物を供給するように構成される、請求項1から5のいずれか一項に記載の放射源。
- パターニング手段の像を基板上に投影するリソグラフィ装置であって、前記パターニング手段を前記放射ビームで照明するように構成された、請求項1から6のいずれか一項に記載の放射源を含む、リソグラフィ装置。
- パターン付きビームを基板上に投影するリソグラフィ装置であって、
非不活性物質を含むコンポーネントを囲む真空チャンバと、
前記真空チャンバに、前記非不活性物質と反応可能なバックグランドガスを供給するガス供給源と、
前記真空チャンバに、微量の保護化合物を供給する保護デバイスと、
を含み、
前記バックグラウンドガスではなくて、前記保護化合物が、前記非不活性物質に優先的に結合する、リソグラフィ装置。 - 前記ガス供給源は、水素を供給するように構成され、前記保護デバイスは、H2O、H2O2、O2、NH3、NOx、O3、CO2、およびLOXからなる群から選択される保護化合物を供給するように構成される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記非不活性物質は、チタン、鋼、サマリウムコバルト、ネオジウムおよびシリコンからなる群から選択される、請求項7から9のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記真空チャンバは、放射ビームをパターニング手段上に投影する照明システムを囲む、請求項8から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記真空チャンバは、パターニング手段の像を基板上に投影する投影システムを囲む、請求項8から10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
放射ビームを生成することと、
パターニング手段を使用して前記放射ビームにパターンを付与することと、
前記パターン付き放射ビームを基板上に投影することと、
前記放射ビームによって横断され、かつ、非不活性物質を含むコンポーネントを含む、前記リソグラフィ装置のチャンバに水素を供給することと、
前記チャンバに微量の保護化合物を供給することと、
を含み、
パターン付きビームを基板上に投影するためのリソグラフィ装置は、
非不活性物質を含むコンポーネントを囲む真空チャンバと、
前記真空チャンバに、前記非不活性物質と反応可能なバックグランドガスを供給するガス供給源と、
前記真空チャンバに、微量の保護化合物を供給する保護デバイスと、
を含み、
前記バックグラウンドガスではなくて、前記保護化合物が、前記非不活性物質に優先的に結合する、デバイス製造方法。 - 放射変更エレメントを囲む真空チャンバと、
前記真空チャンバに水素を供給するガス供給源と、
前記真空チャンバに微量の保護化合物を供給する保護デバイスと、
を含む、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
放射ビームにパターンを付与することと、
前記パターン付き放射ビームを基板上に投影することと、
前記放射ビームによって横断されるチャンバに水素を供給することと、
前記チャンバに微量の保護化合物を供給することと、
を含む、方法。
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