JP2013240763A - 排気浄化触媒及び排気浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内燃機関の排気を浄化する排気浄化触媒であって、同一の支持体上に担持された第1触媒及び第2触媒を備え、前記第1触媒は、固体酸性を有する担体と、当該担体上に担持された貴金属と、を有し、前記第2触媒は、CeO2を含み且つ実質的にアルカリ土類金属及びアルカリ金属を含まないNOx吸着剤と、貴金属と、を有することを特徴とする排気浄化触媒である。
【選択図】図10
Description
即ち、貴金属/酸性担体では、酸性担体の高い酸性度に基づく電子吸引作用によって、貴金属表面の電子密度が低下する。すると、リーン雰囲気中に多量に存在する酸素と貴金属との結合力が低下し、貴金属表面への酸素の吸着が抑制される。酸素の吸着が抑制されることで、貴金属表面にHCが直接吸着できるようになるため、高いHC浄化率が得られるようになる。
即ち、従来では、LNT中のNOx吸着剤を構成するアルカリ金属やアルカリ土類金属が塩基性であることから、これらによる電子供与作用によって酸性担体の電子吸引作用が阻害され、貴金属表面の電子密度が高くなる。すると、貴金属と酸素との結合力が高くなり、貴金属表面への酸素の吸着が促進される。加えて、例えばリーン運転中のエンジンから排出される排気中には、ストイキ運転時と比べてHCとしてパラフィンが多く含まれており、パラフィンは構造的にオレフィンやアロマに比して反応性が低いため、特にパラフィンの浄化率が大きく低下する。これにより、HCの浄化率が低下する。
これにより、CeO2はアルカリ金属やアルカリ土類金属に比して塩基性が低いことから、酸性担体の電子吸引作用に大きな影響を及ぼすことがなく、貴金属表面の電子密度を低下させることができる。ひいては、貴金属と酸素との結合力を低下させ、貴金属表面への酸素の吸着を抑制できるため、特にパラフィンの浄化率を向上でき、高いHC浄化率が得られる。
また、CeO2は、NOx吸着能に加えて酸素吸蔵能(OSC)も有しており、所定温度以上で活性酸素を放出する。この活性酸素は非常に反応性に富んでいることから、本発明によれば、リーン雰囲気でもパラフィンの酸化浄化を促進でき、HC浄化率を向上できる。
本発明の一実施形態に係る排気浄化触媒は、空燃比をリーン及びストイキに制御して運転される内燃機関の排気浄化装置に好ましく用いられる。本実施形態に係る排気浄化触媒は、同一の支持体上に担持された第1触媒及び第2触媒を備える。
また、第1触媒層は、第2触媒層上に形成されていることが好ましい。その理由については、後段で詳述する。
固体酸性を有する担体、即ち酸性担体としては、ZrSiO2、SiO2−Al2O3及びZrSiO2YWからなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましく用いられる。これらが好ましい理由については、後段で詳述する。
貴金属としては、Pt、Pd、Rh等の各種貴金属を単独で用いてもよく、これらを併用してもよい。中でも、Ptが好ましく用いられる。
「実質的にアルカリ土類金属及びアルカリ金属を含まない」とは、積極的にこれらアルカリ土類金属及びアルカリ金属を配合しないことを意味し、不可避的に含まれてしまう場合まで排除する趣旨ではない。
貴金属は、例えばアルミナ等の担体又は上記NOx吸着剤に担持される。貴金属としては、第1触媒と同様に、Pt、Pd、Rh等の各種貴金属を単独で用いてもよく、これらを併用してもよい。中でも、Ptが好ましく用いられる。
第1触媒層を第2触媒層上に形成する場合には、先ず、第2触媒の構成材料を含むスラリー中にハニカム支持体を浸漬させた後、乾燥して焼成することで、第2触媒層を形成する。次いで、第1触媒の構成材料を含むスラリー中に、第2触媒層が形成されたハニカム支持体を浸漬させた後、乾燥して焼成することで、第2触媒層上に第1触媒層が形成された本実施形態に係る排気浄化触媒が得られる。
図1は、排気中のHC組成を示す図であり、(A)はストイキ運転中のエンジンから排出される排気中のHC組成を示し、(B)はリーン(HCCI)運転中のエンジンから排出される排気中のHC組成を示す図である。図1において、横軸はHCの炭素数を示しており、縦軸は排気中のHC濃度(ppmC)を示している。
図1(A)に示すように、ストイキ運転中のエンジンから排出される排気中には、炭素数の短いものが多く含まれ、中でもオレフィンが最も多い。これに対して、図1(B)に示すように、リーン運転中のエンジンから排出される排気中には、ストイキ運転時と比べて炭素数の長いものが多く含まれるとともに、ストイキ運転時と比べてパラフィンが多く含まれている。
図2に示すように、オレフィン及びアロマの浄化率については、ストイキ雰囲気とリーン雰囲気とで差はなく、ほぼ同等である。これに対して、パラフィンの浄化率については、リーン雰囲気では、ストイキ雰囲気に比べて浄化率が大きく低下している。このことから、リーン雰囲気におけるHC浄化率の低下の原因は、パラフィンの浄化率の低下にあることが分かる。
図3(A)に示すように、オレフィン及びアロマは、結合が弱く不安定で反応性の高いπ結合を有しているため、貴金属(Pt)表面に活性の低い酸素が吸着していた場合であっても、その二重結合が開裂して反応し、吸着する。これにより、オレフィン及びアロマは、リーン雰囲気でも浄化率が低下することがない。
これに対して、図3(B)に示すように、パラフィンは、結合が強く安定で反応性の低いσ結合しか有していないため、貴金属(Pt)表面に活性の低い酸素が吸着していた場合には、吸着酸素がパラフィンの貴金属への吸着を阻害し、リーン雰囲気では浄化率が大きく低下する。
図4(A)に示すように、貴金属(Pt、Pd)がAl2O3担体に担持された従来の排気浄化触媒では、Al2O3担体は両性担体であることから、貴金属表面の電子密度に変化はなく、リーン雰囲気において貴金属表面に酸素が多量に吸着する。そのため、吸着酸素によりパラフィンの貴金属への吸着が阻害され、パラフィンの浄化率が低下する。
これに対して、図4(B)に示すように、貴金属(Pt、Pd)が酸性担体に担持された本実施形態に係る排気浄化触媒では、酸性担体の高い酸性度に基づく電子吸引作用によって、貴金属表面の電子密度が低下する。すると、リーン雰囲気中に多量に存在する酸素と貴金属との結合力が低下し、貴金属表面への酸素の吸着が抑制される。これにより、反応性が低いパラフィンも反応、吸着するため、パラフィンの浄化率が向上する。
図5に示すように、酸性担体の電気陰性度×比表面積の値とHC浄化率との間には相関があり、酸性担体の電気陰性度×比表面積の値が大きくなるに従い、HC浄化率が高くなる傾向にある。この結果から、酸性担体の選定に際しては、その電気陰性度と比表面積の積が、重要な指標となることが分かる。
なお、酸性担体の電気陰性度とHC浄化率との間には相関があまり無く、酸性担体の比表面積とHC浄化率との間にも相関があまり無いことが確認されている。
図6に示すように、ZrO2は電気陰性度及び比表面積いずれも小さいのに対して、Al2O3は電気陰性度が低いものの比表面積が大きく、SiO2は比表面積が小さいものの電気陰性度が大きい。これらの関係を利用すれば、ZrO2とSiO2とを複合化させたZrSiO2や、Al2O3とSiO2とを組み合わせたSiO2−Al2O3は、電気陰性度及び比表面積ともに大きな値が得られることが分かる。このことから、電気陰性度×比表面積の値が大きい酸性担体として、ZrSiO2やSiO2−Al2O3が好ましく用いられる。
中でも、図6に示すように、ZrSiO2に対してさらにYとWを加えて複合化したZrSiO2YWは、電気陰性度×比表面積の値がより大きい酸性担体として、より好ましく用いられる。
図7に示すように、ZrSiO2に対して電気陰性度の大きいWを加えて複合化したZrSiO2Wでは、そのX線回折スペクトル上において、ZrSiO2由来のピークに加えてZrO2由来のピークが確認される。これは、結晶構造の一部が崩壊していることを意味している。
そこで、ZrSiO2Wに対してさらにYを加えて複合化させたZrSiO2YWでは、ZrO2由来のピーク等が消滅していることが確認される一方で、他の新たなピークは確認されない。これは、結晶構造が安定化し、ZrSiO2YWが良好に生成していることを意味している。
従って、図6及び図7の結果から、電気陰性度×比表面積の値が大きいことに加えて、構造が安定化しているZrSiO2YWが、酸性担体として特に好ましいと言える。
図8(A)の酸素吸着量(μmol/g)は、貴金属(Pt)が担持された各担体に対して、リーン雰囲気の排気を所定時間流通させて酸素を吸着させた後、昇温したときの酸素脱離量を示している。具体的には、酸素脱離量は次のようにして測定される。先ず、貴金属(Pt)が担持された各担体を、He雰囲気にて500℃まで昇温する。次いで、酸素濃度7%の雰囲気下で500℃×15分間ホールドし、酸素を吸着させる。次いで、室温まで冷却した後、He雰囲気下で室温〜800℃まで昇温することで、吸着していた酸素を脱離させ、このときの酸素脱離量を測定する。
また、図8(B)に示すように、ZrSiO2YW担体のパラフィン吸着率は、Al2O3担体のパラフィン吸着率よりも大きく、その傾向は温度が高くなるほど顕著であることが分かる。
これらの結果から、酸性担体としてZrSiO2YW担体を用いることにより、リーン雰囲気において従来よりも高いHC浄化率が得られることが分かる。
図9に示すように、NOx吸着剤としてアルカリ土類金属のBaを用いた従来のLNTでは、貴金属/酸性担体と積層して組み合わせても、実際には計算上の浄化率よりも低い浄化率しか得られないことが分かる。この理由は次の通りである。
即ち、LNT中のNOx吸着剤を構成するアルカリ金属やアルカリ土類金属が塩基性であることから、これらによる電子供与作用によって酸性担体の電子吸引作用が阻害され、貴金属表面の電子密度が高くなる。すると、貴金属と酸素との結合力が高くなり、貴金属表面への酸素の吸着が促進される。加えて、例えばリーン運転中のエンジンから排出される排気中には、ストイキ運転時と比べてHCとしてパラフィンが多く含まれており、パラフィンは構造的にオレフィンやアロマに比して反応性が低いため、特にパラフィンの浄化率が大きく低下する。これにより、HCの浄化率が低下する。
即ち、CeO2はアルカリ金属やアルカリ土類金属に比して塩基性が低いことから、酸性担体の電子吸引作用に大きな影響を及ぼすことがなく、貴金属表面の電子密度を低下させることができる。ひいては、貴金属と酸素との結合力を低下させ、貴金属表面への酸素の吸着を抑制できるため、特にパラフィンの浄化率を向上でき、高いHC浄化率が得られる。
また、CeO2は、NOx吸着能に加えて酸素吸蔵能(OSC)も有しており、所定温度以上で活性酸素を放出する。この活性酸素は非常に反応性に富んでいることから、本実施形態によれば、リーン雰囲気でもパラフィンの酸化浄化を促進でき、HC浄化率を向上できる。
図11に示すように、Pt/酸性担体を上層としLNTを下層とした場合の方が、高いHC浄化率が得られている。また、図12に示すように、NOx吸着率についても、Pt/酸性担体を上層としLNTを下層とした場合の方が、高いNOx吸着率が得られていることが分かる。この理由は次の通りである。
即ち、貴金属/酸性担体を含む第1触媒層を下層とした場合に比して、上層ではガス拡散性が良好であるため、特にパラフィンを効率良く浄化でき、HC浄化率を向上できる。また、貴金属/酸性担体を含む第1触媒層を上層とすることにより、排気中のNOがNO2に酸化されてLNTに吸着されやすくなる結果、NOx吸着率が向上する。
(1)γ−Al2O3粉末100gを、ジニトロジアンミン白金5%溶液43.0g及びイオン交換水400gと混合した混合溶液を、ロータリーエバポレーターにて水分を除去した後、200℃×12時間乾燥させた。次いで、マッフル炉にて500℃×2時間の焼成を行うことで、2.1質量%Pt担持Al2O3粉末Aを得た。
(1)実施例1のスラリーBに加えるCeO2を、アルミナバリウム(80:20)混合粉末に置換した以外は、実施例1と同様の操作を行うことで、比較例1の排気浄化触媒を得た。
実施例1及び比較例1で得られた各排気浄化触媒について、エージングを実施した。エージングは、750℃×20時間の酸素過剰雰囲気にて実施した。
また、各排気浄化触媒のHC浄化率について、評価を実施した。具体的には、300℃と400℃のHC浄化率を平均したHC平均浄化率η300℃−400℃(%)を求めた。なお、HC浄化率の評価条件は以下の通りとした。評価結果を表1に示した。
モデルガス組成:CO=0.3%、C5H12=1200ppmC、NO=50ppm、O2=7%、CO2=8%、H2O=7%、N2=バランスガス
線速度SV:100,000/時
温度範囲:室温〜450℃
昇温速度:20℃/分
実施例1及び比較例1で得られた各排気浄化触媒について、エージングを実施した。エージングは、750℃×20時間の酸素過剰雰囲気にて実施した。
また、各排気浄化触媒のNOx吸着率について、評価を実施した。具体的には、300℃における1分間のNOx平均吸着率η300℃(%)を求めた。なお、測定前にリッチ雰囲気のガスを流通させることにより、触媒に吸着しているNOxを全て脱離させた。また、NOx吸着率の評価条件は以下の通りとした。評価結果を表2に示した。
モデルガス組成:CO=0.3%、C3H8=1200ppmC、NO=70ppm、O2=7%、CO2=8%、H2O=7%、N2=バランスガス
線速度SV:100,000/時
温度範囲:300℃
Claims (6)
- 内燃機関の排気を浄化する排気浄化触媒であって、
同一の支持体上に担持された第1触媒及び第2触媒を備え、
前記第1触媒は、固体酸性を有する担体と、当該担体上に担持された貴金属と、を有し、
前記第2触媒は、CeO2を含み且つ実質的にアルカリ土類金属及びアルカリ金属を含まないNOx吸着剤と、貴金属と、を有することを特徴とする排気浄化触媒。 - 前記第1触媒により形成された第1触媒層と、当該第1触媒層に隣接し且つ前記第2触媒により形成された第2触媒層と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の排気浄化触媒。
- 前記第1触媒層は、前記第2触媒層上に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の排気浄化触媒。
- 前記固体酸性を有する担体は、ZrSiO2、SiO2−Al2O3及びZrSiO2YWからなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1から3いずれかに記載の排気浄化触媒。
- 前記第1触媒及び前記第2触媒は、前記貴金属としてPtを有することを特徴とする請求項1から4いずれかに記載の排気浄化触媒。
- 空燃比をリーン及びストイキに制御して運転される内燃機関の排気浄化装置であって、
請求項1から5いずれかに記載の排気浄化触媒を備えることを特徴とする排気浄化装置。
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