JP2013234162A - ヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法及びヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから効率的に分離する方法及びヘキサフルオロプロピレンオキシドを効率的に製造する方法の提供。
【解決手段】ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する方法であって、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、前記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、前記ヘキサフルオロピロピレンと前記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有するヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法、及び該分離方法を含むヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する方法であって、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、前記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、前記ヘキサフルオロピロピレンと前記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有するヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法、及び該分離方法を含むヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、ヘキサフルオロプロピレンオキシド(以下、「HFPO」ともいう。)をヘキサフルオロプロピレン(以下、「HFP」ともいう。)から分離する方法に関する。
また本発明は、HFPOの製造方法に関する。
また本発明は、HFPOの製造方法に関する。
HFPOは、各種フッ素化合物、たとえばフッ素系樹脂やエラストマーの中間体であるヘキサフルオロアセトン、パーフルオロアルキルビニルエーテル等の原料として重要な化合物である。またそのオリゴマーは、潤滑油や熱媒油等に広く使用されている。
HFPOの製造方法としては、従来より種々の方法が知られている。一般には、HFPを酸化して製造する方法が用いられている。酸化方法としては、分子状酸素、次亜塩素酸塩、有機過酸化物等の酸化剤を使用する方法や、電解酸化法等が知られている。
しかし、いずれの酸化方法においても未反応のHFPが残存し、生成物はHFPOとHFPの混合物として得られる。したがって、高純度のHFPOを得るには、該混合物からHFPOを分離することが必要である。また、HFPOを効率良く製造するためには、未反応のHFPを再利用するために分離回収して酸化工程へ再循環することが必要である。
しかし、HFPOとHFPの各々を蒸留分離しようとする場合、HFPとHFPOの沸点はそれぞれ−29.4℃と−27.4℃と近接しているために、蒸留分離は困難であるとの問題がある。混合物中に存在するHFPに臭素を付加して二臭化物としこれを蒸留分離することも試みられたが、この方法では、未反応HFPの再利用はできない問題がある。
そこで、上記の問題を解決する方法として、HFPOとHFPとを含む混合物を抽出蒸留により分離する方法が提案されている(特許文献1〜6参照)。
そこで、上記の問題を解決する方法として、HFPOとHFPとを含む混合物を抽出蒸留により分離する方法が提案されている(特許文献1〜6参照)。
抽出蒸留の溶媒(以下、「抽出溶媒」ともいう。)としては、特許文献1に、置換基が炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基である1〜3置換のベンゼン化合物、エーテルのアルキル基が炭素数1〜2個であるエチレングリコール又はジエチレングリコールのジアルキルエーテル、アルキル基の炭素数が1〜4のジアルキルカーボネート、四塩化炭素、クロロホルムが提案されている。
また、特許文献2には、2個以上の炭素原子を含む塩素化炭化水素、又は1個以上の分岐アルキル基(3個以上の炭素を含む)を含むジアルキルエーテルが、特許文献3には1,2−ジクロロエタンが、特許文献4には塩化メチレンが、特許文献5には1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンが、特許文献6には1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、1−ブロモプロパン等が提案されている。
しかし、特許文献1〜4に記載の抽出溶媒は、可燃性が高い物質(ジメトキエタン、トルエン、ジアルキルエーテル、1,2−ジクロロエタン等)であり、分離を効率化する効果も高くない、あるいは、オゾン層保護法に基づく規制物質(四塩化炭素等)として1996年以降使用できなくなった物質であるという問題がある。また、塩化メチレン、クロロホルム等は、抽出溶媒としてリサイクル使用ができるほど安定性が高くない問題がある。
特許文献5に記載の1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンは、将来的にオゾン層保護法に基づく規制物質対象となり使用できない問題がある。
特許文献6に記載の1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンは、ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンからより効率的に分離するという点において課題が残る。
本発明の目的は、環境に対する負荷を低減することができ、従来の抽出溶媒と同等又はそれ以上にヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから効率的に分離する方法を提供することである。また、本発明の目的はこの分離方法を利用したヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法を提供することである。
本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の物性を有する溶媒を抽出溶媒として用いることで、ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから効率的に分離することができることを見出した。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
(1)ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する方法であって、
ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、
上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
(1)ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する方法であって、
ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、
上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
(2)上記溶媒が、分子中に塩素及び/又は臭素を含まない上記(1)に記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
(3)上記溶媒が、ニトロメタン、アセトニトリル及びプロピレンカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも1種である上記(1)又は(2)に記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
(4)上記第1の分離工程で得られる第2フラクションを加熱して、
上記ヘキサフルオロピロピレンを主に含む第3フラクションと、上記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションと、に分離する第2の分離工程をさらに有する、上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
上記ヘキサフルオロピロピレンを主に含む第3フラクションと、上記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションと、に分離する第2の分離工程をさらに有する、上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
(5)ヘキサフルオロプロピレンと酸化剤とを反応させて、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物を得る反応工程と、
上記反応工程で得られた混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程と、を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法。
上記反応工程で得られた混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程と、を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法。
(6)上記反応工程において、媒体中でヘキサフルオロプロピレンと酸化剤とを反応させて、上記混合物を得る、上記(5)に記載の製造方法。
(7)上記溶媒が、分子中に塩素及び/又は臭素を含まない上記(5)又は(6)に記載の製造方法。
(8)上記溶媒が、ニトロメタン、アセトニトリル及びプロピレンカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも1種である上記(5)〜(7)のいずれか一つに記載の製造方法。
(9)上記第1の分離工程で得られる第2フラクションを加熱して、
上記ヘキサフルオロピロピレンを主に含む第3フラクションと、上記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションと、に分離する第2の分離工程をさらに有する、上記(5)〜(8)のいずれか一つに記載の製造方法。
上記ヘキサフルオロピロピレンを主に含む第3フラクションと、上記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションと、に分離する第2の分離工程をさらに有する、上記(5)〜(8)のいずれか一つに記載の製造方法。
本発明の分離方法によれば、環境に対する負荷を低減することができ、ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから効率的に分離できる。また、該方法を利用してヘキサフルオロプロピレンオキシドを製造できる。
以下に本発明を詳細に説明する。
なお、本発明において「主に含む」とは、主成分が、例えば80モル%以上、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95〜100モル%であることを意味する。
<1>ヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法
本発明は、ヘキサフルオロプロピレンオキシド(HFPO)をヘキサフルオロプロピレン(HFP)から分離する方法であって、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法である。
なお、本発明において「主に含む」とは、主成分が、例えば80モル%以上、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95〜100モル%であることを意味する。
<1>ヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法
本発明は、ヘキサフルオロプロピレンオキシド(HFPO)をヘキサフルオロプロピレン(HFP)から分離する方法であって、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法である。
(δPが9以上の溶媒)
従来、ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する際の抽出溶媒は、実際に抽出溶媒として使用しなければその効果を確認できなかった。しかしながら、特定の物性を有する溶媒であればヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する際の抽出溶媒として好適に用いることができることを本発明者等は見出した。本発明においては、抽出溶媒としてハンセン溶解度パラメータ(以下、「HSP」ともいう。)におけるδP(極性項)が9以上である溶媒を用いて、HFPOをHFPから分離することを特徴とする。
従来、ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する際の抽出溶媒は、実際に抽出溶媒として使用しなければその効果を確認できなかった。しかしながら、特定の物性を有する溶媒であればヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する際の抽出溶媒として好適に用いることができることを本発明者等は見出した。本発明においては、抽出溶媒としてハンセン溶解度パラメータ(以下、「HSP」ともいう。)におけるδP(極性項)が9以上である溶媒を用いて、HFPOをHFPから分離することを特徴とする。
HSPは、ヒルデブランド(Hildebrand)によって導入された溶解度パラメータを、分散項δD、極性項δP、水素結合項δHの3成分に分割し、三次元空間に表したものであり、単位はいずれも(MPa)1/2である。分散項δDは分散力による効果、極性項δPは双極子間力による効果、水素結合項δHは水素結合力による効果を示す。
HSPの定義と計算は、下記の文献に記載されている。
Charles M. Hansen著、Hansen Solubility Parameters: A Users Handbook(CRCプレス、2007年)。
Charles M. Hansen著、Hansen Solubility Parameters: A Users Handbook(CRCプレス、2007年)。
溶媒のHSP[δD、δP、δH]は、例えば、コンピュータソフトウエア Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP)を用いることによって、その化学構造から簡便に推算できる。本発明では、HSPiPバージョン3.1.06のデータベースに登録されている溶媒に関してはその値を使用し、データベースに無い溶媒に関しては、HSPiPバージョン3.1.06により推算される値を使用する。
HSPの理論から、本発明者等は抽出溶媒に適した溶媒の探索を行った。抽出溶媒として優れている溶媒は、HFPO又はHFPのいずれか一方のみを選択的に溶解する溶媒と言える。一般に、HSPの近いもの同士は互いに溶解しやすい傾向にある。HFPOとHFPは、HSPの値が近い(HFPOのHSP[12.2、0、2.1]、HFPのHSP[14.1、3.6、0.5])ことから、片方のみを選択的に溶解する溶媒の選定は困難であった。
すなわち、一般的に、HFPに近いHSP(δD、δP、δHの全て)の値を持つ溶媒は、そのHSPの値がHFPOにも近いことになるためHFPOも溶解する傾向がある。
すなわち、一般的に、HFPに近いHSP(δD、δP、δHの全て)の値を持つ溶媒は、そのHSPの値がHFPOにも近いことになるためHFPOも溶解する傾向がある。
しかしながら、δPが大きい溶媒(具体的にはδPが9以上)はHFPをある程度溶かすがHFPOを相対的に溶かしにくいということを本発明者等は見出した。δP以外のその他のHSP値、具体的にはδD及びδHがHFPOに近い場合であっても、δPが9以上である溶媒はHFPをある程度溶かすが、HFPに比べてHFPOを相対的に溶かしにくいため、δPが大きい溶媒を抽出溶媒に用いた場合に、両者を有効に分離することができることを意味する。
本発明の分離方法は、δPが9以上の溶媒を抽出溶媒として用いることを特徴とする。より好ましくは、分離効率の点からδPが10以上、さらに好ましくはδPが12以上の溶媒である。
なお、上記δPが9以上の溶媒が、分子中に塩素及び/又は臭素を含まないことが好ましい。分子中に塩素及び/又は臭素を含む溶媒はδPの値は大きい傾向があるが、環境に対する影響が懸念されることから、また、今後、規制物質となる問題があることから好ましくない。
抽出溶媒として用いられるδPが9以上の溶媒としては具体的には下記のものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、括弧内の数値はδPの値である。
抽出溶媒として用いられるδPが9以上の溶媒としては具体的には下記のものが挙げられるが、これらに限定されない。なお、括弧内の数値はδPの値である。
メタクリロニトリル(13.7)、バレロニトリル(10.2)、2,6−ジフルオロベンゾニトリル(10.8)、3,5−ジフルオロベンゾニトリル(10.8)、ベンゾニトリル(9.9)、フェニルアセトニトリル(12.9)、ブチロニトリル(12)、アクリロニトリル(14.7)、プロピオニトリル(17.2)、1−フルオロアクリロニトリル(16.2)、アセトニトリル(17.2)、エチルシアノアクリレート(10.2)等のニトリル化合物;
ニトロベンゼン(13.0)、p−ニトロトルエン(10.5)、1−ニトロプロパン(12.9)、1−メトキシ−2−ニトロベンゼン(10.9)、ニトロエタン(13.9)、ニトロメタン(14.5)等のニトロ化合物;
シクロオクタノン(9.0)、アセトン(10.1)、4−メトキシアセトフェノン(10.2)、シクロブタノン(12.5)、シクロペンタノン(10.0)、メチルビニルケトン(9.4)等のケトン化合物;
ビニレンカーボネート(22.9)、エチレンカーボネート(21.2)、プロピレンカーボネート(18.3)等のカーボネート化合物;
o−ジフルオロベンゼン(9.8)、フルオロメタン(10.1)等が挙げられる。
ニトロベンゼン(13.0)、p−ニトロトルエン(10.5)、1−ニトロプロパン(12.9)、1−メトキシ−2−ニトロベンゼン(10.9)、ニトロエタン(13.9)、ニトロメタン(14.5)等のニトロ化合物;
シクロオクタノン(9.0)、アセトン(10.1)、4−メトキシアセトフェノン(10.2)、シクロブタノン(12.5)、シクロペンタノン(10.0)、メチルビニルケトン(9.4)等のケトン化合物;
ビニレンカーボネート(22.9)、エチレンカーボネート(21.2)、プロピレンカーボネート(18.3)等のカーボネート化合物;
o−ジフルオロベンゼン(9.8)、フルオロメタン(10.1)等が挙げられる。
この中でも、分離効率の点からニトロメタン、アセトニトリル及びプロピレンカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
なお、δPが9以上の溶媒の中で、求核性の高い官能基を有する化合物、酸化剤として使用される化合物等は除かれることが好ましい。求核性の高い官能基を有する化合物、酸化剤として使用される化合物等は、HFPO及び/又はHFPと反応する可能性があるためである。
求核性の高い官能基としては、アミノ基、水酸基、メルカプト基等が挙げられる。
求核性の高い官能基を有する化合物として具体的には、アルコール類、チオール類、アミン類、アミド類等が挙げられる。
酸化剤として使用される化合物としては、ジメチルスルホキシド、過酸化水素等が挙げられる。
なお、本発明で用いるδPが9以上の溶媒は、使用温度で液体であることが好ましい。使用温度(分離工程等における温度)については後述する。
求核性の高い官能基としては、アミノ基、水酸基、メルカプト基等が挙げられる。
求核性の高い官能基を有する化合物として具体的には、アルコール類、チオール類、アミン類、アミド類等が挙げられる。
酸化剤として使用される化合物としては、ジメチルスルホキシド、過酸化水素等が挙げられる。
なお、本発明で用いるδPが9以上の溶媒は、使用温度で液体であることが好ましい。使用温度(分離工程等における温度)については後述する。
本発明の分離方法において、第1の分離工程に用いる抽出溶媒は、上述のδPが9以上の溶媒を1種で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の分離方法において、第1の分離工程に用いる抽出溶媒として、δPが9以上の溶媒と、δPが9以上の溶媒以外の他の溶媒とを混合した混合溶媒を用いることも可能である。
(ヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法)
以下、本発明の分離方法について説明する。
本発明の分離方法は、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有する。
以下、本発明の分離方法について説明する。
本発明の分離方法は、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有する。
本発明に用いられるδPが9以上の溶媒は、上述したものが挙げられる。
本発明における第1の分離工程で用いる混合物は、HFPOとHFPを含む混合物であれば特に限定されない。また、HFPOとHFPとの混合比は、特に限定されない。
また本発明において、上記混合物はHFPOとHFP以外の他の成分(以下、「不純物」ともいう。)を含んでいてもよい。
また本発明において、上記混合物はHFPOとHFP以外の他の成分(以下、「不純物」ともいう。)を含んでいてもよい。
このような混合物は、特に限定されないが、HFPと酸化剤とを反応させて得られた反応混合物であることが好ましい。また、この反応混合物を必要に応じて後処理して得られたものであってもよい。
HFPと酸化剤とを反応させて得られた反応混合物である場合の不純物としては、反応形式によるが、例えば、トリフルオロアセチルフルオリド(CF3COF)、ペンタフルオロピロピオニルフルオリド(CF3CF2COF)等である。
HFPと酸化剤との反応については、後述のヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法についての説明において詳細に説明する。
HFPと酸化剤とを反応させて得られた反応混合物である場合の不純物としては、反応形式によるが、例えば、トリフルオロアセチルフルオリド(CF3COF)、ペンタフルオロピロピオニルフルオリド(CF3CF2COF)等である。
HFPと酸化剤との反応については、後述のヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法についての説明において詳細に説明する。
上記混合物に含まれる他の成分(不純物)の含有量は特に制限はない。
HFPOとHFPを含む混合物に、上記δPが9以上の溶媒を接触させる方法としては、特に限定されず、回分式でも連続式でもよい。しかし、工業的に実施する場合には、連続式が好ましい。連続式としては、例えば以下の方法で連続的に実施する方法が挙げられるが、これに限定されない。
10〜50段の理論段数を有する蒸留塔を準備し、まず該蒸留塔の中段にHFPOとHFPとを含む混合物を供給する。そして、抽出溶媒として上記δPが9以上の溶媒を蒸留塔頂付近に供給し、上部から下部へ流すことで、上記混合物に抽出溶媒を接触させて第1の分離工程を行う。HFPに対して上記抽出溶媒により少なく溶解するHFPOを主に含む第1フラクションは、濃縮された状態で蒸留塔頂部より除かれる。一方、HFPと上記抽出溶媒とを主に含む第2フラクションは、その後、必要により、理論段数が通常10〜40段の別の蒸留塔に導かれ、上記第1の分離工程で得られた第2フラクションを加熱することで、HFPを主に含む第3フラクションと、上記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションとに分離する第2の分離工程を行う。
第2の分離工程で得られた第4フラクションは、抽出溶媒を主に含むものであるので、再び冷却されて、吸収塔の頂部に再循環することが可能である。
抽出溶媒としてδPが9以上の溶媒を2種以上用いる場合や、混合溶媒を用いている場合、溶媒ごとに分ける工程をさらに有していてもよく、そのまま再循環してもよい。
蒸留塔の形式について特に限定はないが、充填塔型又は泡鐘塔型が好ましい。
抽出溶媒としてδPが9以上の溶媒を2種以上用いる場合や、混合溶媒を用いている場合、溶媒ごとに分ける工程をさらに有していてもよく、そのまま再循環してもよい。
蒸留塔の形式について特に限定はないが、充填塔型又は泡鐘塔型が好ましい。
第1の分離工程において、HFPとHFPOとを含む混合物に接触させるδPが9以上の溶媒の量は、HFPとHFPOとを含む混合物の1質量部に対して1〜1000質量部が好ましく、2〜100質量部がより好ましく、5〜50質量部がさらに好ましい。
抽出溶媒として混合溶媒を用いる場合は、第1の分離工程において、HFPとHFPOとを含む混合物に接触させる抽出溶媒の量も上記の場合と同様に、HFPとHFPOとを含む混合物の1質量部に対して1〜1000質量部が好ましく、2〜100質量部がより好ましく、5〜50質量部がさらに好ましい。
第1の分離工程において、HFPOとHFPとを含む混合物に抽出溶媒を接触させる際の圧力は特に限定されず、最大圧力がHFPとHFPOの液化圧力未満であればよく、通常は、0.5〜10気圧程度(絶対圧)が好ましい。
また、第1の分離工程における温度も特に限定されず、使用する抽出溶媒によって異なるが、通常は−20〜150℃程度である。
また、第1の分離工程における温度も特に限定されず、使用する抽出溶媒によって異なるが、通常は−20〜150℃程度である。
第2の分離工程において、第2フラクションを加熱する際の圧力及び温度は特に限定されない。温度は、抽出溶媒の還流温度程度が好ましい。
第1フラクション〜第4フラクションについて、より精製率を上げることを目的としてさらに分離工程を施してもよい。
第1フラクション〜第4フラクションについて、より精製率を上げることを目的としてさらに分離工程を施してもよい。
本発明の分離方法では、抽出溶媒としてδPが9以上の溶媒を用いることで、相対揮発度が高くなる。なお、相対揮発度とは抽出溶媒の有効性を示す指標であり、相対揮発度が高いほど蒸留塔の最小理論段数を小さくすることができる。
前記相対揮発度は1.5以上であることが好ましく、1.7以上であることがより好ましい。相対揮発度が1.5以上であると最小理論段数は約20段となり、相対揮発度が1.7以上であると最小理論段数は約15段となる。
なお、前記相対揮発度は、静置法による加圧気液平衡測定装置を用い、HFPO及びHFPとを含む混合物及び抽出溶媒を測定装置に仕込み、測定装置本体を加熱し、3時間攪拌を実施して、気相部のガスと装置内の液相部の液を採取し、ガスクロマトグラフによりHFPOとHFPのモル比を測定して求められる。
<2>ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法
以下、本発明のヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法について説明する。
本発明のヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法は、ヘキサフルオロプロピレンと酸化剤とを反応させて、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物を得る反応工程と、
上記反応工程で得られた混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程と、を有する。
以下、本発明のヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法について説明する。
本発明のヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法は、ヘキサフルオロプロピレンと酸化剤とを反応させて、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物を得る反応工程と、
上記反応工程で得られた混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、上記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、上記ヘキサフルオロピロピレンと上記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程と、を有する。
本発明のHFPOの製造方法における第1の分離工程は、上述の本発明のHFPOの分離方法における第1の分離工程と同様に行うことができる。
本発明のHFPOの製造方法における反応工程は、HFPOと酸化剤とを反応させて、HFPOとHFPとを含む混合物を得ることを特徴とする。上記反応工程は、媒体中で反応させてもよい。
反応工程に用いる酸化剤としては、通常の酸化剤を用いればよく特に限定はないが、例えば、過酸化水素、次亜塩素酸塩、有機化酸化物等を用いることができる。
反応工程に用いる媒体は、HFPOと酸化剤とを反応させる場合に用いられる通常の溶媒でよい。
反応工程に用いる媒体は、HFPOと酸化剤とを反応させる場合に用いられる通常の溶媒でよい。
反応工程における反応条件としては、HFPOと酸化剤とを反応させる場合の通常の条件に従って行えばよい。
上記反応工程で得られた混合物を必要に応じて後処理してもよい。後処理としては、水洗、中和等が挙げられる。
上記反応工程で得られた混合物を必要に応じて後処理してもよい。後処理としては、水洗、中和等が挙げられる。
上記反応工程後に上記第1の分離工程を行う。第1の分離工程後、必要により、上述の分離方法における第2の分離工程等を行うことも好ましい。
以下に、本発明の実施例(例1〜7)及び比較例(例8〜12)を挙げて具体的に説明するが、これらによって本発明は限定されない。なお、以下の例においては、抽出溶媒としての有効性をHFPとHFPOの相対揮発度によって評価した。
[相対揮発度の測定方法]
静置法による加圧気液平衡測定装置(耐圧硝子工業株式会社製の製作品)を用いて、表1に示す量のHFP、HFPO、及び抽出溶媒を仕込み、測定装置本体を加熱し、3時間撹拌した。その後、気相部のガスと装置内の液相部分の液を採取し、ガスクロマトグラフにより、HFPOとHFPのモル比を測定し、HFPに対するHFPOの相対揮発度を求めた。
静置法による加圧気液平衡測定装置(耐圧硝子工業株式会社製の製作品)を用いて、表1に示す量のHFP、HFPO、及び抽出溶媒を仕込み、測定装置本体を加熱し、3時間撹拌した。その後、気相部のガスと装置内の液相部分の液を採取し、ガスクロマトグラフにより、HFPOとHFPのモル比を測定し、HFPに対するHFPOの相対揮発度を求めた。
(例1)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.7g、HFPを5.9g、アセトニトリルを64gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.2MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は2.21であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.7g、HFPを5.9g、アセトニトリルを64gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.2MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は2.21であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例2)
加圧気液平衡装置に、HFPOを7.2g、HFPを6.0g、ニトロメタンを131gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は2.13であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを7.2g、HFPを6.0g、ニトロメタンを131gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は2.13であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例3)
加圧気液平衡装置に、HFPOを5.7g、HFPを4.8g、プロピレンカーボネートを131gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.2MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は3.12であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを5.7g、HFPを4.8g、プロピレンカーボネートを131gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.2MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は3.12であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例4)
加圧気液平衡装置に、HFPOを7.0g、HFPを6.3g、シクロオクタノンを202gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.51であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを7.0g、HFPを6.3g、シクロオクタノンを202gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.51であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例5)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.0g、ベンゾニトリルを171gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.52であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.0g、ベンゾニトリルを171gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.52であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例6)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4g、ニトロベンゼンを204gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.54であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4g、ニトロベンゼンを204gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.54であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例7)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4g、ニトロエタンを130gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.65であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4g、ニトロエタンを130gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.65であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例8)
加圧気液平衡装置に、HFPOを5.1g、HFPを5.4g、HCFC−141b(CCl2F−CH3)を172gでそれぞれ仕込み、液相温度を63℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.33であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを5.1g、HFPを5.4g、HCFC−141b(CCl2F−CH3)を172gでそれぞれ仕込み、液相温度を63℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.33であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例9)
加圧気液平衡装置に、HFPOを7.0g、HFPを5.0g、HFE−347pc−f(CHF2−CF2−O−CH2−CF3)を301gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.2MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.32であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを7.0g、HFPを5.0g、HFE−347pc−f(CHF2−CF2−O−CH2−CF3)を301gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.2MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.32であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例10)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.2g、HFPを5.8g、HFC−365mfc(CH3−CF2−CH2−CF3)を123gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.15であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.2g、HFPを5.8g、HFC−365mfc(CH3−CF2−CH2−CF3)を123gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.15であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例11)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.06であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.06であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
(例12)
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4g、アセトフェノンを204gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.39であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
加圧気液平衡装置に、HFPOを6.8g、HFPを6.4g、アセトフェノンを204gでそれぞれ仕込み、液相温度を65℃にすると、圧力が0.3MPaG(ゲージ圧)となった。この条件で3時間以上経過させた後、気相部と液相部をサンプリングし、ガスクロマトグラフィーにて分析を行い、得られたデータからHFPに対するHFPOの相対揮発度は1.39であった。仕込み量、抽出蒸留の条件、相対揮発度について表1に示す。
表1に示されるように、δPが9以上の溶媒は相対揮発度が大きく、抽出溶媒としての有効性が大きいことがわかる。それに対し、δPが9未満の溶媒を用いた場合は、抽出溶媒を使用しない場合と比べても相対揮発度はあまり高くなく、抽出溶媒としての有効性は大きくないことがわかる。
本発明により、環境に対する負荷を低減することができ、ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから効率的に分離する方法、及び、これを利用したヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法を提供できる。
Claims (9)
- ヘキサフルオロプロピレンオキシドをヘキサフルオロプロピレンから分離する方法であって、
ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、
前記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、前記ヘキサフルオロピロピレンと前記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。 - 前記溶媒が、分子中に塩素及び/又は臭素を含まない請求項1に記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
- 前記溶媒が、ニトロメタン、アセトニトリル及びプロピレンカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2に記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。
- 前記第1の分離工程で得られる第2フラクションを加熱して、
前記ヘキサフルオロピロピレンを主に含む第3フラクションと、前記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションと、に分離する第2の分離工程をさらに有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のヘキサフルオロプロピレンオキシドの分離方法。 - ヘキサフルオロプロピレンと酸化剤とを反応させて、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとヘキサフルオロプロピレンとを含む混合物を得る反応工程と、
前記反応工程で得られた混合物に、ハンセン溶解度パラメータにおけるδP(極性項)が9以上の溶媒を接触させて抽出蒸留を行い、前記ヘキサフルオロプロピレンオキシドを主に含む第1フラクションと、前記ヘキサフルオロピロピレンと前記δPが9以上の溶媒とを主に含む第2フラクションと、に分離する第1の分離工程と、を有することを特徴とするヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法。 - 前記反応工程において、媒体中でヘキサフルオロプロピレンと酸化剤とを反応させて、前記混合物を得る、請求項5に記載の製造方法。
- 前記溶媒が、分子中に塩素及び/又は臭素を含まない請求項5又は6に記載の製造方法。
- 前記溶媒が、ニトロメタン、アセトニトリル及びプロピレンカーボネートからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項5〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記第1の分離工程で得られる第2フラクションを加熱して、
前記ヘキサフルオロピロピレンを主に含む第3フラクションと、前記δPが9以上の溶媒を主に含む第4フラクションと、に分離する第2の分離工程をさらに有する、請求項5〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
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