JP2013211406A - 混合ガス供給システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バキュームジェネレーター4により前記反応性ガスを減圧するとともに前記反応性ガスと前記希釈ガスとの混合を行い、前記バキュームジェネレーター4からの混合ガスを圧縮機51で昇圧した混合ガスを、0.5MPaG〜3.0MPaGの圧力で使用ポイントに供給するようにし、反応性ガス供給ライン2を減圧することで、前記反応性ガスの液化及び重合を防止し、前記反応性ガス供給ライン2に介設した第一質量流量制御装置23での制御性を改善させ、かつ前記添加ガスとの混合を均一化でき、前記反応性ガスと前記希釈ガスとの混合割合を精度よく所定割合で混合することができるようにした。
【選択図】図1
Description
そして、精度のよいエッチング処理やクリーニング処理を行うには、前記反応性ガスの供給量を高い精度で制御しなければならないため、前記反応性ガスを重合しない状態で質量流量制御装置により前記反応性ガスの供給量の制御を行うものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
さらに、従来、混合ガス中の反応性ガス(フッ素ガス)の濃度を均一化するものが知られている(例えば、特許文献3参照)。
また、特許文献2に記載された従来の技術は、反応性ガスと希釈ガスとの混合ガスの供給量を質量流量制御装置により制御するものであり、前記混合ガス中における前記反応性ガスの混合割合の精度を高くできないという課題があった。
また、このようにガス流量調整装置の後段に循環ポンプや昇圧機を設置すると、低蒸気圧の反応性ガスのようにガス流量調整装置前後の差圧が充分に取れないケースでは、循環ポンプあるいは昇圧機の脈動によりガス流量調整装置の制御性が悪くなり、反応性ガスの混合割合の精度が低くなるという課題があった。
前記反応性ガスの質量流量を第一設定値に制御する第一質量流量制御装置を介設した反応性ガス供給ラインと、
前記希釈ガスの質量流量を第二設定値に制御する第二質量流量制御装置を介設した希釈ガス供給ラインと、
作動ガス供給口と吸引口と放出口とを有するとともに前記希釈ガス供給ラインを前記作動ガス供給口に、前記反応性ガス供給ラインを前記吸引口に、それぞれ接続して前記反応性ガスと前記希釈ガスとの混合を行うバキュームジェネレーターと、
前記バキュームジェネレーターの前記放出口に接続して前記放出口から放出される混合ガスを昇圧する圧縮機を介設した混合ガス供給ラインと、
を備えて前記混合ガス供給ラインの出口側を前記使用ポイントとするようにしたものである。
また、前記バキュームジェネレーターを用いることにより、前記第一質量流量制御装置の出口における低い圧力の前記反応性ガスと、前記第二質量流量制御装置の出口における高い圧力の前記希釈ガスとを混合させて、前記バキュームジェネレーターの前記放出口における前記混合ガスの圧力を比較的高い状態とすることができ、前記圧縮機での圧縮比を小さくして効率的な昇圧を行って、前記使用ポイントに圧力の高い前記混合ガスを供給することができるのである。
そして、例えば、前記使用ポイントにおいて、0.5MPaG〜3.0MPaGの圧力の混合ガスを断熱膨張させることにより、均一な反応性クラスタを生成して基板表面を精度よく加工することができるのである。
図1において、1は、混合ガス供給システムであり、反応性ガス供給ライン2と、希釈ガス供給ライン3と、バキュームジェネレーター4と、混合ガス供給ライン5と、を備えて前記混合ガス供給ライン5の出口側を使用ポイント11としている。
前記反応性ガス用容器21のフッ化水素は、第一圧力調整弁22により圧力を例えば50kPa・absに調整され、前記反応性ガス供給ライン2に介設された第一質量流量制御装置23で、質量流量を例えば第一設定値である0.25SLMに制御されて、前記バキュームジェネレーター4の吸引口41に吸引されるようにしている。
前記反応性ガス加熱装置24は、電気ヒータを用いて前記反応性ガス供給ライン2の外周から熱伝導により前記反応性ガス供給ライン2を流れるフッ化水素を加熱するようにしており、電気ヒータの温度が例えば120℃となるように通電制御し、電気ヒータの外側を断熱材で被覆している。
前記希釈ガス用容器31のアルゴンは、第二圧力調整弁32により圧力を例えば0.65MPaGに調整され、前記希釈ガス供給ライン3に介設された第二質量流量制御装置33で、質量流量を例えば第二設定値である4.75SLMに制御されて、前記バキュームジェネレーター4の作動ガス供給口42に供給されるようにしている。
前記バキュームジェネレーター4の前記作動ガス供給口42におけるアルゴンの圧力は例えば0.55MPaGであり、前記吸引口41におけるフッ化水素の圧力は例えば13kPa・absであり、前記放出口43における混合ガスの圧力は例えば100kPa・absである。
前記混合ガス供給ライン5は、前記バキュームジェネレーター4の前記放出口43に接続しており、前記放出口43から放出される前記混合ガスを昇圧する圧縮機51を介設している。
このように、前記バキュームジェネレーター4を用いることにより、前記第一質量流量制御装置23の出口における低い圧力の前記反応性ガスと、前記第二質量流量制御装置33の出口における高い圧力の前記希釈ガスとを混合させて、前記バキュームジェネレーター4の前記放出口43における前記混合ガスの圧力を比較的高い状態とすることができ、前記圧縮機51での圧縮比を小さくして効率的な昇圧を行って、前記使用ポイント11に圧力の高い前記混合ガスを供給することができるのである。
そして、前記リザーバータンク6には、流量計71及び第三圧力調整弁72が介設された使用ライン7が接続されており、前記リザーバータンク6に貯留された前記混合ガスは、流量計71、第三圧力調整弁62を通って、例えば冷却された後にノズルで断熱膨張しながら真空処理室内に噴出して重合されて、反応性クラスタを生成し、基板表面のエッチング加工等を行うのである。
以上の実施の形態では、前記第一質量流制御装置23、前記第二質量流量制御装置33及び前記バキュームジェネレーター4を用いているが、これらはいずれも各種仕様のものが市販されており、市販品の中から、上記実施の形態に適合する仕様のものを選定するのである。
また、以上の実施の形態では、希釈ガスとしてアルゴンを用いたが、反応性ガスと不活性であって、かつ反応性ガスより高蒸気圧の希釈ガスを用いることができ、例えば、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、クリプトン(Kr)、キセノン(Xe)等の希ガス、窒素(N2)、二酸化炭素(CO2)等を用いることができる。
また、以上の実施の形態では、前記リザーバータンク6を前記混合ガス供給ライン5の出口側の前記使用ポイント11に設けたが、前記使用ポイント11における前記混合ガスの使用が連続的であれば、前記リザーバータンク6を省略することもできる。
さらに、希釈ガス及び混合ガスの圧力が1MPaG未満であれば、高圧ガス保安法の適用範囲外になるので、管理等の制約が緩和されるのでより好ましい。さらに圧力計等の計測機器では、耐圧や表示レンジが1MPaGのものが多く存在し、これらを有効に使用するためには、0.95MPaG以下での運用がより望ましい。
2 反応性ガス供給ライン
3 希釈ガス供給ライン
4 バキュームジェネレーター
5 混合ガス供給ライン
11 使用ポイント
23 第一質量流量制御装置
24 反応性ガス加熱装置
33 第二質量流量制御装置
41 吸引口
42 作動ガス供給口
43 放出口
51 圧縮機
Claims (3)
- 液化しやすい又は重合する物性を有する低蒸気圧の反応性ガスと、前記反応性ガスと不活性であって前記反応性ガスより高蒸気圧の希釈ガスとを所定割合で混合した混合ガスを、0.5MPaG〜3.0MPaGの圧力で使用ポイントに供給する混合ガス供給システムにおいて、
前記反応性ガスの質量流量を第一設定値に制御する第一質量流量制御装置を介設した反応性ガス供給ラインと、
前記希釈ガスの質量流量を第二設定値に制御する第二質量流量制御装置を介設した希釈ガス供給ラインと、
作動ガス供給口と吸引口と放出口とを有するとともに前記希釈ガス供給ラインを前記作動ガス供給口に、前記反応性ガス供給ラインを前記吸引口に、それぞれ接続して前記反応性ガスと前記希釈ガスとの混合を行うバキュームジェネレーターと、
前記バキュームジェネレーターの前記放出口に接続して前記放出口から放出される混合ガスを昇圧する圧縮機を介設した混合ガス供給ラインと、
を備えて前記混合ガス供給ラインの出口側を前記使用ポイントとしたことを特徴とする混合ガス供給システム。 - 少なくとも前記第一質量流量制御装置の入口に至る前記反応性ガス供給ラインを加熱する反応性ガス加熱装置を備えたことを特徴とする請求項1に記載の混合ガス供給システム。
- 前記反応性ガスはフッ化水素又は三フッ化塩素であり、前記希釈ガスはアルゴン、窒素又はヘリウムであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の混合ガス供給システム。
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