JP2013169713A - Infrared suppressing film - Google Patents
Infrared suppressing film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013169713A JP2013169713A JP2012034912A JP2012034912A JP2013169713A JP 2013169713 A JP2013169713 A JP 2013169713A JP 2012034912 A JP2012034912 A JP 2012034912A JP 2012034912 A JP2012034912 A JP 2012034912A JP 2013169713 A JP2013169713 A JP 2013169713A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- infrared
- layer
- inorganic compound
- adhesion layer
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は、赤外線抑制フィルムに関する。 The present invention relates to an infrared suppression film.
可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムは、赤外線の透過を抑制して室内温度の上昇を防ぐ目的で、建物や乗り物（例えば、自動車、電車、バス、航空機、船舶など）の窓ガラスに貼着されて使用されるほか、農業ハウス用としても使用され、特に、夏場の冷房に費やすエネルギーの削減に有効である。赤外線抑制フィルムは、通常、長期間にわたって使用されるため、耐擦傷性などの耐久性に優れたものが求められている。 Infrared suppression film showing visible light permeability is attached to the window glass of buildings and vehicles (for example, automobiles, trains, buses, airplanes, ships, etc.) for the purpose of suppressing infrared transmission and preventing indoor temperature rise. In addition to being used for agricultural houses, it is particularly effective in reducing energy consumed for cooling in summer. Since the infrared suppression film is usually used for a long period of time, a film excellent in durability such as scratch resistance is required.
そこで、例えば、特許文献１には、透明フィルム基材の一面上にハードコート層が形成され、他面上に粘着剤層が形成され、該粘着剤層上に剥離層が形成されている熱線遮蔽フィルムが提案されている。そのハードコート層には、アンチモン含有酸化スズ微粒子またはインジウム含有酸化スズ微粒子が含有されており、このハードコート層が熱線遮蔽層を兼ねていると提案されている。 Therefore, for example, Patent Document 1 discloses a heat ray in which a hard coat layer is formed on one surface of a transparent film substrate, an adhesive layer is formed on the other surface, and a release layer is formed on the adhesive layer. Shielding films have been proposed. The hard coat layer contains antimony-containing tin oxide fine particles or indium-containing tin oxide fine particles, and it has been proposed that this hard coat layer also serves as a heat ray shielding layer.
また、例えば、特許文献２には、赤外線吸収剤を含み、少なくとも３Ｈの鉛筆硬度を有する機能層を含む日射防止フィルムが提案されている。 For example, Patent Document 2 proposes a solar radiation prevention film including an infrared absorber and including a functional layer having a pencil hardness of at least 3H.
赤外線抑制フィルムの耐擦傷性を向上させるためには、例えば、最表面の層に無機化合物や架橋させた高分子化合物などの比較的硬い材料を使用することによって、赤外線抑制フィルムの表面硬度を上げることが一般的になされている。 In order to improve the scratch resistance of the infrared suppression film, for example, the surface hardness of the infrared suppression film is increased by using a relatively hard material such as an inorganic compound or a crosslinked polymer compound for the outermost layer. It is generally done.
もっとも、一般的に、比較的硬い材料が用いられた層は基材との密着性が低いことが多いので、基材と該層との間に、高分子化合物が用いられた密着層を形成することが望ましい。しかし、高分子化合物のみで密着層を形成すると、赤外線抑制フィルムの耐擦傷性が低下してしまうというという問題が生じた。 However, in general, a layer using a relatively hard material often has low adhesion to the base material, so an adhesive layer using a polymer compound is formed between the base material and the layer. It is desirable to do. However, when the adhesion layer is formed only with the polymer compound, there arises a problem that the scratch resistance of the infrared ray suppression film is lowered.
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、その目的は、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an infrared suppression film having good scratch resistance and exhibiting infrared suppression properties and visible light transmission properties. is there.
上記した課題を解決するための本発明に係る赤外線抑制フィルムは、基材と、該基材上に形成され、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層と、該密着層上に形成され、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層と、を備え、可視光透過性を示すことを特徴とする。 An infrared suppression film according to the present invention for solving the above-described problems is formed on a base material, an adhesion layer formed on the base material, including a polymer compound and inorganic compound particles, and the adhesion layer, An infrared absorption layer including a polymer compound and inorganic compound particles exhibiting infrared absorptivity and having a pencil hardness of H or higher, and exhibiting visible light transmissivity.
また、上記した本発明に係る赤外線抑制フィルムにて、二以上の密着層を含み、一の密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。赤外線抑制性をより高めることができるためである。 In addition, in the infrared suppression film according to the present invention described above, the refractive index of the inorganic compound particles contained in one adhesion layer and the other adhesion layer in contact with the one adhesion layer, including two or more adhesion layers It is preferable that the refractive index of the inorganic compound particles contained in is different. This is because infrared suppression can be further enhanced.
また、上記した本発明に係る赤外線抑制フィルムにて、該赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該赤外線吸収層に接している密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。赤外線抑制性をより高めることができるためである。 Further, in the above infrared suppression film according to the present invention, the refractive index of the inorganic compound particles contained in the infrared absorption layer and the refractive index of the inorganic compound particles contained in the adhesion layer in contact with the infrared absorption layer Preferably they are different. This is because infrared suppression can be further enhanced.
本発明に係る赤外線抑制フィルムによれば、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを得ることができる。 According to the infrared ray suppressing film of the present invention, an infrared ray suppressing film having good scratch resistance and exhibiting infrared ray suppressing property and visible light transmittance can be obtained.
下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムについて詳しく説明する。 Below, the infrared rays suppression film which concerns on this invention is demonstrated in detail.
本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、図１に示すように、基材１０と、基材１０上に形成された密着層２０と、密着層２０上に形成された赤外線吸収層３０とを備え、可視光透過性を示すものである。密着層２０は、高分子化合物および無機化合物粒子を含むものである。赤外線吸収層３０は、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上であるものである。
As shown in FIG. 1, the
本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、赤外線吸収層３０が赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含むので、赤外線抑制性を示す。さらに、本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、赤外線吸収層３０の鉛筆硬度がＨ以上であり、かつ密着層２０が無機化合物粒子を含むので、耐擦傷性が良好になる。
Since the infrared
密着層２０が無機化合物粒子を含むことで耐擦傷性が良好になるのは、下記の作用によるものと推測される。すなわち、密着層を高分子化合物のみで形成した場合には、赤外線抑制フィルム４０の表面が先の硬いもので擦られたときに、その押圧によって内部の密着層が変形して内部にまで先が食い込みやすくなり、傷が付きやすくなると推測される。それに対して、密着層２０が無機化合物粒子を含むことで、押圧で内部の密着層が変形することが妨げられ、先は内部に食い込まずに表面で滑るので、傷が付き難くなったと推測される。
The fact that the
本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、該赤外線吸収層３０に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該赤外線吸収層に接している密着層２０に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。赤外線吸収層３０の屈折率と密着層２０の屈折率とが異なることで、赤外線吸収層３０と密着層２０との界面で赤外線反射性を示すようにすることができるので、赤外線抑制性をより高めることができる。これは、赤外線吸収層３０に含まれる無機化合物粒子を赤外線吸収性だけでなく赤外線反射性にも寄与させ、また、密着層２０に含まれる無機化合物粒子を耐擦傷性だけでなく赤外線反射性にも寄与させるものである。なお、このとき、赤外線反射性は、赤外線が屈折率の高い層から屈折率の低い層に入射された場合に得られるので、赤外線吸収層３０の屈折率が密着層２０の屈折率よりも高いときは、赤外線吸収層３０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４０を配置し、密着層２０の屈折率が赤外線吸収層３０の屈折率よりも高いときは、基材１０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４０を配置すればよい。
In the
本発明に係る赤外線抑制フィルム４１は、図２に示すように、二以上の密着層２１、２２を含み、一の密着層２１に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層２２に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。密着層２１の屈折率と密着層２２の屈折率とが異なることで、密着層２１と密着層２２との界面で赤外線反射性を示すようにすることができるので、赤外線抑制性をより高めることができる。これは、密着層２１、２２に含まれる無機化合物粒子を耐擦傷性だけでなく赤外線反射性にも寄与させるものである。なお、赤外線反射性は、赤外線が屈折率の高い層から屈折率の低い層に入射された場合に起こるので、密着層２２の屈折率が密着層２１の屈折率の屈折率よりも高いときは、赤外線吸収層３０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４１を配置し、密着層２１の屈折率が密着層２２の屈折率よりも高いときは、基材１０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４１を配置すればよい。
As shown in FIG. 2, the
下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムの各構成について詳しく説明する。 Below, each structure of the infrared rays suppression film which concerns on this invention is demonstrated in detail.
＜基材＞
基材は、仕様または用途に応じて適宜選定されるものであり、特に制限はない。基材の材料としては、例えば、ガラスや高分子化合物を好適に用いることができる。高分子化合物としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩化ビニル；ポリビニルアルコール；エチレン−酢酸ビニル共重合体などのビニル系共重合体；ポリスチレン；ポリカーボネート；ポリメチルペンテン；ポリスルホン；ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミドなどのポリエーテル；ポリイミド；フッ素高分子化合物；ポリアミド；アクリル高分子化合物；ノルボルネン高分子化合物；シクロオレフィン高分子化合物、などが挙げられる。これらの中でも、強度、可視光透過性および製造コストの観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
<Base material>
A base material is suitably selected according to a specification or a use, and there is no restriction | limiting in particular. As a material for the substrate, for example, glass or a polymer compound can be suitably used. Examples of the polymer compound include polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; celluloses such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, and acetyl cellulose butyrate; polyvinyl chloride, polychlorinated Vinyl chloride such as vinylidene; polyvinyl alcohol; vinyl copolymer such as ethylene-vinyl acetate copolymer; polystyrene; polycarbonate; polymethylpentene; polysulfone; polyether such as polyetheretherketone, polyethersulfone, and polyetherimide Polyimide; fluorine polymer compound; polyamide; acrylic polymer compound; norbornene polymer compound; cycloolefin polymer Compounds, and the like. Among these, polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoints of strength, visible light permeability, and manufacturing cost.
基材は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、表面酸化法や表面凹凸化法等により表面処理を施すことができる。表面酸化法としては、例えばコロナ放電処理、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理、プラズマ照射処理、クロム酸処理などが挙げられ、表面凹凸化法としては、サンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は、基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が好ましく用いられる。 The base material can be subjected to surface treatment by a surface oxidation method, a surface unevenness method, or the like, if desired, for the purpose of improving adhesion with a layer provided on the surface. Examples of the surface oxidation method include corona discharge treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma irradiation treatment, chromic acid treatment, etc., and surface concavo-convex methods include sandblasting, solvent treatment, etc. Is mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the substrate, but in general, a corona discharge treatment method is preferably used.
基材の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０μｍ〜３００μｍ、好ましくは３０μｍ〜２００μｍ、より好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。 The thickness of a base material is suitably selected according to a specification or a use, and there is no restriction | limiting in particular. Usually, they are 10 micrometers-300 micrometers, Preferably they are 30 micrometers-200 micrometers, More preferably, they are 50 micrometers-200 micrometers.
＜密着層＞
密着層は、高分子化合物および無機化合物粒子を含むものであれば特に制限はない。高分子化合物は、基材と赤外線吸収層との間の密着性を向上させ、かつ密着層に含まれる無機化合物粒子を保持するために含有されるものである。また、無機化合物粒子は、赤外線抑制フィルムの耐擦傷性を良好にするために含有されるものである。
<Adhesion layer>
The adhesion layer is not particularly limited as long as it contains a polymer compound and inorganic compound particles. A high molecular compound is contained in order to improve the adhesiveness between a base material and an infrared rays absorption layer, and hold | maintain the inorganic compound particle contained in an adhesion layer. The inorganic compound particles are contained in order to improve the scratch resistance of the infrared ray suppressing film.
密着層の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは、１００ｎｍ〜１μｍである。密着層の厚さが小さすぎると、密着性が不十分になるおそれがあり、密着層の厚さが大きすぎると、可視光透過性が不十分になるおそれがあるからである。 The thickness of the adhesion layer is appropriately selected according to the specification or application, and is not particularly limited. Usually, it is 10 nm to 100 μm, preferably 100 nm to 1 μm. This is because if the thickness of the adhesion layer is too small, the adhesion may be insufficient, and if the thickness of the adhesion layer is too large, the visible light permeability may be insufficient.
（高分子化合物）
密着層に含まれる高分子化合物は、特に制限はなく、有機合成高分子化合物でも天然有機高分子化合物でもよい。有機合成高分子化合物の例として、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル、メタクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエーテル、ポリアセタール、セルロース、これらの共重合体が挙げられ、アクリル高分子化合物やメタクリル高分子化合物が可視光透過性の観点から好ましい。また、天然有機高分子化合物の例として、ゼラチン、寒天、カラギナン、キサンタンガム、アラビアガム、グアガムが挙げられる。
(Polymer compound)
The polymer compound contained in the adhesion layer is not particularly limited, and may be an organic synthetic polymer compound or a natural organic polymer compound. Examples of organic synthetic polymer compounds include, for example, polyester, polyurethane, acrylic, methacryl, polyimide, polyamide, polystyrene, polycarbonate, polyolefin, polycycloolefin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyether, polyacetal, and cellulose. These copolymers are mentioned, and acrylic polymer compounds and methacryl polymer compounds are preferred from the viewpoint of visible light transmission. Examples of natural organic polymer compounds include gelatin, agar, carrageenan, xanthan gum, gum arabic, and guar gum.
密着層に含まれる高分子化合物は、無機化合物で変性された高分子化合物であってもよい。高分子化合物が無機化合物で変性された部位を有することで、無機化合物粒子と高分子化合物の親和性が向上して、無機化合物粒子を良好に保持することができるからである。さらに、密着層の屈折率を無機化合物粒子で調整する場合に、高分子化合物が密着層の屈折率に与える影響を減らすことができるからである。無機化合物による変性の例としては、シリコーン変性などのケイ素化合物変性、スズ化合物変性、チタン化合物変性、アルミニウム化合物変性などが挙げられる。無機化合物で変性された高分子化合物は、無機化合物と高分子化合物とのグラフト重合体でもよいし、無機化合物と高分子化合物との共重合体でもよい。特に、シリコーンアクリル高分子化合物が無機化合物との親和性と可視光透過性の観点から好ましい。 The polymer compound contained in the adhesion layer may be a polymer compound modified with an inorganic compound. This is because when the polymer compound has a portion modified with an inorganic compound, the affinity between the inorganic compound particle and the polymer compound is improved, and the inorganic compound particle can be favorably retained. Furthermore, when adjusting the refractive index of the adhesion layer with inorganic compound particles, the influence of the polymer compound on the refractive index of the adhesion layer can be reduced. Examples of modification with an inorganic compound include silicon compound modification such as silicone modification, tin compound modification, titanium compound modification, and aluminum compound modification. The polymer compound modified with an inorganic compound may be a graft polymer of an inorganic compound and a polymer compound, or may be a copolymer of an inorganic compound and a polymer compound. In particular, silicone acrylic polymer compounds are preferred from the viewpoints of affinity with inorganic compounds and visible light transmittance.
高分子化合物の質量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値で５，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましい。高分子化合物の密着層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、４０質量％〜６０質量％であることがより好ましい。高分子化合物の含有量が少なすぎると、基材と赤外線吸収層との間の密着性が不十分になるおそれがあり、高分子化合物の含有量が多すぎると、無機化合物粒子の含有量が減って、耐擦傷性が不十分になるおそれがあるからである。 The mass average molecular weight of the polymer compound is preferably in the range of 5,000 to 1,000,000 in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography. The content of the polymer compound in the adhesion layer is preferably 20% by mass to 80% by mass, and more preferably 40% by mass to 60% by mass. If the content of the polymer compound is too small, the adhesion between the substrate and the infrared absorption layer may be insufficient. If the content of the polymer compound is too large, the content of the inorganic compound particles may be too small. This is because there is a risk that the abrasion resistance will be insufficient.
（無機化合物粒子）
密着層に含まれる無機化合物粒子は、特に制限はない。粒子径が小さい多数の無機化合物粒子が密着層に分散されることで、可視光透過性が示される。無機化合物粒子としては、金属や半金属、またはそれらの酸化物、リン酸化物、窒化物、炭化物、ハロゲン化物などが挙げられる。無機化合物粒子の粒子径は、特に制限はなく、可視光透過性や耐擦傷性の観点より適宜選定されるが、通常、１ｎｍ〜１μｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。無機化合物粒子の密着層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、４０質量％〜６０質量％であることがより好ましい。無機化合物粒子の含有量が少なすぎると、耐擦傷性が不十分になるおそれがあり、無機化合物粒子の含有量が多すぎると、高分子化合物の含有量が減って、基材と赤外線吸収層との間の密着性が不十分になるおそれがあるからである。
(Inorganic compound particles)
There are no particular limitations on the inorganic compound particles contained in the adhesion layer. Visible light transmittance is exhibited by dispersing a large number of inorganic compound particles having a small particle diameter in the adhesion layer. Examples of the inorganic compound particles include metals, metalloids, oxides thereof, phosphorus oxides, nitrides, carbides, halides, and the like. The particle size of the inorganic compound particles is not particularly limited and is appropriately selected from the viewpoints of visible light transmittance and scratch resistance, but is usually in the range of 1 nm to 1 μm, preferably in the range of 5 nm to 100 nm. The content of the inorganic compound particles in the adhesion layer is preferably 20% by mass to 80% by mass, and more preferably 40% by mass to 60% by mass. If the content of the inorganic compound particles is too small, the scratch resistance may be insufficient. If the content of the inorganic compound particles is too large, the content of the polymer compound decreases, and the base material and the infrared absorption layer This is because the adhesiveness between the two may be insufficient.
無機化合物粒子で密着層の屈折率を調整する場合には、屈折率が高い密着層の調整に用いる無機化合物として、例えば、酸化チタン、酸化鉛、酸化鉄、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、これらの複合化合物、これらに他の元素がドープされた化合物が挙げられ、酸化チタン、酸化スズが特に好ましい。
また、屈折率が低い密着層の調整に用いる無機化合物として、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、これらの複合化合物、これらに他の元素がドープされた化合物が挙げられ、酸化ケイ素、酸化アルミニウムが特に好ましい。
When adjusting the refractive index of the adhesion layer with inorganic compound particles, as the inorganic compound used for adjustment of the adhesion layer having a high refractive index, for example, titanium oxide, lead oxide, iron oxide, tungsten oxide, indium oxide, tin oxide, Examples thereof include zinc oxide, cerium oxide, bismuth oxide, zirconium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, composite compounds thereof, and compounds in which these are doped with other elements, and titanium oxide and tin oxide are particularly preferable.
Moreover, as an inorganic compound used for adjustment of the adhesion layer having a low refractive index, for example, silicon oxide, aluminum oxide, sodium fluoride, magnesium fluoride, lithium fluoride, calcium fluoride, a composite compound thereof, and other elements And silicon oxide and aluminum oxide are particularly preferable.
無機化合物粒子は、多種多様な分散液が市販されており、これらの市販品を適宜用いるのが簡便であり好ましい。市販品としては、例えば、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＤＩＳＰシリーズ、日産化学工業株式会社製のサンコロイドシリーズ、日揮触媒化成株式会社製のオプトレイクシリーズ、デュポン社製のルドックスシリーズなどを挙げることができる。 As the inorganic compound particles, a wide variety of dispersions are commercially available, and it is convenient and preferable to use these commercially available products as appropriate. Examples of commercially available products include the Aerodisp series manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., the San Colloid series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., the Optlake series manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd., and the Ludox series manufactured by DuPont. it can.
（添加剤）
密着層には、さらに必要に応じて、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含有させることができる。
(Additive)
The adhesion layer may further contain various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer as necessary.
＜赤外線吸収層＞
赤外線吸収層は、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上であるものであれば特に制限はない。高分子化合物は、赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子を保持するために含有されるものである。また、無機化合物粒子は、赤外線吸収性を付与するために含有されるものである。赤外線吸収層の鉛筆硬度をＨ以上にすることで、赤外線抑制フィルムの耐擦傷性を良好にすることができる。
<Infrared absorbing layer>
The infrared absorbing layer is not particularly limited as long as it includes a polymer compound and inorganic compound particles exhibiting infrared absorptivity and has a pencil hardness of H or higher. A high molecular compound is contained in order to hold | maintain the inorganic compound particle contained in an infrared rays absorption layer. Further, the inorganic compound particles are contained for imparting infrared absorptivity. By setting the pencil hardness of the infrared absorbing layer to H or more, the scratch resistance of the infrared suppressing film can be improved.
赤外線吸収層の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは、１００ｎｍ〜１０μｍで、より好ましくは、１μｍ〜１０μｍである。赤外線吸収層の厚さが小さすぎると、赤外線吸収性が不十分になるおそれがあり、赤外線吸収層の厚さが大きすぎると、可視光透過性が低下するおそれがあるからである。 The thickness of the infrared absorbing layer is appropriately selected according to the specification or application, and is not particularly limited. Usually, the thickness is 10 nm to 100 μm, preferably 100 nm to 10 μm, and more preferably 1 μm to 10 μm. This is because if the thickness of the infrared absorption layer is too small, the infrared absorption property may be insufficient, and if the thickness of the infrared absorption layer is too large, the visible light transmission property may be reduced.
（高分子化合物）
赤外線吸収層に含まれる高分子化合物は、鉛筆硬度をＨ以上とする赤外線吸収層が得られるものであれば、特に制限はなく、上記した密着層に含まれる高分子化合物として挙げたものを用いることができる。赤外線吸収層の鉛筆硬度をＨ以上にするためには、高分子化合物は、三次元網目構造を有することが好ましい。可視光透過性および高鉛筆硬度の観点から、三次元網目構造を有するアクリル高分子化合物やメタクリル高分子化合物が特に好ましい。高分子化合物の赤外線吸収層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、５０質量％〜８０質量％であることがより好ましい。高分子化合物の含有量が少なすぎると、無機化合物粒子を十分に保持できなくなるおそれがあり、高分子化合物の含有量が多すぎると、無機化合物粒子の含有量が減って、赤外線吸収性が不十分になるおそれがあるからである。
(Polymer compound)
The polymer compound contained in the infrared absorption layer is not particularly limited as long as an infrared absorption layer having a pencil hardness of H or higher can be obtained, and those listed as the polymer compound contained in the adhesion layer described above are used. be able to. In order to increase the pencil hardness of the infrared absorbing layer to H or higher, the polymer compound preferably has a three-dimensional network structure. From the viewpoint of visible light permeability and high pencil hardness, an acrylic polymer compound or a methacrylic polymer compound having a three-dimensional network structure is particularly preferable. The content of the polymer compound in the infrared absorption layer is preferably 20% by mass to 80% by mass, and more preferably 50% by mass to 80% by mass. If the content of the polymer compound is too small, the inorganic compound particles may not be sufficiently retained, and if the content of the polymer compound is too large, the content of the inorganic compound particles decreases and the infrared absorptivity is poor. This is because there is a risk of becoming sufficient.
（無機化合物粒子）
赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子は、赤外線吸収性を示し、かつ鉛筆硬度をＨ以上とする赤外線吸収層が得られるものであれば、特に制限はない。粒子径が小さい多数の無機化合物粒子が赤外線吸収層に分散されることで、可視光透過性が示される。赤外線吸収性を示す無機化合物粒子に用いられる無機化合物としては、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなどなどの導電性金属酸化物粒子；金、銀、白金、銅などの金属；窒化珪素などの導電性金属窒化物粒子、などを挙げることができ、可視光透過性の観点より、導電性金属酸化物粒子が好ましい。無機化合物粒子の粒子径は、特に制限はなく、赤外線吸収性、可視光透過性や耐擦傷性の観点より適宜選定されるが、通常、１ｎｍ〜１μｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。無機化合物粒子の赤外線吸収層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、２０質量％〜５０質量％であることがより好ましい。無機化合物粒子の含有量が少なすぎると、赤外線吸収性が不十分になるおそれがあり、無機化合物粒子の含有量が多すぎると、高分子化合物によって十分に保持できなくなるおそれがあるからである。
(Inorganic compound particles)
The inorganic compound particles contained in the infrared absorbing layer are not particularly limited as long as they exhibit infrared absorbing properties and an infrared absorbing layer having a pencil hardness of H or higher can be obtained. Visible light transmittance is exhibited by dispersing a large number of inorganic compound particles having a small particle diameter in the infrared absorbing layer. Examples of inorganic compounds used for inorganic compound particles exhibiting infrared absorptivity include antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), fluorine-doped tin oxide (FTO), tin oxide, and zinc oxide. , Conductive metal oxide particles such as zirconium oxide; metal such as gold, silver, platinum and copper; conductive metal nitride particles such as silicon nitride, etc., from the viewpoint of visible light transmission, Conductive metal oxide particles are preferred. The particle diameter of the inorganic compound particles is not particularly limited and is appropriately selected from the viewpoints of infrared absorptivity, visible light transmittance and scratch resistance, but is usually in the range of 1 nm to 1 μm, preferably in the range of 5 nm to 100 nm. is there. The content of the inorganic compound particles in the infrared absorption layer is preferably 20% by mass to 80% by mass, and more preferably 20% by mass to 50% by mass. This is because if the content of the inorganic compound particles is too small, the infrared absorptivity may be insufficient, and if the content of the inorganic compound particles is too large, the polymer compound may not be sufficiently retained.
（添加剤）
密着層には、さらに必要に応じて、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含有させることができる。
(Additive)
The adhesion layer may further contain various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer as necessary.
＜その他の層＞
赤外線抑制フィルムには、密着層や赤外線吸収層の他に、任意の機能層が形成されていてもよい。該機能層としては、例えば、粘着性を示す粘着層、離型性を示す離型層、紫外線吸収性を示す紫外線吸収層、などが挙げられる。
<Other layers>
In addition to the adhesion layer and the infrared absorption layer, an arbitrary functional layer may be formed on the infrared suppression film. Examples of the functional layer include an adhesive layer exhibiting adhesiveness, a release layer exhibiting releasability, and an ultraviolet absorbing layer exhibiting ultraviolet absorbability.
＜赤外線抑制フィルム＞
赤外線抑制フィルムは、上記した基材、上記した密着層、および上記した赤外線吸収層を少なくとも一つずつ備え、可視光透過性を示すものである。該赤外線抑制フィルムによれば、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを得ることができる。
<Infrared suppression film>
The infrared suppression film includes at least one of the above-described base material, the above-described adhesion layer, and the above-described infrared absorption layer, and exhibits visible light permeability. According to the infrared ray suppressing film, an infrared ray suppressing film having good scratch resistance and exhibiting infrared ray suppressing property and visible light transmittance can be obtained.
赤外線抑制フィルムが可視光透過性を示すには、通常は、基材、密着層、および赤外線吸収層が可視光透過性を示すことを要する。なお、可視光透過性は、可視光（波長：３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）を５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上透過するものをいう。赤外線抑制フィルムは、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよい。 In order for the infrared suppression film to exhibit visible light transparency, it is usually required that the substrate, the adhesion layer, and the infrared absorption layer exhibit visible light transparency. In addition, visible light transmittance means what transmits visible light (wavelength: 360 nm-830 nm) 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. The infrared suppression film may be transparent or translucent, may be colored, or may be uncolored.
赤外線抑制フィルムでは、赤外線吸収層の屈折率と該赤外線吸収層に接している密着層の屈折率とが異なるようにすることが好ましい。また、赤外線抑制フィルムでは、二以上の密着層を含み、一の密着層の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層の屈折率とが異なるようにすることが好ましい。前者では赤外線吸収層と密着層との界面で赤外線反射性を示すようにすることができ、後者では密着層と密着層との界面で赤外線反射性を示すようにすることができるので、赤外線抑制性をより高めることができるからである。 In the infrared suppression film, it is preferable that the refractive index of the infrared absorption layer and the refractive index of the adhesion layer in contact with the infrared absorption layer be different. In addition, the infrared suppression film preferably includes two or more adhesion layers so that the refractive index of one adhesion layer is different from the refractive index of another adhesion layer in contact with the one adhesion layer. The former can exhibit infrared reflectivity at the interface between the infrared absorption layer and the adhesion layer, and the latter can exhibit infrared reflectivity at the interface between the adhesion layer and the adhesion layer, thereby suppressing infrared radiation. This is because sex can be further enhanced.
赤外線抑制フィルムでは、積層された各層のうち三以上連続した層で屈折率の高低が繰り返されている、つまり各層の相対的な屈折率が「高−低−高．．．」または「低−高−低．．．」となる関係にあることが好ましい。赤外線吸収層側から赤外線が入射されても基材側から赤外線が入射されても赤外線反射性を示す赤外線抑制フィルムが得られるからである。層数が増すにしたがって赤外線反射性は向上するが、逆に可視光透過性は低下するため、使用用途に合わせて、適当な層数を選択するのがよく、赤外線抑制フィルムに含まれる赤外線吸収層と密着層との総数は、３〜１２の範囲が好ましく、５〜１０の範囲がより好ましい。 In the infrared suppression film, the refractive index is repeatedly raised and lowered in three or more consecutive layers among the laminated layers, that is, the relative refractive index of each layer is “high-low-high ...” or “low-”. It is preferable that the relationship is “high-low ...”. This is because an infrared suppression film exhibiting infrared reflectivity can be obtained regardless of whether infrared rays are incident from the infrared absorption layer side or infrared rays from the substrate side. As the number of layers increases, the infrared reflectivity improves, but conversely the visible light transmittance decreases, so it is better to select the appropriate number of layers according to the intended use, and the infrared absorption contained in the infrared suppression film The total number of layers and adhesion layers is preferably in the range of 3 to 12, more preferably in the range of 5 to 10.
赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合、赤外線反射性および可視光透過性の観点から、赤外線反射性に寄与する層どうしの屈折率差が０．１〜０．４の範囲であることが好ましい。屈折率差が０．１よりも小さいときは赤外線反射性が不十分になるおそれがあり、０．４よりも大きいときは干渉縞が発生するおそれがあるからである。なお、屈折率は、波長５８９ｎｍで測定した屈折率で評価する。 In the case of showing infrared reflectivity with an infrared suppression film, the refractive index difference between the layers contributing to infrared reflectivity is in the range of 0.1 to 0.4 from the viewpoint of infrared reflectivity and visible light transmittance. It is preferable. This is because when the refractive index difference is smaller than 0.1, the infrared reflectivity may be insufficient, and when it is larger than 0.4, interference fringes may be generated. The refractive index is evaluated by the refractive index measured at a wavelength of 589 nm.
層の屈折率の調整は、赤外線吸収層や密着層に含有させる無機化合物粒子の種類や含有量を適宜選択することでおこなうことが、簡便であるため好ましい。なお、層の屈折率や、層どうしの屈折率差が全て同じ値である必要はない。 The adjustment of the refractive index of the layer is preferable because it is simple to appropriately select the kind and content of the inorganic compound particles to be contained in the infrared absorption layer and the adhesion layer. Note that the refractive indexes of the layers and the refractive index differences between the layers need not all be the same value.
赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合、赤外線反射性に寄与する層の厚みは、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。 When making it show infrared reflectivity with an infrared rays suppression film, it is preferable that the thickness of the layer which contributes to infrared reflectivity is the range of 200 nm-500 nm.
＜製造方法＞
本発明に係る赤外線抑制フィルムの製造方法は、特に制限はないが、下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムの製造方法の一例について詳しく説明する。
<Manufacturing method>
Although the manufacturing method of the infrared suppression film which concerns on this invention does not have a restriction | limiting in particular, Below, an example of the manufacturing method of the infrared suppression film which concerns on this invention is demonstrated in detail.
赤外線抑制フィルムの製造方法は、例えば、基材の準備工程、密着層の形成工程、赤外線吸収層の形成工程を備える、可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを製造する方法である。なお、密着層を形成する工程と赤外線吸収層を形成する工程は、下記の同時多層形成法によって同時に行ってもよい。基材の準備工程は、基材を準備する工程である。密着層の形成工程は、基材の準備工程で準備された基材上に、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層を形成する工程である。赤外線吸収層の形成工程は、密着層の形成工程で形成された密着層上に高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層を形成する工程である。 The manufacturing method of an infrared rays suppression film is a method of manufacturing the infrared rays suppression film which shows the visible light permeability provided with the preparation process of a base material, the formation process of an adhesion layer, and the formation process of an infrared rays absorption layer, for example. Note that the step of forming the adhesion layer and the step of forming the infrared absorption layer may be performed simultaneously by the following simultaneous multilayer formation method. The base material preparation step is a step of preparing the base material. The adhesion layer forming step is a step of forming an adhesion layer containing a polymer compound and inorganic compound particles on the substrate prepared in the substrate preparation step. The step of forming the infrared absorbing layer is a step of forming an infrared absorbing layer having a pencil hardness of H or higher, including a polymer compound and inorganic compound particles exhibiting infrared absorbing properties on the adhesive layer formed in the forming step of the adhesive layer. It is.
（基材の準備工程）
基材の準備工程は、上記した基材を準備する工程である。基材は、市販品を用いてもよいし、適宜作製してもよい。
(Base material preparation process)
The base material preparation step is a step of preparing the base material described above. A commercial item may be used for a base material, and you may produce it suitably.
（密着層の形成工程）
密着層の形成工程は、例えば、上記した高分子化合物、上記した無機化合物粒子、および必要に応じて溶剤を含有させた塗布液を準備し、該塗布液を基材上に塗布した後、固化することで、基材上に高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層を形成する工程である。
(Adhesion layer formation process)
For example, the adhesion layer is formed by preparing a coating liquid containing the above-described polymer compound, the above-described inorganic compound particles, and a solvent as necessary, and applying the coating liquid on a substrate, followed by solidification. By doing so, it is a step of forming an adhesion layer containing a polymer compound and inorganic compound particles on the substrate.
塗布液で必要に応じて用いられる溶剤は、高分子化合物や無機化合物粒子を溶解させたり分散させたりできるものを公知の溶剤から適宜選択して用いることができる。塗布液の塗布法としては、ダイ塗布法、グラビア塗布法、スクリーン塗布法などの公知の塗布法を適宜選択して用いることができる。塗布液の固化法としては、乾燥、冷却、硬化などの公知の方法を適宜選択して用いることができる。 As the solvent used as necessary in the coating solution, a solvent that can dissolve or disperse the polymer compound or inorganic compound particles can be appropriately selected from known solvents. As a coating method for the coating solution, a known coating method such as a die coating method, a gravure coating method, a screen coating method, or the like can be selected and used as appropriate. As a method for solidifying the coating solution, known methods such as drying, cooling, and curing can be appropriately selected and used.
赤外線抑制フィルムが複数の密着層を含む場合、密着層を形成する工程では、いわゆる同時多層形成法を用いてもよいし、逐次多層形成法を用いてもよい。 When the infrared suppression film includes a plurality of adhesion layers, a so-called simultaneous multilayer formation method may be used in the step of forming the adhesion layers, or a sequential multilayer formation method may be used.
同時多層形成法は、複数の塗布液を準備し、該複数の塗布液からそれぞれ塗布液層を複数形成させた後、これらの複数の塗布液層を積み重ねて、積み重ねられた複数の塗布液層を基材に同時に塗布した後、固化することで、複数の密着層を基材上に形成する方法である。同時多層形成法では、積み重ねられた塗布液層を同時に基材に塗布した後で固化するので、固化後の層に塗布液を塗布したときに塗布液が層を溶かしてしまう問題が起こらない。そのため、層どうしの界面が明確に形成されやすいので、赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合に、好適に用いることができる。 In the simultaneous multilayer forming method, a plurality of coating liquid layers are prepared, and after a plurality of coating liquid layers are formed from the plurality of coating liquids, the plurality of coating liquid layers are stacked, and the plurality of stacked coating liquid layers are stacked. Is applied to the substrate at the same time, and then solidified to form a plurality of adhesion layers on the substrate. In the simultaneous multilayer forming method, since the stacked coating liquid layers are simultaneously applied to the substrate and then solidified, there is no problem that the coating liquid dissolves the layer when the coating liquid is applied to the solidified layer. Therefore, since the interface between layers is easily formed clearly, it can be suitably used when the infrared ray suppression film exhibits infrared reflectivity.
同時多層形成法では、一の塗布液層に含有させた成分と反応して難溶性生成物が生じる成分を、積み重ねたときに該一の塗布液層に接することになる他の塗布液層に含有させておくことが好ましい。これらの塗布液層を積み重ねた時に、難溶性生成物が生じてこれらの塗布液層どうしが混合することが妨げられ、安定的に層どうしの界面を明確に形成させることができるからである。難溶性生成物が生じる成分の組み合わせとしては、例えば、有機チタン化合物とポリビニルアルコールが挙げられる。 In the simultaneous multilayer formation method, a component that reacts with a component contained in one coating solution layer to generate a hardly soluble product is added to another coating solution layer that comes into contact with the one coating solution layer when stacked. It is preferable to make it contain. This is because, when these coating liquid layers are stacked, a hardly soluble product is generated and mixing of the coating liquid layers is prevented, and the interface between the layers can be stably and clearly formed. Examples of the combination of components that produce a hardly soluble product include an organic titanium compound and polyvinyl alcohol.
同時多層形成法では、冷却するとゲル化するゲル化成分を塗布液に含有させておくことが好ましい。塗布液層を積み重ねた後速やかに冷却することで、ゲル化成分を含有させた塗布液層の流動性が低下して塗布液層どうしが混合することが妨げられ、安定的に層どうしの界面を明確に形成させることができるからである。ゲル化成分としては、例えば、ゼラチン、寒天、カラギナン、キサンタンガム、アラビアガム、グアガムが挙げられる。 In the simultaneous multilayer formation method, it is preferable that the coating liquid contains a gelling component that gels when cooled. By quickly cooling after stacking the coating liquid layers, the fluidity of the coating liquid layer containing the gelling component is lowered and the mixing of the coating liquid layers is prevented, and the interface between the layers is stably stabilized. It is because it can be made to form clearly. Examples of the gelling component include gelatin, agar, carrageenan, xanthan gum, gum arabic, and guar gum.
逐次多層形成法は、一の密着層を塗布し固化して形成した後、該一の密着層上に次の密着層を塗布し固化して形成することを繰り返すことで、複数の密着層を基材上に形成する方法である。 In the sequential multilayer formation method, after one adhesive layer is applied and solidified, a plurality of adhesive layers are formed by repeatedly applying and solidifying and forming the next adhesive layer on the one adhesive layer. It is a method of forming on a base material.
（赤外線吸収層の形成工程）
赤外線吸収層の形成工程は、例えば、上記した高分子化合物、上記した赤外線吸収性を示す無機化合物粒子、および必要に応じて溶剤を含有させた塗布液を準備し、該塗布液を密着層上に塗布した後、固化することで、基材上に高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層を形成する工程である。
(Infrared absorption layer forming process)
The step of forming the infrared absorbing layer includes, for example, preparing a coating liquid containing the above-described polymer compound, the above-described inorganic compound particles exhibiting infrared absorptivity, and a solvent as necessary, and applying the coating liquid on the adhesion layer. This is a step of forming an infrared-absorbing layer having a pencil hardness of H or more, which includes a polymer compound and inorganic compound particles exhibiting infrared-absorbing properties, by solidifying after coating.
塗布液で必要に応じて用いられる溶剤、塗布液の塗布法、および塗布液の固化法は、上記した密着層の形成工程と同様に公知のものを適宜選択して用いることができる。 As the solvent, the coating solution coating method, and the coating solution solidifying method used as necessary in the coating solution, known ones can be appropriately selected and used in the same manner as in the above-described adhesion layer forming step.
三次元網目構造を有する高分子化合物を赤外線吸収層に用いる場合には、塗布液には、上記した高分子化合物に代えて、反応性の官能基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーなど、および必要に応じて架橋剤や触媒などを含有させる。該塗布液を塗布した後、該モノマー、オリゴマー、ポリマーなどを熱、光、電子線などで反応させることで、三次元網目構造を有する上記した高分子化合物を得ることができる。 When a polymer compound having a three-dimensional network structure is used for the infrared absorption layer, the coating liquid is replaced with the above-described polymer compound, a monomer having a reactive functional group, an oligomer, a polymer, and the like. Accordingly, a crosslinking agent or a catalyst is included. After the coating solution is applied, the above-described polymer compound having a three-dimensional network structure can be obtained by reacting the monomer, oligomer, polymer, or the like with heat, light, electron beam, or the like.
本発明に係る赤外線抑制フィルムについて、実施例によりさらに具体的に説明する。 The infrared suppression film according to the present invention will be described more specifically with reference to examples.
（測定方法）
屈折率は、屈折率計（株式会社溝尻光学工業所製の「ＤＶＡ−３６Ｌ型」）を用いて測定し、波長５８９ｎｍで測定した結果とした。なお、複数の層が積層されている状態での各層の屈折率の測定は、その積層体を構成する各層の分光反射と透過スペクトルとを得た後、光干渉式反射分光膜厚計（例えば大塚電子株式会社製の「ＦＥ−３０００ＹＩＴ」）を用いて測定することができる。各層の分光反射と透過スペクトルは、各層の成分分析を行って各層を特定することによって準備できる。
(Measuring method)
The refractive index was measured using a refractometer (“DVA-36L type” manufactured by Mizoji Optical Co., Ltd.) and measured at a wavelength of 589 nm. In addition, the refractive index of each layer in a state where a plurality of layers are laminated is obtained by obtaining a spectral reflection and transmission spectrum of each layer constituting the laminated body, and then using an optical interference reflection spectral film thickness meter (for example, It can be measured using “FE-3000YIT” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The spectral reflection and transmission spectrum of each layer can be prepared by performing component analysis of each layer and specifying each layer.
可視光透過率は、ＪＩＳ Ｒ３１０６（１９９８）に準拠して測定した。可視光は、赤外線抑制フィルムの基材とは反対側から照射した。可視光透過率が大きいほど、可視光透過性に優れる。一方、赤外線透過率（日射透過率）は、ＪＩＳ Ｒ３１０６（１９９８）に準拠して測定した。赤外線は、赤外線抑制フィルムの光透過性基材とは反対側から照射した。赤外線透過率が小さいほど、赤外線抑制性に優れる。 The visible light transmittance was measured according to JIS R3106 (1998). Visible light was irradiated from the opposite side of the base material of the infrared suppression film. The larger the visible light transmittance, the better the visible light transmittance. On the other hand, the infrared transmittance (solar radiation transmittance) was measured according to JIS R3106 (1998). Infrared rays were irradiated from the side opposite to the light-transmitting substrate of the infrared ray suppression film. The smaller the infrared transmittance, the better the infrared suppression property.
密着性は、旧ＪＩＳ Ｋ ５４００の碁盤目試験方法に準拠して測定した。具体的には、赤外線抑制フィルムに碁盤目の切れ込みを１００マス（１マス＝１ｍｍ×１ｍｍ）入れた後、密着試験用テープを碁盤目へ貼り付け、そして剥がし、残留したマスの数を確認して層間の密着性を測定した。１００マス中、９５マス以上が残留していれば、層間の密着性に非常に優れていると言える。 The adhesion was measured according to the cross-cut test method of old JIS K 5400. Specifically, after placing a grid cut of 100 squares (1 square = 1 mm x 1 mm) in the infrared suppression film, affixing the adhesive test tape to the grid and peeling off, check the number of residual squares. The adhesion between the layers was measured. If more than 95 squares remain in 100 squares, it can be said that the adhesion between the layers is very excellent.
鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠して測定した。鉛筆の芯を赤外線抑制フィルムの表面に対して角度４５度、加重７５０ｇで押し付けて動かし、傷付きの有無により評価した。鉛筆の芯の硬さは、柔らかい方から硬い方に向って６Ｂ〜ＨＢ〜６Ｈで示され、より硬い鉛筆の芯で引っかいたときであっても傷付きがないほど、鉛筆硬度に優れる。 The pencil hardness was measured according to JIS K5600-5-4 (1999). The pencil core was pressed and moved with respect to the surface of the infrared ray suppression film at an angle of 45 degrees and a weight of 750 g, and evaluated based on the presence or absence of scratches. The hardness of the pencil lead is indicated by 6B to HB to 6H from the softer side to the harder side, and the pencil hardness is so excellent that it is not damaged even when it is scratched with a harder pencil lead.
耐擦傷性は、上記した鉛筆硬度の評価に準拠して、赤外線抑制フィルムの表面に対してＨの鉛筆の芯を角度４５度、様々な加重で押し付けて動かし、傷付きの有無により評価した。より大きい荷重で引っかいたときであっても傷付きがないほど、耐擦傷性に優れると判断した。 The scratch resistance was evaluated based on the presence or absence of scratches by pressing the H pencil core against the surface of the infrared ray suppression film with an angle of 45 degrees and various loads in accordance with the above-described evaluation of pencil hardness. Even when it was scratched with a larger load, it was judged that the scratch resistance was excellent as it was not scratched.
（実施例１）
基材として、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）を準備し、その片面にコロナ処理をおこなった。
Example 1
As a base material, a polyethylene terephthalate film “Cosmo Shine (registered trademark) A4100” (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was prepared, and corona treatment was performed on one surface thereof.
下記の組成の密着層形成用の塗布液Ａを調整した。
酸化チタン粒子の水分散液 ：６０重量部
「ＡＥＲＯＤＩＳＰ（登録商標）−Ｗ７４０」
（日本アエロジル株式会社製、固形分４０％）
シリコーンアクリル高分子化合物の水分散液 ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン ：１２重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
有機チタン化合物 ：３重量部
「オルガチックス（登録商標）ТＣ−３１０」
（マツモトファインケミカル株式会社製、固形分４２％）
イオン交換水 ：６００重量部
A coating solution A for forming an adhesion layer having the following composition was prepared.
Aqueous dispersion of titanium oxide particles: 60 parts by weight “AERODISP (registered trademark) -W740”
(Nippon Aerosil Co., Ltd.,
Aqueous dispersion of silicone acrylic polymer compound: 120 parts by weight “Charine (registered trademark) FE-230N”
(Nissin Chemical Industry Co., Ltd.,
Gelatin: 12 parts by weight “gelatin type B derived from alkali-treated cattle”
(Nitta Gelatin Co., Ltd., 100% solid content)
Organo-titanium compound: 3 parts by weight “Orgachix (registered trademark) ТC-310”
(Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., solid content 42%)
Ion exchange water: 600 parts by weight
塗布液Ａを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．６であった。 The coating solution A was coated on a polyethylene terephthalate film “Cosmo Shine (registered trademark) A4100” (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm using a wire bar, and then dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes to be thick. When a layer having a thickness of 3 μm was formed and the refractive index of this layer was measured, the refractive index was 1.6.
下記の組成の密着層形成用の塗布液Ｂを調整した。
酸化ケイ素粒子の水分散液 ：６０重量部
「ルドックス（登録商標）ＨＳ―４０」
（デュポン社製、固形分４０％）
シリコーンアクリル高分子化合物の水分散液 ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン ：６重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
ポリビニルアルコール ：６重量部
「ゴーセノール（登録商標）ＫＬ−０３」
（日本合成化学工業株式会社製、固形分１００％）
イオン交換水 ：６００重量部
A coating solution B for forming an adhesion layer having the following composition was prepared.
Aqueous dispersion of silicon oxide particles: 60 parts by weight “Ludox (registered trademark) HS-40”
(DuPont,
Aqueous dispersion of silicone acrylic polymer compound: 120 parts by weight “Charine (registered trademark) FE-230N”
(Nissin Chemical Industry Co., Ltd.,
Gelatin: 6 parts by weight “Alkali-treated cattle-derived gelatin type B”
(Nitta Gelatin Co., Ltd., 100% solid content)
Polyvinyl alcohol: 6 parts by weight “GOHSENOL (registered trademark) KL-03”
(Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., solid content 100%)
Ion exchange water: 600 parts by weight
塗布液Ｂを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．４であった。 The coating solution B was coated on a polyethylene terephthalate film “Cosmo Shine (registered trademark) A4100” (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm using a wire bar, and then dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes to be thick. When a layer having a thickness of 3 μm was formed and the refractive index of this layer was measured, the refractive index was 1.4.
調整された塗布液Ａおよび塗布液Ｂは、４０℃の恒温水槽中でメカニカルスターラーにて加温撹拌し、温度を下げないよう注意しながら、５μｍメッシュのフィルター「ミニザルト １７５９４Ｋ」（株式会社ハイテック製）に通して異物を除去した。 The prepared coating solution A and coating solution B were heated and stirred with a mechanical stirrer in a constant temperature water bath at 40 ° C., and while taking care not to lower the temperature, a 5 μm mesh filter “Minisalto 17594K” (manufactured by Hitec Corporation) ) To remove foreign matter.
４０℃に加温した、塗布液Ｂ、塗布液Ａ、塗布液Ｂ、塗布液Ａ、塗布液Ｂ、塗布液Ａ、および塗布液Ｂを、スライドコーターを用いてこの順番で基材のコロナ処理面側に同時塗布した後、５度の冷却および８０℃の乾燥をおこなうことで、基材上に７つの密着層を形成した。７つの密着層の総厚みは２．０μｍであった。 The coating solution B, coating solution A, coating solution B, coating solution A, coating solution B, coating solution A, and coating solution B heated to 40 ° C. are subjected to corona treatment of the base material in this order using a slide coater. After simultaneously applying to the surface side, seven adhesion layers were formed on the substrate by cooling at 5 degrees and drying at 80 ° C. The total thickness of the seven adhesion layers was 2.0 μm.
アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）粒子３０重量部、紫外線硬化性のアクリルポリマー３０重量部、水系溶剤４０重量部、光重合開始剤を適量含有させた塗布液Ｃ（住友大阪セメント株式会社製、ＡＳＨＣ−１０１）を準備した。 Coating liquid C (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., ASHC-) containing 30 parts by weight of antimony-doped tin oxide (ATO) particles, 30 parts by weight of an ultraviolet curable acrylic polymer, 40 parts by weight of an aqueous solvent, and a photopolymerization initiator. 101) was prepared.
塗布液Ｃを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成した。さらに、窒素雰囲気下で紫外線照射装置により露光量１００ｍＪ／平方センチメートルの紫外線を表面に照射した後、この
層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．６であった。
The coating solution C was coated on a polyethylene terephthalate film “Cosmo Shine (registered trademark) A4100” (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm using a wire bar, and then dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes to be thick A layer having a thickness of 3 μm was formed. Furthermore, after irradiating the surface with ultraviolet rays having an exposure amount of 100 mJ / square centimeter by an ultraviolet irradiation device in a nitrogen atmosphere, the refractive index of this layer was measured. The refractive index was 1.6.
塗布液Ｃを、ワイヤーバーを用いて上記で形成させた密着層上に塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成した。さらに、窒素雰囲気下で紫外線照射装置により露光量１００ｍＪ／平方センチメートルの紫外線を表面に照射することで、密着層上
に赤外線吸収層を形成した。
これにより、実施例１に係る赤外線抑制フィルムを得た。
The coating liquid C was applied onto the adhesion layer formed above using a wire bar, and then dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes to form a layer having a thickness of 3 μm. Furthermore, an infrared ray absorbing layer was formed on the adhesion layer by irradiating the surface with ultraviolet rays having an exposure amount of 100 mJ / square centimeter by an ultraviolet irradiation device in a nitrogen atmosphere.
Thereby, the infrared rays suppression film which concerns on Example 1 was obtained.
（比較例１）
塗布液Ａに酸化チタン粒子の水分散液を用いなかったこと、および塗布液Ｂに酸化ケイ素粒子の水分散液を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１に係る赤外線抑制フィルムを得た。
（評価）
(Comparative Example 1)
According to Comparative Example 1, as in Example 1, except that the aqueous dispersion of titanium oxide particles was not used for the coating liquid A and the aqueous dispersion of silicon oxide particles was not used for the coating liquid B. An infrared suppression film was obtained.
(Evaluation)
実施例１に係る赤外線抑制フィルムは、可視光透過率７３％、赤外線透過率５８％、密着性１００マス中の１００が残留、鉛筆硬度がＨ以上であった。これに対して、比較例１に係る赤外線抑制フィルムは、可視光透過率７６％、赤外線透過率５６％、密着性１００マス中の１００が残留、鉛筆硬度がＨ以上であった。耐擦傷性は、加重を段階的に増加させて評価したときに、比較例１に係る赤外線抑制フィルムの方が、実施例１に係る赤外線抑制フィルムよりも先に傷が付き始めたので、実施例１に係る赤外線抑制フィルムの方が、比較例１に係る赤外線抑制フィルムよりも耐擦傷性が良好である。 The infrared ray suppression film according to Example 1 had a visible light transmittance of 73%, an infrared light transmittance of 58%, 100 of the adhesiveness in 100 squares remained, and the pencil hardness was H or higher. On the other hand, the infrared ray suppression film according to Comparative Example 1 had a visible light transmittance of 76%, an infrared transmittance of 56%, 100 of the adhesiveness in 100 squares remained, and the pencil hardness was H or higher. When the scratch resistance was evaluated by gradually increasing the load, the infrared suppression film according to Comparative Example 1 began to be scratched earlier than the infrared suppression film according to Example 1. The infrared suppression film according to Example 1 has better scratch resistance than the infrared suppression film according to Comparative Example 1.
１０：基材
２０、２１、２２：密着層
３０：赤外線吸収層
４０、４１：赤外線抑制フィルム
10:
Claims (3)
該基材上に形成され、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層と、
該密着層上に形成され、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層と、
を備え、可視光透過性を示すことを特徴とする赤外線抑制フィルム。 A substrate;
An adhesion layer formed on the substrate and comprising a polymer compound and inorganic compound particles;
An infrared absorbing layer formed on the adhesion layer, comprising a polymer compound and inorganic compound particles exhibiting infrared absorptivity, and having a pencil hardness of H or more;
An infrared suppression film characterized by comprising visible light permeability.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012034912A JP2013169713A (en) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | Infrared suppressing film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012034912A JP2013169713A (en) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | Infrared suppressing film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013169713A true JP2013169713A (en) | 2013-09-02 |
Family
ID=49263991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012034912A Pending JP2013169713A (en) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | Infrared suppressing film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2013169713A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017163124A (en) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司ＶｉｓＥｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ | Image sensor structure |
| JP2021026074A (en) * | 2019-08-01 | 2021-02-22 | 大日本印刷株式会社 | Decorative sheet and display device having decorative sheet |
| WO2021171867A1 (en) * | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | Assembly, pressure measurement sheet set, and sheet |
-
2012
- 2012-02-21 JP JP2012034912A patent/JP2013169713A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017163124A (en) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 采▲ぎょく▼科技股▲ふん▼有限公司ＶｉｓＥｒａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｌｉｍｉｔｅｄ | Image sensor structure |
| US10056417B2 (en) | 2016-03-10 | 2018-08-21 | Visera Technologies Company Limited | Image-sensor structures |
| JP2021026074A (en) * | 2019-08-01 | 2021-02-22 | 大日本印刷株式会社 | Decorative sheet and display device having decorative sheet |
| JP7320191B2 (en) | 2019-08-01 | 2023-08-03 | 大日本印刷株式会社 | Decorative sheet and display device with decorative sheet |
| WO2021171867A1 (en) * | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | Assembly, pressure measurement sheet set, and sheet |
| JPWO2021171867A1 (en) * | 2020-02-25 | 2021-09-02 | ||
| JP7480187B2 (en) | 2020-02-25 | 2024-05-09 | 富士フイルム株式会社 | Assembly, pressure measurement sheet set, sheet |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2014024873A1 (en) | Light-reflective film, and light reflector produced using same | |
| JP6112112B2 (en) | Infrared shielding film having dielectric multilayer structure | |
| WO2014156822A1 (en) | Laminated glass | |
| WO2013077252A1 (en) | Infrared shielding film and infrared shielding body | |
| WO2013111735A1 (en) | Optical film | |
| JP5709707B2 (en) | Heat ray shielding material | |
| JPWO2016006388A1 (en) | Optical film | |
| JP2008247623A (en) | Heat ray shielding glass | |
| JPWO2016088851A1 (en) | Heat shield film, method for producing the same, and heat shield using the same | |
| JP2014201450A (en) | Heat-ray shielding laminated glass and method for manufacturing heat-ray shielding laminated glass | |
| WO2014178276A1 (en) | Infrared light shielding film, method for installing infrared light shielding film, and method for preventing occurrence of iris on infrared light shielding film | |
| JP2013169713A (en) | Infrared suppressing film | |
| JP6834984B2 (en) | Optical reflective film | |
| JP5922919B2 (en) | Heat ray shielding material and bonded structure | |
| WO2015146564A1 (en) | Light shielding film, light shielding body and method for producing light shielding film | |
| JP2011224964A (en) | Infrared reflective film | |
| JPWO2016010049A1 (en) | Laminated film and method for producing the same | |
| CN107430228B (en) | Optical film and method for producing optical film | |
| JP2012126037A (en) | Heat-ray intercepting film, and method for producing the same | |
| JP2015125168A (en) | Dielectric multilayer film | |
| JP2013075463A (en) | Infrared reflection film and method of manufacturing the same | |
| JP6326780B2 (en) | Window pasting film | |
| JP2017096990A (en) | Method for producing light reflection film | |
| JP2013169714A (en) | Infrared suppressing article | |
| JP2017203965A (en) | Optical reflection film in roll state |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20130823 |