JP2013103871A - 低膨張ガラス及びペースト状ガラス組成物 - Google Patents
低膨張ガラス及びペースト状ガラス組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013103871A JP2013103871A JP2011250736A JP2011250736A JP2013103871A JP 2013103871 A JP2013103871 A JP 2013103871A JP 2011250736 A JP2011250736 A JP 2011250736A JP 2011250736 A JP2011250736 A JP 2011250736A JP 2013103871 A JP2013103871 A JP 2013103871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- low
- composition
- weight
- expansion coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
【解決手段】酸化物基準で、SiO2 30〜50重量%、ZnO 10〜35重量%、B2O3 10〜20重量%、Li2O 5〜10重量%及びAl2O3 10〜20重量%の組成を有する低膨張ガラス、並びに該ガラスの粉末を含む固形分粉末を有機ビヒクルに分散させてなるペースト状ガラス組成物。
【選択図】なし
Description
項1. 酸化物基準で下記組成を有する低膨張ガラス:
SiO2 30〜50重量%
ZnO 10〜35重量%
B2O3 10〜20重量%
Li2O 5〜10重量%
Al2O3 10〜20重量%。
項2. 600〜700℃で結晶化して、0〜350℃での熱膨張係数が30×10−7/℃以下となる、上記項1に記載の低膨張ガラス。
項3. 上記項1又は2に記載の低膨張ガラスの粉末60〜100重量%と無機物粉末0〜40重量%からなる固形分粉末を有機ビヒクルに分散させてなる、ペースト状ガラス組成物。
項4. 上記項3に記載のペースト状ガラス組成物を基材に塗布し、600〜700℃で加熱することを特徴とする、低膨張係数を有するガラス質被膜を形成する方法。
本発明の低膨張ガラスは、酸化物基準で下記組成を有するものである。
SiO2 30〜50重量%
ZnO 10〜35重量%
B2O3 10〜20重量%
Li2O 5〜10重量%
Al2O3 10〜20重量%。
本発明のペースト状ガラス組成物は、上記した低膨張ガラス粉末を含有するペースト状の組成物であり、これを金属、セラミックス、ガラスなどの各種基材に塗布し、焼き付けることによってガラス質の被膜を形成できる。
かくして得られるペースト状ガラス組成物は、金属、セラミックス、ガラスなどの各種の基材上に、常法に従って施工することができる。塗布方法については、通常慣用される方法と異なるものではなく、例えばスクリーン印刷法、スプレー塗装法、ロールコーター法等に従うことができる。上記スクリーン印刷法は最も簡便であり、部分塗布に適している。
原料として、SiO2、ZnO、H3BO3、Li2CO3、及びAl2O3を用い、これらの原料を下記表1から13に示す酸化物組成比になるように混合し、1250℃にて溶融させ、溶融物を水中にて急冷することでポップコーン状ガラスとした。
以上の結果について、下記表1〜3に示す。
Claims (4)
- 酸化物基準で下記組成を有する低膨張ガラス:
SiO2 30〜50重量%
ZnO 10〜35重量%
B2O3 10〜20重量%
Li2O 5〜10重量%
Al2O3 10〜20重量%。 - 600〜700℃で結晶化して、0〜350℃での熱膨張係数が30×10−7/℃以下となる、請求項1に記載の低膨張ガラス。
- 請求項1又は2に記載の低膨張ガラスの粉末60〜100重量%と無機物粉末0〜40重量%からなる固形分粉末を有機ビヒクルに分散させてなる、ペースト状ガラス組成物。
- 請求項3に記載のペースト状ガラス組成物を基材に塗布し、600〜700℃で加熱することを特徴とする、低膨張係数を有するガラス質被膜を形成する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011250736A JP5842561B2 (ja) | 2011-11-16 | 2011-11-16 | 低膨張ガラス及びペースト状ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011250736A JP5842561B2 (ja) | 2011-11-16 | 2011-11-16 | 低膨張ガラス及びペースト状ガラス組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013103871A true JP2013103871A (ja) | 2013-05-30 |
JP5842561B2 JP5842561B2 (ja) | 2016-01-13 |
Family
ID=48623700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011250736A Active JP5842561B2 (ja) | 2011-11-16 | 2011-11-16 | 低膨張ガラス及びペースト状ガラス組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5842561B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015086118A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 日本山村硝子株式会社 | 隔壁形成用ガラス組成物 |
JP2015086078A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス、ガラス粉末、複合粉末及び着色層付きガラス板 |
CN110550864A (zh) * | 2019-09-29 | 2019-12-10 | 长沙新材料产业研究院有限公司 | 一种低膨胀系数绝缘介质浆料及其制备方法 |
CN112341178A (zh) * | 2020-11-06 | 2021-02-09 | 南京工业大学 | 一种宽频低膨胀系数低温共烧玻璃复合陶瓷及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001097740A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板および磁気ディスク |
JP2004277212A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Okuno Chem Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラス組成物 |
US20060160689A1 (en) * | 2005-01-20 | 2006-07-20 | Hsu Kuo-Chuan | Crystallizable glass and crystallized glass of Li2O-A12O3-SiO2 system and method for producing crystallized glass of Li2O-A12O3-SiO2 system |
US20070123411A1 (en) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Konica Minolta Opto, Inc. | Optical glass and optical element |
JP2009018986A (ja) * | 2007-06-12 | 2009-01-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス物品及びその製造方法 |
JP2011068510A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Nihon Yamamura Glass Co Ltd | ガラス組成物、及び、誘電体製造方法 |
-
2011
- 2011-11-16 JP JP2011250736A patent/JP5842561B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001097740A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板および磁気ディスク |
JP2004277212A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Okuno Chem Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラス組成物 |
US20060160689A1 (en) * | 2005-01-20 | 2006-07-20 | Hsu Kuo-Chuan | Crystallizable glass and crystallized glass of Li2O-A12O3-SiO2 system and method for producing crystallized glass of Li2O-A12O3-SiO2 system |
JP2006199538A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Huzhou Daikyo Hari Seihin Yugenkoshi | Li2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラス及び結晶化ガラス並びにLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法。 |
US20070123411A1 (en) * | 2005-11-25 | 2007-05-31 | Konica Minolta Opto, Inc. | Optical glass and optical element |
JP2007145615A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Konica Minolta Opto Inc | 光学ガラス及び光学素子 |
JP2009018986A (ja) * | 2007-06-12 | 2009-01-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス物品及びその製造方法 |
JP2011068510A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Nihon Yamamura Glass Co Ltd | ガラス組成物、及び、誘電体製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
升田裕久,他2名: ""組成パラメータによるケイ酸塩系ガラスの熱膨張係数算出"", 日本金属学会誌, vol. 第62巻第5号, JPN6015029103, May 1998 (1998-05-01), JP, pages 444 - 448, ISSN: 0003170782 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015086078A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス、ガラス粉末、複合粉末及び着色層付きガラス板 |
JP2015086118A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 日本山村硝子株式会社 | 隔壁形成用ガラス組成物 |
CN110550864A (zh) * | 2019-09-29 | 2019-12-10 | 长沙新材料产业研究院有限公司 | 一种低膨胀系数绝缘介质浆料及其制备方法 |
CN110550864B (zh) * | 2019-09-29 | 2022-09-02 | 长沙新材料产业研究院有限公司 | 一种低膨胀系数绝缘介质浆料及其制备方法 |
CN112341178A (zh) * | 2020-11-06 | 2021-02-09 | 南京工业大学 | 一种宽频低膨胀系数低温共烧玻璃复合陶瓷及其制备方法 |
CN112341178B (zh) * | 2020-11-06 | 2023-04-21 | 南京工业大学 | 一种宽频低膨胀系数低温共烧玻璃复合陶瓷及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5842561B2 (ja) | 2016-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3917331B2 (ja) | ガラス又はガラスセラミックスの施釉、琺瑯掛けもしくは装飾用の鉛及びカドミウムを含有しないガラス組成物、及び該ガラス組成物で被覆されたガラスセラミックスの製造方法 | |
CN101519275B (zh) | 熔剂、油墨及其制备方法 | |
JP2000211942A (ja) | アルカリ金属を含まない鉛不含のガラス組成物 | |
JP5842561B2 (ja) | 低膨張ガラス及びペースト状ガラス組成物 | |
JP7122057B2 (ja) | 粒子混合物、キット、インク、方法及び物品 | |
JP4586184B2 (ja) | セラミックカラー用ガラス粉末及びセラミックカラー組成物 | |
US11130872B2 (en) | Red paint for ceramic decoration | |
JP4184440B2 (ja) | ガラス基材にエナメルを施す方法、使用されるエナメル組成物および得られた製品 | |
JP2007284279A (ja) | 加飾セラミック体、その製造方法及びインクジェット用インク | |
JP2005350327A (ja) | 加飾セラミックス体、その製造方法及び釉薬調合物 | |
WO2005073140A1 (en) | Improved glass compositions | |
MXPA04009357A (es) | Composicion durable de esmalte de vidrio. | |
TWI747424B (zh) | 經塗覆之玻璃基材的搪瓷塗料 | |
JP7219355B2 (ja) | 組成物、ペースト、及び方法 | |
JP2007126319A (ja) | ビスマス系無鉛ガラス組成物 | |
JP5668322B2 (ja) | 光学ガラス、ガラスフリット及びガラス層付き透光性基板 | |
JPH11343141A (ja) | 高ビスマス含量を有する、低溶融性で鉛不含のガラス―及びエナメル組成物 | |
JP2008308393A (ja) | 無鉛低軟化点ガラス、無鉛低軟化点ガラス組成物、無鉛低軟化点ガラスペースト、および蛍光表示管 | |
JP4863439B2 (ja) | 陶磁器用無鉛上絵具およびその製造方法 | |
TWI751146B (zh) | 陶瓷粉末的製造方法 | |
JP7157029B2 (ja) | セラミックカラーペースト、セラミックカラーならびにセラミックカラー付きガラスおよびその製造方法 | |
CN106847375A (zh) | 一种含片状二氧化硅的铝基介质浆料及其制备方法 | |
EP3980387A1 (en) | Colored glass frits and related methods for laser marking applications | |
JP2009078955A (ja) | 無鉛セラミックカラー組成物 | |
JP6701541B2 (ja) | ガラス粉末、複合粉末及び絵付層付き低膨張基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140610 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141031 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150915 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151013 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151102 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5842561 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |