JP2013077703A - 荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
【構成】主領域に描画するパターンが定義される主描画データを荷電粒子ビーム描画装置に入力する工程と、識別符号領域に描画するパターンの疑似パターンが定義される疑似識別符号描画データを生成する工程と、主描画データと疑似識別符号描画データを用いて、ショット密度またはパターン面積密度を算出する描画前処理工程と、識別符号領域に描画するパターンが定義される識別符号描画データを生成する工程と、主描画データを第1のショットデータに変換する工程と、第1のショットデータを用いて主領域の描画を行う工程と、識別符号描画データを第2のショットデータに変換する工程と、第2のショットデータを用いて識別符号領域の描画を行う工程と、を有する荷電粒子ビーム描画方法。
【選択図】図1
Description
12 主領域
14 識別符号領域
100 電子ビーム描画装置
102 描画部
104 制御部
106 試料搬送部
110 試料
112 試料室
150 描画データ入力部
152 疑似識別符号描画データ生成部
154 前処理部
156 識別符号描画データ生成部
158 ショットデータ生成部
160 制御回路
Claims (5)
- 試料の主領域に描画するパターンが定義される主描画データを荷電粒子ビーム描画装置に入力する主描画データ入力工程と、
前記試料の識別符号領域に描画するパターンの疑似パターンが定義される疑似識別符号描画データを生成する疑似識別符号描画データ生成工程と、
前記主描画データと前記疑似識別符号描画データを用いて、試料に描画するパターンのショット密度またはパターン面積密度を算出する描画前処理工程と、
前記描画前処理工程の後に、前記識別符号領域に描画するパターンが定義される識別符号描画データを生成する識別符号描画データ生成工程と、
前記主描画データを荷電粒子ビームのショットを単位として構成される第1のショットデータに変換する第1のショットデータ生成工程と、
前記第1のショットデータを用いて前記試料上に荷電粒子ビームを照射することで主領域の描画を行う第1の描画工程と、
前記識別符号描画データを荷電粒子ビームのショットを単位として構成される第2のショットデータに変換する第2のショットデータ生成工程と、
前記第2のショットデータを用いて前記試料上に荷電粒子ビームを照射することで識別符号領域の描画を行う第2の描画工程と、
を有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。 - 前記第1の描画工程の開始後に前記識別符号描画データ生成工程を実行することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画方法。
- 前記第1の描画工程の終了後に前記識別符号描画データ生成工程を実行することを特徴とする請求項1または請求項2記載の荷電粒子ビーム描画方法。
- 前記疑似識別符号描画データと前記識別符号描画データのパターン面積が略同一となるよう、前記疑似識別符号描画データと前記識別符号描画データを生成することを特徴とする請求項1ないし請求項3いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画方法。
- 前記疑似識別符号描画データ生成工程において、前記識別符号描画データとなる蓋然性が高い複数のパターンを推定し、前記複数のパターンに基づき前記疑似識別符号描画データが生成されることを特徴とする請求項1ないし請求項4いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画方法。
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2011
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