JP2010021279A - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液処理装置は、被処理体Wを支持する支持部40と、支持部40を回転させる回転駆動部60と、支持部40によって支持された被処理体Wの表面の周縁部に向かって処理液を供給する表面処理液供給機構35と、支持部41によって支持された被処理体Wの裏面に処理液を供給する裏面処理液供給機構30と、を備えている。被処理体Wの周縁外方には、間隙G0を介して、第一ガイド部材21が配置されている。被処理体Wの裏面を経て周縁部に達した処理液の流速は、被処理体Wの表面を経て周縁部に達した処理液の流速よりも速くなっている。
【選択図】図1
Description
被処理体を支持する支持部と、
前記支持部を回転させる回転駆動部と、
前記支持部によって支持された前記被処理体の表面の周縁部に向かって処理液を供給する表面処理液供給機構と、
前記支持部によって支持された前記被処理体の裏面に処理液を供給する裏面処理液供給機構と、
前記被処理体の周縁外方に間隙を介して配置された第一ガイド部材と、を備え、
前記被処理体の裏面を経て周縁部に達した処理液の流速が、前記被処理体の表面を経て周縁部に達した処理液の流速よりも速くなるように構成されている。
前記支持部は、該支持部と前記被処理体の裏面との間の間隙を、該被処理体の中心部から周縁部へ向かう方向で小さくする加速傾斜部を有することが好ましい。
前記第一ガイド部材の周縁外方に配置された第二ガイド部材をさらに備えたことが好ましい。
前記第一ガイド部材の上面に、複数の位置ずれ防止ガイドが設けられていることが好ましい。
支持部によって、被処理体を支持する支持工程と、
回転駆動部によって、前記支持部を回転させる回転駆動工程と、
表面処理液供給機構によって、前記支持部によって支持された前記被処理体の表面の周縁部に向かって処理液を供給する表面処理液供給工程と、
裏面処理液供給機構によって、前記支持部によって支持された前記被処理体の裏面に処理液を供給する裏面処理液供給工程と、
前記被処理体の周縁外方に間隙を介して配置された第一ガイド部材によって、前記被処理体の裏面を経て周縁部に達した処理液、および、記被処理体の表面を経て周縁部に達した処理液を案内する案内工程と、を備え、
前記被処理体の裏面を経て周縁部に達した処理液の流速が、前記被処理体の表面を経て周縁部に達した処理液の流速よりも速くなっている。
以下、本発明に係る液処理装置および液処理方法と、このような液処理方法を格納した記憶媒体の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図3(a)(b)は本発明の実施の形態を示す図である。
2 上方カップ
5 シール部材
10 支持台(支持部)
11 支持ピン
15 加速傾斜部
21 第一ガイド部材
22 第二ガイド部材
26 位置ずれ防止ガイド
30 裏面処理液供給機構
35 表面処理液供給機構
50 制御部
52 記憶媒体
55 コンピュータ
60 回転駆動部
W ウエハ(被処理体)
Claims (5)
- 被処理体を支持する支持部と、
前記支持部を回転させる回転駆動部と、
前記支持部によって支持された前記被処理体の表面の周縁部に向かって処理液を供給する表面処理液供給機構と、
前記支持部によって支持された前記被処理体の裏面に処理液を供給する裏面処理液供給機構と、
前記被処理体の周縁外方に間隙を介して配置された第一ガイド部材と、を備え、
前記被処理体の裏面を経て周縁部に達した処理液の流速は、前記被処理体の表面を経て周縁部に達した処理液の流速よりも速くなっていることを特徴とする液処理装置。 - 前記支持部は、該支持部と前記被処理体の裏面との間の間隙を、該被処理体の中心部から周縁部へ向かう方向で小さくする加速傾斜部を有することを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第一ガイド部材の周縁外方に配置された第二ガイド部材をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2のいずれか1項に記載の液処理装置。
- 前記第一ガイド部材の上面に、複数の位置ずれ防止ガイドが設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液処理装置。
- 支持部によって、被処理体を支持する支持工程と、
回転駆動部によって、前記支持部を回転させる回転駆動工程と、
表面処理液供給機構によって、前記支持部によって支持された前記被処理体の表面の周縁部に向かって処理液を供給する表面処理液供給工程と、
裏面処理液供給機構によって、前記支持部によって支持された前記被処理体の裏面に処理液を供給する裏面処理液供給工程と、
前記被処理体の周縁外方に間隙を介して配置された第一ガイド部材によって、前記被処理体の裏面を経て周縁部に達した処理液、および、記被処理体の表面を経て周縁部に達した処理液を案内する案内工程と、を備え、
前記被処理体の裏面を経て周縁部に達した処理液の流速は、前記被処理体の表面を経て周縁部に達した処理液の流速よりも速くなっていることを特徴とする液処理方法。
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