JP2013020963A5 - - Google Patents
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Claims (8)
- 第１の基板と第２の基板とを含む封止体の作製方法であって、
レーザ光を透過する前記第２の基板の一方の面に、前記レーザ光を透過する緩衝層を形成する第１の工程と、
前記第２の基板の一方の面に、前記緩衝層と重なるようにフリットガラス層を形成する第２の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に前記緩衝層と前記フリットガラス層とを挟んだ状態で、前記第２の基板の他方の面から、前記フリットガラス層に前記レーザ光を照射して前記フリットガラス層を溶融させ、前記フリットガラス層と前記第１の基板と前記第２の基板とで閉空間を形成する第３の工程と、を有することを特徴とする封止体の作製方法。 - 第１の基板と第２の基板とを含む封止体の作製方法であって、
レーザ光を透過する前記第２の基板の一方の面に、前記レーザ光を吸収する緩衝層を形成する第１の工程と、
前記第２の基板の一方の面に、前記緩衝層と重なるようにフリットガラス層を形成する第２の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に前記緩衝層と前記フリットガラス層とを挟んだ状態で、前記第２の基板の他方の面から、前記緩衝層に前記レーザ光を照射して前記フリットガラス層を溶融させ、前記フリットガラス層と前記第１の基板と前記第２の基板とで閉空間を形成する第３の工程と、を有することを特徴とする封止体の作製方法。 - 請求項２において、
前記フリットガラス層より融点が高い金属層を用いて前記緩衝層を形成することを特徴とする封止体の作製方法。 - 請求項１又は２において、
前記第２の工程で前記フリットガラス層を閉曲線に形成することを特徴とする封止体の作製方法。 - 第１の基板の一方の面に発光素子を形成する第１の工程と、
レーザ光を透過する第２の基板の一方の面に、前記発光素子を囲む大きさで、前記レーザ光を透過する緩衝層を形成する第２の工程と、
前記第２の基板の一方の面の側に、前記緩衝層に重なるようにフリットガラス層を形成する第３の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に前記発光素子と前記緩衝層と前記フリットガラス層とを挟持させた状態で、前記第１の基板と前記第２の基板とをシール材で封止する第４の工程と、
前記第２の基板の他方の面から、前記フリットガラス層に前記レーザ光を照射して前記フリットガラス層を溶融させ、前記フリットガラス層と前記第１の基板と前記第２の基板とで閉空間を形成する第５の工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 第１の基板の一方の面に発光素子を形成する第１の工程と、
レーザ光を透過する第２の基板の一方の面に、前記発光素子を囲む大きさで前記レーザ光を吸収する緩衝層を形成する第２の工程と、
前記第２の基板の一方の面の側に、前記緩衝層に重なるようにフリットガラス層を形成する第３の工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に前記発光素子と前記緩衝層と前記フリットガラス層とを挟持させた状態で、前記第１の基板と前記第２の基板とをシール材で封止する第４の工程と、
前記第２の基板の他方の面から、前記緩衝層に前記レーザ光を照射して前記フリットガラス層を溶融させ、前記フリットガラス層と前記第１の基板と前記第２の基板とで閉空間を形成する第５の工程と、を有することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 請求項６において、
前記フリットガラス層より融点が高い金属層を用いて前記緩衝層を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 請求項５又は６において、
前記第３の工程で前記フリットガラス層を閉曲線に形成することを特徴とする発光装置の作製方法。
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