JP2012504320A - 2つ以上の動作状態を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図6a
Description
α=arctan(sx/sz)、及び
β=arctan(sy/sz)
α’=−α、及び
β’=−β
641 重ね合わせ領域
643 重ね合わせ領域内に位置する点
Claims (21)
- 第1の動作状態で、マスクの第1の部分領域(604a、704a)が、該第1の部分領域(604a、704a)の各点において第1の重心方向ベクトルを有する割り当てられた第1の重心方向を有する第1の放射線によって照明され、
第2の動作状態で、前記マスクの第2の部分領域(604b、704b)が、該第2の部分領域の各点において第2の重心方向ベクトルを有する割り当てられた第2の重心方向を有する第2の放射線によって照明され、
前記第1の部分領域と該第2の部分領域(604a,704a,604b,704b)が、共通の重ね合わせ領域(641,741)を有する、
物体平面(5,805)内に反射マスクを含み、少なくとも2つの動作状態を有するマイクロ電子構成要素を生成するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
重ね合わせ領域(641,741)の少なくとも1つの部分領域の各点で、第1の正規化重心方向ベクトルと、第2の正規化重心方向ベクトルと、マスクに対して垂直な正規化ベクトルとのスカラー三重積が、0.05よりも小さい、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の少なくとも1つの部分領域の各点で、前記第1の正規化重心方向ベクトルと、前記第2の正規化重心方向ベクトルと、前記マスクに対して垂直な正規化ベクトルとのスカラー三重積が、0.03よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の少なくとも1つの部分領域の各点で、前記第1の正規化重心方向ベクトルと、前記第2の正規化重心方向ベクトルと、前記マスクに対して垂直な正規化ベクトルとのスカラー三重積が0.01よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の少なくとも1つの部分領域の各点で前記第1の重心方向と前記マスクに対して垂直な前記正規化ベクトルとの間の角度が、3°又はそれよりも大きい、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)は、前記第1の部分領域(604a,604a)よりも小さく、かつ前記第2の部分領域(604b、704b)よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 前記第1の動作状態における前記反射マスクの向きが、前記第2の動作状態における該マスクの向きから前記物体平面(5)に対して垂直な軸の回りに180°の回転だけ異なる、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 物体平面(5)内に反射マスクを含み、少なくとも2つの動作状態を有するマイクロ電子構成要素を生成するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
第1の動作状態における反射マスクの向きが、第2の動作状態における該マスクの向きから物体平面(5)に対して垂直な軸の回りに180°の回転だけ異なる、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 物体視野を像視野内に結像するための投影光学ユニット、
を含み、
前記像視野は、13mmの最大広がりを有する、
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 5nmと15nmの間の波長を有する放射線で作動させることができる、
ことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 第1の部分領域(604a、704a)が、該第1の部分領域の各点において第1の重心方向ベクトルを有する第1の重心方向を有する第1の放射線による第1の露光状況において露光され、
第2の露光状況で、マスクの第2の部分領域(604b、704b)が、該第2の部分領域の各点において第2の重心ベクトルを有する第2の重心方向を有する第2の放射線によって露光され、
前記第1の部分領域と前記第2の部分領域は、共通の重ね合わせ領域(641,741)を有する、
物体平面内の反射構造担持マスクが像平面内の基板上に結像されるリソグラフィを用いてマイクロ電子構成要素を生成する方法であって、
重ね合わせ領域(641,741)の各点で、第1の正規化重心方向ベクトルと、第2の正規化重心方向ベクトルと、マスクに対して垂直な正規化ベクトルとのスカラー三重積が、0.05よりも小さい、
ことを特徴とする方法。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の各点で、前記第1の正規化重心方向ベクトルと、前記第2の正規化重心方向ベクトルと、前記マスクに対して垂直な正規化ベクトルとのスカラー三重積が、0.03よりも小さい、
ことを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の各点で、前記第1の正規化重心方向ベクトルと、前記第2の正規化重心方向ベクトルと、前記マスクに対して垂直な正規化ベクトルとのスカラー三重積が、0.01よりも小さい、
ことを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の少なくとも1つの部分領域の各点で前記第1の重心方向と前記マスクに対して垂直な前記正規化ベクトルとの間の角度が、3°又はそれよりも大きい、
ことを特徴とする請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の方法。 - 前記放射線は、5nmと15nmの間の波長を有する、
ことを特徴とする請求項10から請求項13のいずれか1項に記載の方法。 - 第1及び第2の露光が、前記マスクが照明視野を通じて該第1の露光中に第1の走査方向に沿って移動され、かつ該第2の露光中に第2の走査方向に沿って移動される走査処理を用いて行われる、
ことを特徴とする請求項10から請求項14のいずれか1項に記載の方法。 - 第1及び第2の走査方向が、平行又は反平行である、
ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 2つの任意の第1の重心方向ベクトル(235,335)の間又は2つの任意の第2の重心方向ベクトル(235,335)の間の最大角度が、1°よりも小さい、
ことを特徴とする請求項10から請求項16のいずれか1項に記載の方法。 - 前記重ね合わせ領域の各点で、第1及び第2の重心方向ベクトルの間の角度が、1°よりも小さい、
ことを特徴とする請求項10から請求項16のいずれか1項に記載の方法。 - 前記重ね合わせ領域(641,741)の各点で、前記第1及び第2の重心方向ベクトルによって形成される平面と前記マスクに対して垂直な前記正規化ベクトルとの間の角度が、1°よりも小さい、
ことを特徴とする請求項10から請求項16のいずれか1項に記載の方法。 - 前記第1及び前記第2の露光の間に、前記構造担持マスクは、前記物体平面(5)内で180°だけ回転される、
ことを特徴とする請求項10から請求項16又は請求項19のいずれか1項に記載の方法。 - 請求項10から請求項20のいずれか1項に記載の方法に従って生成されたマイクロ電子構成要素。
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