JP2012252183A5 - マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、マイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 - Google Patents
マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、マイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012252183A5 JP2012252183A5 JP2011125104A JP2011125104A JP2012252183A5 JP 2012252183 A5 JP2012252183 A5 JP 2012252183A5 JP 2011125104 A JP2011125104 A JP 2011125104A JP 2011125104 A JP2011125104 A JP 2011125104A JP 2012252183 A5 JP2012252183 A5 JP 2012252183A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microlens
- substrate
- microlens substrate
- manufacturing
- imaging device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
Description
本願の発明に係るひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、基板上の所定の領域を残して反射膜を形成する第1の工程と、前記基板及び前記反射膜上に感光性材料で感光層を形成する第2の工程と、前記所定の領域以外の領域の感光層を露光する第3の工程と、前記第3の工程の後、前記感光層を現像する第4の工程と、前記基板を加熱する第5の工程と、を含み、前記所定の領域にマイクロレンズが形成されることを特徴とする。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記マイクロレンズは、前記第4の工程により残った前記感光層が加熱により変形して形成されることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記第4の工程の後において、前記所定の領域の上に残った前記感光層は、前記基板側面の面積が前記基板と反対側の面の面積よりも小さいことが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記基板は反射防止膜が形成されており、前記反射膜は前記反射防止膜上に形成されることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記第3の工程は、前記所定の領域を覆うマスクを用いて行われることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記反射膜は所定の幅を有し、前記所定の場所を囲んで形成されることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記基板を前記マスクが存在する側から見た平面視において、前記マスクの外縁は、前記反射膜の外縁の内側にあることが好ましい。
本願の発明に係るマイクロレンズは、基板上にマイクロレンズが形成されたマイクロレンズ基板であって、前記マイクロレンズの縁の部分において、前記マイクロレンズと前記基板との間に第1の層が形成されていることを特徴とする。
本願の発明に係るひとつの撮像装置は、上記のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板又は上記のひとつのマイクロレンズ基板を備えることが好ましい。
[適用例1]本適用例に係るマイクロレンズ基板の製造方法は、基板のうちマイクロレンズが形成される領域の周囲に反射性材料で反射膜を形成する反射膜形成工程と、前記反射膜が形成された前記基板上にポジ型の感光性材料で感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層のうち前記マイクロレンズに対応する領域以外の領域を、前記感光層を挟んで前記基板とは反対側から露光する露光工程と、露光された前記感光性材料を現像する現像工程と、前記感光性材料の表面を加熱により曲面状に変形させることで前記マイクロレンズを形成する加熱工程と、を含むことを特徴とする。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記マイクロレンズは、前記第4の工程により残った前記感光層が加熱により変形して形成されることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記第4の工程の後において、前記所定の領域の上に残った前記感光層は、前記基板側面の面積が前記基板と反対側の面の面積よりも小さいことが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記基板は反射防止膜が形成されており、前記反射膜は前記反射防止膜上に形成されることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記第3の工程は、前記所定の領域を覆うマスクを用いて行われることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記反射膜は所定の幅を有し、前記所定の場所を囲んで形成されることが好ましい。
上記のひとつのマイクロレンズ基板の製造方法は、前記基板を前記マスクが存在する側から見た平面視において、前記マスクの外縁は、前記反射膜の外縁の内側にあることが好ましい。
本願の発明に係るマイクロレンズは、基板上にマイクロレンズが形成されたマイクロレンズ基板であって、前記マイクロレンズの縁の部分において、前記マイクロレンズと前記基板との間に第1の層が形成されていることを特徴とする。
本願の発明に係るひとつの撮像装置は、上記のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板又は上記のひとつのマイクロレンズ基板を備えることが好ましい。
[適用例1]本適用例に係るマイクロレンズ基板の製造方法は、基板のうちマイクロレンズが形成される領域の周囲に反射性材料で反射膜を形成する反射膜形成工程と、前記反射膜が形成された前記基板上にポジ型の感光性材料で感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層のうち前記マイクロレンズに対応する領域以外の領域を、前記感光層を挟んで前記基板とは反対側から露光する露光工程と、露光された前記感光性材料を現像する現像工程と、前記感光性材料の表面を加熱により曲面状に変形させることで前記マイクロレンズを形成する加熱工程と、を含むことを特徴とする。
Claims (10)
- 基板上の所定の領域を残して反射膜を形成する第1の工程と、
前記基板及び前記反射膜上に感光性材料で感光層を形成する第2の工程と、
前記所定の領域以外の領域の感光層を露光する第3の工程と、
前記第3の工程の後、前記感光層を現像する第4の工程と、
前記基板を加熱する第5の工程と、を含み、
前記所定の領域にマイクロレンズが形成されることを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。 - 前記マイクロレンズは、前記第4の工程により残った前記感光層が加熱により変形して形成されることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記第4の工程の後において、前記所定の領域の上に残った前記感光層は、前記基板側面の面積が前記基板と反対側の面の面積よりも小さいことを特徴とする請求項1又は2に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記基板は反射防止膜が形成されており、前記反射膜は前記反射防止膜上に形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記第3の工程は、前記所定の領域を覆うマスクを用いて行われることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記反射膜は所定の幅を有し、前記所定の場所を囲んで形成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記基板を前記マスクが存在する側から見た平面視において、前記マスクの外縁は、前記反射膜の外縁の内側にあることを特徴とする請求項6に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 基板上にマイクロレンズが形成されたマイクロレンズ基板であって、
前記マイクロレンズの縁の部分において、前記マイクロレンズと前記基板との間に第1の層が形成されていることを特徴とするマイクロレンズ基板。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板又は請求項8に記載のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とする撮像装置。
- 請求項9に記載の撮像装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011125104A JP2012252183A (ja) | 2011-06-03 | 2011-06-03 | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011125104A JP2012252183A (ja) | 2011-06-03 | 2011-06-03 | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012252183A JP2012252183A (ja) | 2012-12-20 |
JP2012252183A5 true JP2012252183A5 (ja) | 2014-07-17 |
Family
ID=47525050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011125104A Withdrawn JP2012252183A (ja) | 2011-06-03 | 2011-06-03 | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012252183A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101547155B1 (ko) * | 2014-03-03 | 2015-08-26 | 한국과학기술원 | 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법 |
US20160260731A1 (en) | 2015-03-03 | 2016-09-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device, manufacturing method for a semiconductor device, and nontransitory computer readable medium storing a pattern generating program |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03173472A (ja) * | 1989-12-01 | 1991-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | マイクロレンズの形成方法 |
JP3547467B2 (ja) * | 1993-12-17 | 2004-07-28 | リコー光学株式会社 | マイクロレンズアレイおよびその製造方法 |
JPH08313706A (ja) * | 1995-05-12 | 1996-11-29 | Hoya Corp | 遮光部一体型マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
JPH1098173A (ja) * | 1996-09-25 | 1998-04-14 | Sony Corp | オンチップマイクロレンズの形成方法 |
JP3965541B2 (ja) * | 1998-08-27 | 2007-08-29 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズアレイの製造方法 |
JP3796208B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2006-07-12 | Hoya株式会社 | 液晶表示パネル用対向基板およびその製造方法 |
JP4383959B2 (ja) * | 2003-05-28 | 2009-12-16 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置およびその製造方法 |
JP4555030B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2010-09-29 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
JP2006267866A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | マイクロレンズアレイの作製方法 |
JP2007187759A (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-26 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ |
JP5007082B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2012-08-22 | 日立マクセル株式会社 | 撮像装置および生体認証装置 |
JP5708108B2 (ja) * | 2011-03-23 | 2015-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズ基板の製造方法 |
-
2011
- 2011-06-03 JP JP2011125104A patent/JP2012252183A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7226459B2 (ja) | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 | |
IN2014DN03390A (ja) | ||
JP2015028537A5 (ja) | 光拡散部材の製造方法 | |
WO2008108032A1 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2009283970A5 (ja) | ||
JP2009031392A5 (ja) | ||
JP2015064534A5 (ja) | 表示素子およびその製造方法 | |
JP2010166038A5 (ja) | ||
JP2011129165A5 (ja) | ||
WO2011037323A3 (ko) | 광배향막 제조용 자외선 고투과 이중 선 격자 편광판 및 이의 제조방법 | |
WO2008007008A3 (fr) | Procédé pour la réalisation d'une matrice de composants électroniques individuels et matrice réalisée par ce procédé | |
JP2007072452A5 (ja) | ||
JP2009033134A5 (ja) | ||
JP2011222596A5 (ja) | ||
JP2008288313A5 (ja) | ||
JP2012138570A5 (ja) | ||
EP2385427A3 (en) | Method for preparing a printing form | |
SG11201807712YA (en) | Method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device | |
JP2016206655A5 (ja) | ||
JP2012178543A5 (ja) | ||
JP2007072451A5 (ja) | ||
SG155147A1 (en) | Methods for enhancing photolithography patterning | |
JP2012252183A5 (ja) | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、マイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 | |
JP2013191656A5 (ja) | ||
TW200941545A (en) | Method for patterning photoresist layer |