JP2012138570A5 - - Google Patents
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- 第1の材料(2)で作られるパターンを生成する方法であって、
第1のエッチングマスク(4)と、カバリング層(3)と、第2のエッチングマスク(6)とにより覆われた第1の材料(2)の層が設けられた基板(1)を供給するステップであって、前記カバリング層(3)は、前記第2のエッチングマスク(6)により覆われた主領域(C)と、覆われていない副領域(D)と、を有する、ステップと、
前記カバリング層(3)の副領域(D)を、前記第2のエッチングマスク(6)を用いて部分的にエッチングし、前記カバリング層(3)に突出パターンを形成するステップと、
マスキング材料(5)を形成およびエッチングして、第3のエッチングマスク(8)を定義する前記突出パターンの周囲に、横スペーサを形成するステップと、
前記第2のエッチングマスク(6)を除去するステップと、
前記第3のエッチングマスク(8)を用いて、前記カバリング層(3)をエッチングし、前記カバリング層(3)における突出パターンを形成し、かつ、前記第1のエッチングマスク(4)および前記第1の材料(2)を露出させるステップと、
前記カバリング層(3)と前記第1のエッチングマスク(4)とを用いて、前記第1の材料(2)の層をエッチングし、前記第1の材料(2)で作られるパターンを形成するステップと、
を備えることを特徴とする方法。 - 前記第1のエッチングマスク(4)の形成は、
追加のマスキング層(9)と、追加のエッチングマスク(10)と、により覆われた前記第1の材料(2)の層が設けられた基板(1)を供給するステップと、
前記追加のマスキング層(9)をエッチングし、前記第1のエッチングマスク(4)を形成するステップと、
前記追加のエッチングマスク(10)を除去するステップと、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 第3のエッチングマスク(8)を定義する突出パターンの周囲に前記横スペーサが形成される前に、前記第2のエッチングマスク(6)は除去される、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の方法。
- 前記カバリング層(3)は前記第1のエッチングマスク(4)を完全に覆う、ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の方法。
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