JP2012204781A

JP2012204781A - Composite filter, and image display device with filter arranged on front side

Info

Publication number: JP2012204781A
Application number: JP2011070614A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Kawanishi; 毅川西; Yoichiro Ohashi; 洋一郎大橋
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2011-03-28
Filing date: 2011-03-28
Publication date: 2012-10-22

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite filter excellent in antistatic performance including an electromagnetic wave shielding filter of which a blacking layer is hard to come off while an outside light reflection prevention performance is good, and to provide a front surface filter for a plasma display that uses the filter.SOLUTION: A composite filter 100 includes an electromagnetic wave shielding filter 10 and a reflection preventing filter 20 in which a hard coat layer 3 and a low refractive index layer 4 are sequentially stacked on transparent base materials 1 and 1'. The hard coat layer 3 contains antimony pentoxide and urethane resin. The antimony pentoxide is dispersed in the hard coat layer 3 in such state as forming a three-dimensional mesh structure. The electromagnetic wave shielding filter 10 includes a conductive pattern layer 2 which contains a resin binder 2b and conductive particles 2c formed in a predetermined pattern on the transparent base material 1. In the conductive pattern layer 2, a metal layer 2m is formed in its surface where an end corner part at a top part is protruded while a central part of the top part is recessed, with a blacking layer 2n which is a metal needle-like crystal formed on the surface of the metal layer 2m.

Description

本発明は画像表示装置（ディスプレイ）の前面に配置するのに好適な複合フィルタ、及びその複合フィルタを前面に配置した画像表示装置に関する。 The present invention relates to a composite filter suitable for being disposed on the front surface of an image display device (display), and an image display device having the composite filter disposed on the front surface.

近年、画像表示装置の大型化、薄型化に伴い、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）が注目を集めている。
ＰＤＰは、発光にプラズマ放電を利用するため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器（例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等）に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側（画面側であり、画像の観察者側でもある）に、画像光の透過性は維持した上で、漏洩する電磁波を遮蔽（シールド）するためのフィルム状の電磁波シールド部材を設けるのが一般的である。
なお、本発明において単に電磁波という場合は、周波数が上記範囲を中心とするＫＨｚ〜ＧＨｚ帯近辺の電磁波のことをいう。赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線等は含まないものとする（例えば、赤外線帯域の周波数の電磁波は赤外線と呼称する）。 In recent years, with the increase in size and thickness of image display devices, plasma displays (PDP) have attracted attention.
Since PDP uses plasma discharge for light emission, unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band may leak to the outside and affect other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). Therefore, on the front side of the plasma display panel used in the plasma display device (on the screen side and also on the image viewer side), the leakage of electromagnetic waves is shielded (shielded) while maintaining the transparency of the image light. It is common to provide a film-like electromagnetic shielding member for this purpose.
In the present invention, the term “electromagnetic wave” means an electromagnetic wave in the vicinity of the KHz to GHz band whose frequency is centered on the above range. It does not include infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, etc. (for example, electromagnetic waves having a frequency in the infrared band are referred to as infrared rays).

ＰＤＰの前面フィルタは、通常、電磁波シールド部材とともに、少なくとも、観察者側の最外面に反射防止フィルタを備える複合フィルタである。しかし、ＰＤＰ装置の視聴時に、（日光、電灯光等の）外光がＰＤＰ画面上の電磁波シールド材（の特に導電性パターン）で拡散反射して、画面全体が白化する。すなわち、画像コントラスト（白画像表示部の輝度／黒画像表示部の輝度）が低下するという問題がある。その対策として、特許文献１にあるように、電磁波シールド部材の導電性パターン層を黒化ニッケルめっき、銅−コバルト合金めっき等の黒化層で被覆することが行われる。
しかしながら、従来公知の黒化処理層の形成では、外光が画面に照射される環境下（特に、昼間または高輝度照明下などの明室環境下）における画像コントラスト向上効果はなお不十分であった。即ち、黒化層は、光の反射率を低くする程、自由電子の易動度は低下し、導電性が低下する為、電磁波の反射性即ち電磁波遮蔽性も低下する傾向にある。
そのため、従来、黒化層について、外光反射防止性能と電磁波遮蔽性能との両立は困難であった。 The front filter of the PDP is usually a composite filter including an antireflection filter on at least the outermost surface on the viewer side together with an electromagnetic wave shielding member. However, when viewing the PDP device, the outside light (such as sunlight, electric light) is diffusely reflected by the electromagnetic shielding material (particularly the conductive pattern) on the PDP screen, and the entire screen is whitened. That is, there is a problem that image contrast (brightness of the white image display unit / brightness of the black image display unit) decreases. As a countermeasure, as disclosed in Patent Document 1, the conductive pattern layer of the electromagnetic wave shielding member is covered with a blackening layer such as blackening nickel plating or copper-cobalt alloy plating.
However, the formation of the conventionally known blackening treatment layer is still insufficient in the image contrast improvement effect in an environment where the screen is exposed to external light (particularly in a bright room environment such as daytime or under high-luminance illumination). It was. That is, in the blackened layer, the lower the light reflectance, the lower the mobility of free electrons and the lower the conductivity, so that the reflectivity of electromagnetic waves, that is, the electromagnetic wave shielding properties tend to decrease.
Therefore, conventionally, it has been difficult for the blackened layer to achieve both external light antireflection performance and electromagnetic wave shielding performance.

また、導電性凸状パターン層に、常法により金属メッキ層及び黒化層を設けた場合、黒化層表面は、平坦面あるいは半円または楕円形状となる。
しかしながら、このようにして製造した電磁波遮蔽用シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程でガイドロール等の稼動部位との接触面積が大きい為、黒化層が磨耗、剥脱する量が多く、黒化層形成の効果が損なわれるという問題がある。 Further, when a metal plating layer and a blackened layer are provided on the conductive convex pattern layer by a conventional method, the surface of the blackened layer becomes a flat surface, a semicircle or an ellipse.
However, the electromagnetic shielding sheet produced in this way has a large contact area with the working part such as a guide roll in the functional film laminating process, which is a subsequent process, so the blackened layer is worn and peeled off in a large amount. There exists a problem that the effect of blackening layer formation is impaired.

反射防止フィルタなど光学フィルタの基材としては、透明性や硬度に優れるプラスチック基材が使用されているが、このようなプラスチック基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。
このような帯電を防止するために、光学フィルタの一部に帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが、従来より行われている。
帯電防止剤としては、π共役系電導性有機化合物、アルミニウムや銅等の金属単体又は合金、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）又はスズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物系の導電性超微粒子、有機電導ポリマー、４級アンモニウム塩系等の導電性微粒子が知られている（特許文献２など）。
しかしながら、このような帯電防止剤を使用する場合、特に、金属単体、合金、及び金属酸化物の場合は、光学フィルタの導電性を高めようとすると、帯電防止剤の添加量を多くせざるを得ず、その結果、光学フィルタのヘイズが増大して光透過性が低下し、十分な光学特性が得られないといった問題があった。 As a base material for optical filters such as antireflection filters, plastic base materials with excellent transparency and hardness are used. However, such plastic base materials are easy to be charged due to their high insulating properties, which is caused by adhesion of dust and the like. There is a problem in that dirt is generated and a failure occurs due to electrification not only in the case of use but also in the display manufacturing process.
In order to prevent such charging, it has been conventionally practiced to provide an antistatic layer containing an antistatic agent on a part of the optical filter.
Antistatic agents include π-conjugated conductive organic compounds, simple metals or alloys such as aluminum and copper, antimony-doped tin oxide (ATO) or tin-doped indium oxide (ITO) -based metal oxides Conductive ultrafine particles, organic conductive polymers, and quaternary ammonium salt-based conductive fine particles are known (Patent Document 2, etc.).
However, when such an antistatic agent is used, particularly in the case of a simple metal, an alloy, and a metal oxide, the addition amount of the antistatic agent must be increased in order to increase the conductivity of the optical filter. As a result, the haze of the optical filter is increased, the light transmittance is lowered, and sufficient optical characteristics cannot be obtained.

国際公開第２００８／１４９９６９号パンフレットInternational Publication No. 2008/149969 Pamphlet 特開平５−３３９３０６号公報JP-A-5-339306

本発明の目的は、外光反射防止フィルタと黒化処理を施したパターン状の導電層を有する電磁波遮蔽フィルタとを含む複合フィルタにおいて、黒化層が脱落し難く、外光反射防止性が良好な電磁波遮蔽フィルタを含む、帯電防止性能が優れた複合フィルタ及びそのフィルタを用いたプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a composite filter including an external light antireflection filter and an electromagnetic wave shielding filter having a patterned conductive layer subjected to blackening treatment. Another object of the present invention is to provide a composite filter having an excellent antistatic performance, including an electromagnetic wave shielding filter, and a front filter for a plasma display using the filter.

本発明は、電磁波遮蔽フィルタと透明基材上にハードコート層、低屈折率層を順次積層した反射防止フィルタとを含む複合フィルタであって、ハードコート層は、五酸化アンチモン及びウレタン樹脂を含有し、該五酸化アンチモンがハードコート層中に三次元網目構造を形成して分散されているものであり、電磁波遮蔽フィルタは、透明基材上に所定のパターンで形成された導電性粒子と樹脂バインダーを含む導電性パターン層を有するものであり、該導電性パターン層が、その表面に、頂部の端角部が突出し、頂部の中央部が凹陥した金属層が形成され、かつ、該金属層の表面には多数の（金属の）針状結晶（針状突起）からなる黒化層が形成されているものである複合フィルタ及びそのフィルタを前面に配置した画像表示装置を提供するものである。 The present invention is a composite filter comprising an electromagnetic wave shielding filter and an antireflection filter in which a hard coat layer and a low refractive index layer are sequentially laminated on a transparent substrate, wherein the hard coat layer contains antimony pentoxide and a urethane resin. The antimony pentoxide is dispersed by forming a three-dimensional network structure in the hard coat layer, and the electromagnetic wave shielding filter comprises conductive particles and resin formed in a predetermined pattern on a transparent substrate. A conductive pattern layer containing a binder, the conductive pattern layer having a metal layer in which an end corner portion of the top portion protrudes and a central portion of the top portion is recessed, and the metal layer is formed. Provided is a composite filter in which a blackening layer composed of a number of (metal) needle-like crystals (needle-like protrusions) is formed on the surface thereof, and an image display device having the filter arranged on the front surface. Than is.

本発明の複合フィルタは、透明基材上に、ウレタン樹脂中に三次元網目構造で五酸化アンチモンを分散したハードコート層、及び低屈折率層を順次積層した反射防止フィルタと、導電性パターン層が、頂部の端角部が突出し、頂部の中央部が凹陥した金属層の表面に多数の針状結晶（針状突起）からなる黒化層が形成されているという微細表面構造を有する電磁波遮蔽フィルタとからなるため、次のような効果が奏される。
導電性パターン層表面の黒化層を形成する多数の針状結晶は、入射した光が、針間の面で多重反射されるうちに、吸収、散乱が多数回起こり、多くの光を減衰させ、反射光量は大幅に減少する。また、多数の針状突起は、凹陥した金属層の表面にランダムな方向で形成されているため、強い入射光は乱反射され、観察者の視線方向成分の強度が低減される。さらに、金属層形成時の電流密度を高めると、頂部金属層表面内に溝状凹部ができるが、外光は、該溝状凹部内での多重反射によっても減衰する。
かかる電磁波遮蔽フィルタの反射防止効果と反射防止フィルタの反射防止効果とが相俟って、本発明の複合フィルタは、外光反射防止性が極めて良好であり、優れた画像コントラスト向上効果を発揮する。
また、黒化層を形成する該針状結晶は導電性の金属からなる為、良好な導電性（即ち、電磁波遮蔽性）も具備する。
さらには、導電性パターン層の頂部が凹んだ本発明においては、ガイドロール等との接触面積が少なく、頂部の凹部表面は非接触のため、凹部表面上の針状結晶からなる黒化層は磨耗、剥脱が防止される。
そして、反射防止フィルタを構成するハードコート層中には、五酸化アンチモンが、三次元網目構造で互いに導通がとれる程度に連続して隣接して分散しているため、ヘイズが高くなる程の多量を使用することなく、優れた帯電防止性能を発揮することができる。 The composite filter of the present invention includes an antireflection filter in which a hard coat layer in which antimony pentoxide is dispersed in a three-dimensional network structure in a urethane resin and a low refractive index layer are sequentially laminated on a transparent substrate, and a conductive pattern layer However, the electromagnetic wave shielding has a fine surface structure in which a blackened layer composed of a large number of acicular crystals (needle projections) is formed on the surface of the metal layer having a protruding end corner and a recessed central portion of the top. Since it consists of a filter, the following effects are produced.
Many acicular crystals that form the blackened layer on the surface of the conductive pattern layer absorb and scatter many times while the incident light is multiple-reflected on the surface between the needles, thereby attenuating much of the light. The amount of reflected light is greatly reduced. In addition, since many needle-like protrusions are formed in a random direction on the surface of the recessed metal layer, strong incident light is irregularly reflected, and the intensity of the observer's line-of-sight component is reduced. Further, when the current density at the time of forming the metal layer is increased, a groove-shaped recess is formed in the surface of the top metal layer, but external light is also attenuated by multiple reflection in the groove-shaped recess.
Combined with the anti-reflection effect of the electromagnetic wave shielding filter and the anti-reflection effect of the anti-reflection filter, the composite filter of the present invention has extremely good anti-light reflection property and exhibits an excellent image contrast improvement effect. .
Moreover, since the acicular crystal forming the blackened layer is made of a conductive metal, it also has good conductivity (that is, electromagnetic wave shielding).
Furthermore, in the present invention in which the top of the conductive pattern layer is recessed, the contact area with the guide roll or the like is small, and the concave surface of the top is non-contact, so the blackened layer made of needle-like crystals on the concave surface is Abrasion and exfoliation are prevented.
Further, in the hard coat layer constituting the antireflection filter, antimony pentoxide is dispersed continuously adjacent to such an extent that the three-dimensional network structure can be electrically connected to each other. It is possible to exhibit excellent antistatic performance without using.

図１（Ａ）は、電磁波遮蔽フィルタと反射防止フィルタを必須構成部材とする本発明に係る複合フィルタを模式的に示した拡大断面図である。図１（Ｂ）は、図１（Ａ）における電磁波遮蔽フィルタ部分の拡大図である。FIG. 1A is an enlarged cross-sectional view schematically showing a composite filter according to the present invention having an electromagnetic wave shielding filter and an antireflection filter as essential constituent members. FIG. 1B is an enlarged view of the electromagnetic wave shielding filter portion in FIG. 本発明（実施例１）の電磁波遮蔽フィルタを黒化層側から見た走査型電子顕微鏡写真である。It is the scanning electron micrograph which looked at the electromagnetic wave shielding filter of this invention (Example 1) from the blackening layer side. 本発明（実施例１）の反射防止フィルタを構成するハードコート層の断面の走査型電子顕微鏡写真である。It is a scanning electron micrograph of the cross section of the hard-coat layer which comprises the antireflection filter of this invention (Example 1). 本発明に係る複合フィルタの層構成を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the layer structure of the composite filter which concerns on this invention.

本発明の複合フィルタ１００は、図１（Ａ）に示す如く、特定の電磁波遮蔽フィルタ１０、特定の反射防止フィルタ２０とを必須構成部材として含むものである。そして、図４に示すように、反射防止フィルタ２０と電磁波遮蔽フィルタ１０との間の位置３０及び電磁波遮蔽フィルタの画像表示装置側の位置３０のいずれか１箇所以上に機能層を設けるものである。
以下、これらについて詳細に説明する。 As shown in FIG. 1A, the composite filter 100 of the present invention includes a specific electromagnetic wave shielding filter 10 and a specific antireflection filter 20 as essential constituent members. And as shown in FIG. 4, a functional layer is provided in any one or more of the position 30 between the antireflection filter 20 and the electromagnetic wave shielding filter 10 and the position 30 on the image display device side of the electromagnetic wave shielding filter. .
Hereinafter, these will be described in detail.

〔電磁波遮蔽フィルタ〕
本発明において使用する電磁波遮蔽フィルタ１０は、透明基材１上に所定のパターンで形成された導電性粒子２ｃと樹脂バインダー２ｂを含む導電性パターン層２を有するものであり、該導電性パターン層２の表面には、頂部の両側端縁の端角部が突出し、頂部の中央部が凹陥した金属層２ｍが形成され、かつ、該金属層２ｍの表面には金属の針状突起２ｎ（針状結晶；黒化層）が形成されているものである。
以下、電磁波遮蔽フィルタ１０の構成、製造方法について説明する。 [Electromagnetic wave shielding filter]
The electromagnetic wave shielding filter 10 used in the present invention has a conductive pattern layer 2 including conductive particles 2c formed in a predetermined pattern on a transparent substrate 1 and a resin binder 2b. The conductive pattern layer 2 is formed with a metal layer 2m in which the corners of both side edges of the top portion protrude and the central portion of the top portion is recessed, and a metal needle-like protrusion 2n (needle) is formed on the surface of the metal layer 2m. (A black crystal layer).
Hereinafter, the configuration and manufacturing method of the electromagnetic wave shielding filter 10 will be described.

（透明基材）
透明基材１は、可視光線領域での透明性（光透過性）、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でもよい。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム（乃至シート）が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取（ロール）から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。 (Transparent substrate)
The transparent substrate 1 may be appropriately selected from known materials and thicknesses in consideration of required physical properties such as transparency (light transmittance) in the visible light region, heat resistance, and mechanical strength, such as glass and ceramics. A plate-like rigid body such as a transparent inorganic plate or a resin plate may be used. However, a flexible resin film (or sheet) is preferable in consideration of suitability for continuous processing with a roll-to-roll having excellent productivity. The roll-to-roll refers to a processing method in which the material is unwound and supplied from a winding (roll), appropriately processed, and then wound and stored in the winding.

樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−１，４シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリプロピレン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその２軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。
透明無機物としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、鉛硝子等の硝子、或いはＰＬＺＴ等の透明セラミックス、石英等である。 Examples of resins for resin films and resin plates include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene glycol-1,4 cyclohexanedimethanol-terephthalic acid copolymer, and ethylene glycol-terephthalic acid-isophthalic acid copolymer. Examples thereof include resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyolefin resins such as polypropylene and cycloolefin polymers, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polycarbonate resins, and the like. Among them, polyethylene terephthalate is a transparent base material whose biaxially stretched film is preferable in terms of heat resistance, mechanical strength, light transmittance, cost, and the like.
Examples of the transparent inorganic material include soda glass, potassium glass, borosilicate glass, lead glass, and other transparent ceramics such as PLZT, quartz, and the like.

透明基材１の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば１２〜５００μｍ、好ましくは２５〜２００μｍ程度である。樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、５００〜５０００μｍ程度である。 The thickness of the transparent substrate 1 is basically not particularly limited and is appropriately selected depending on the application. When a flexible resin film is used, it is, for example, about 12 to 500 μm, preferably about 25 to 200 μm. In the case of using a resin or transparent inorganic plate, the thickness is, for example, about 500 to 5000 μm.

なお、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。 In addition, known additives such as an ultraviolet absorber, a colorant, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent can be appropriately added to the resin of the transparent substrate as necessary.
The transparent base material may be obtained by performing known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, primer treatment, and ground treatment on the surface.

（導電性パターン層）
本発明の複合フィルタの電磁波遮蔽フィルタ１０における導電性パターン層２は、導電性粒子２ｃ及び樹脂バインダー２ｂを含み、透明基材１上又は該透明基材上にプライマー層を形成する場合には該プライマー層上に所定のパターンで設けられた層である。
パターン形状としては線条パターンであり、メッシュ（網目乃至格子）形状が代表的なものであるが、その他、ストライプ（平行線群乃至縞模様）形状、螺旋形状等も用いられる。メッシュ形状の場合、単位格子形状は、正３角形、不等辺３角形等の３角形、正方形、長方形、台形、菱形等の４角形、６角形、８角形等の多角形、円、楕円等が用いられる。また、モアレを軽減する目的で、ランダム網目状、又は擬似ランダム網目状のパターンなども使用可能である。その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は５〜５０μｍとすることができ、線間ピッチは１００〜５００μｍとすることができる。開口率（所定パターン形成領域の全面積中における開口部の合計面積の占める比率）は、通常、５０〜９５％程度である。また所定パターンとは別に、その周辺部の全周又はその一部にそれと導通を保ちつつ隣接した全ベタ（開口部なし）等の接地パターンが設けられる場合もある。
なお、線幅は、より高透明のものを得るために、より一層微細化することが求められている。この観点から、３０μｍ以下、特に２０μｍ以下とすることが好ましい。 (Conductive pattern layer)
The conductive pattern layer 2 in the electromagnetic wave shielding filter 10 of the composite filter of the present invention includes conductive particles 2c and a resin binder 2b, and when the primer layer is formed on the transparent substrate 1 or on the transparent substrate, It is a layer provided in a predetermined pattern on the primer layer.
The pattern shape is a line pattern, and a mesh (mesh or lattice) shape is typical, but a stripe (parallel line group or stripe pattern) shape, a spiral shape, or the like is also used. In the case of a mesh shape, the unit cell shape may be a triangle such as a regular triangle or an unequal side triangle, a square such as a square, rectangle, trapezoid or rhombus, a polygon such as a hexagon or octagon, a circle or an ellipse. Used. In addition, a random mesh pattern or a pseudo-random mesh pattern can be used for the purpose of reducing moire. The line width and the inter-line pitch may be dimensions that are usually employed. For example, the line width can be 5 to 50 μm, and the line-to-line pitch can be 100 to 500 μm. The aperture ratio (ratio of the total area of the openings in the total area of the predetermined pattern formation region) is usually about 50 to 95%. In addition to the predetermined pattern, there may be a case where a grounding pattern such as all adjacent solids (no opening) is provided on the entire periphery or a part of the periphery thereof while maintaining electrical continuity therewith.
The line width is required to be further refined in order to obtain a more highly transparent line. From this viewpoint, it is preferably 30 μm or less, particularly 20 μm or less.

また、導電性パターン層２の厚さは、その導電性パターン層の抵抗値によっても異なるが、導電性能と該導電性パターン層上への他部材の接着適性との兼ね合いから、その中央部（突起パターンの頂部）での測定において、通常、２μｍ以上５０μｍ以下であり、好ましくは、５μｍ以上２０μｍ以下である。
この導電性パターン層２は、導電性粒子２ｃと樹脂バインダー２ｂを含む導電性インキを、後述する印刷法により基材上又は透明プライマー層上に形成することで得ることができる。 In addition, the thickness of the conductive pattern layer 2 varies depending on the resistance value of the conductive pattern layer, but from the balance between the conductive performance and the adhesion suitability of other members on the conductive pattern layer, the central portion ( In the measurement at the top of the projection pattern, it is usually 2 μm or more and 50 μm or less, preferably 5 μm or more and 20 μm or less.
This electroconductive pattern layer 2 can be obtained by forming electroconductive ink containing the electroconductive particle 2c and the resin binder 2b on a base material or a transparent primer layer by the printing method mentioned later.

導電性粒子２ｃとしては、金、銀、白金、銅、ニッケル、錫、アルミニウムなどの低抵抗率金属の粒子、或いは高抵抗率金属粒子、樹脂粒子、非金属無機粒子等の表面が金や銀などの低抵抗率金属で被覆された粒子等を好ましく挙げることができ、形状も球状、回転楕円体状、正多面体状、截頭多面体状、鱗片状、円盤状、樹枝状、繊維状等から選ぶことができる。
これらの材料や形状は適宜混合して用いてもよい。導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が０．１〜１０μｍ程度のものを用いることができる。導電性組成物中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電性組成物の固形分１００質量部のうち、導電性粒子を４０〜９９質量部の範囲で含有させることができる。なお、本明細書において、平均粒子径というときは、粒度分布計、またはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察で測定した値を指している。 The conductive particles 2c include gold, silver, platinum, copper, nickel, tin, aluminum or other low-resistivity metal particles, or high-resistivity metal particles, resin particles, non-metallic inorganic particles, or the like. Preferred examples include particles coated with a low resistivity metal such as spherical, spheroidal, regular polyhedral, truncated polyhedral, scaly, disk, dendritic, fibrous, etc. You can choose.
These materials and shapes may be appropriately mixed and used. Since the size of the conductive particles is arbitrarily selected according to the type, it cannot be specified unconditionally. be able to. Although content of the electroconductive particle in an electroconductive composition is arbitrarily selected according to the electroconductivity of an electroconductive particle or the form of particle | grains, for example, among 100 mass parts of solid content of an electroconductive composition, it is electroconductive. The particles can be contained in the range of 40 to 99 parts by mass. In the present specification, the average particle diameter refers to a value measured by a particle size distribution meter or TEM (transmission electron microscope) observation.

樹脂バインダー２ｂとしては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として後述する物を挙げることができ、熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の樹脂を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。
また、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤を使用できる。溶剤の含有量は通常、１０〜７０質量％程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。 As the resin binder 2b, any of thermosetting resins, ionizing radiation curable resins, and thermoplastic resins can be used. Examples of the thermosetting resin include resins such as melamine resin, polyester-melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyurethane resin, and thermosetting polyester resin. Examples of the ionizing radiation curable resin include those described later as the primer material. Examples of the thermoplastic resin include thermoplastic polyester resin, polyvinyl butyral resin, thermoplastic acrylic resin, and thermoplastic polyurethane resin. Can be mentioned. In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When using an ionizing radiation curable resin, a photopolymerization initiator may be added as necessary.
Further, in order to obtain fluidity suitable for filling the concave portion of the plate, these resins are usually used as a varnish dissolved in a solvent. There is no restriction | limiting in particular in the kind of solvent, The solvent generally used for printing ink can be used. The content of the solvent is usually about 10 to 70% by mass, but it is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity is obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin is used, a solvent is not necessarily required because it is inherently fluid.

導電性パターン層２は、その表面において、頂部の少なくとも片方の側端縁、好ましくは両側端縁の端角部が突出し、且つ頂部の中央部が凹陥した金属層２ｍが形成され、かつ、該金属層の表面には金属の針状突起２ｎ（針状結晶；黒化層）が形成されている。この表面構造のために、黒化層表面の針状結晶の磨耗、剥脱が改善され、外光反射防止性が良好であるという効果を奏する。 The conductive pattern layer 2 has, on its surface, a metal layer 2m in which at least one side edge of the top portion, preferably an end corner portion of both side edges protrudes, and a central portion of the top portion is recessed, and the conductive layer 2 is formed. Metal needle-like protrusions 2n (needle crystals; blackened layer) are formed on the surface of the metal layer. Due to this surface structure, the wear and exfoliation of the needle-like crystals on the surface of the blackened layer are improved, and the effect of preventing the reflection of external light is obtained.

（プライマー層などその他の層）
本発明の電磁波遮蔽フィルタにおいては、透明基材１と導電性パターン層２との密着性を高めるために、該透明基材と該導電性パターン層との間にプライマー層を設けることが好ましい。
該プライマー層は、透明基材及び導電性パターン層の双方に密着性が良く、また開口部（導電性パターン層非形成部）の光透過性確保のために透明な層である。
更に、導電性パターン層の形成を後述の如き特定の凹版印刷法で行なう場合には、該プライマー層は、流動性を保持できる状態で透明基材上に設けられ、凹版印刷時の凹版に接触している間に液状から固化させる層として形成される層となり、最終的な導電部材が形成されたときに固化している層である。 (Other layers such as primer layer)
In the electromagnetic wave shielding filter of the present invention, it is preferable to provide a primer layer between the transparent substrate and the conductive pattern layer in order to improve the adhesion between the transparent substrate 1 and the conductive pattern layer 2.
The primer layer has good adhesion to both the transparent substrate and the conductive pattern layer, and is a transparent layer for ensuring light transmittance of the opening (conductive pattern layer non-formed portion).
Furthermore, when the conductive pattern layer is formed by a specific intaglio printing method as described later, the primer layer is provided on the transparent substrate in a state where fluidity can be maintained, and contacts the intaglio at the time of intaglio printing. It is a layer that is formed as a layer that is solidified from a liquid state during the process, and is a solidified layer when the final conductive member is formed.

かかる透明プライマー層を構成する材料としては、本来特に限定はないが、本発明では、導電性パターン層の形成方法として後述の如き特定の凹版印刷法が推奨されるため、プライマー層も、未硬化状態において液状（流動性）の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を塗工、硬化（固体化）してなる層が好適に用いられる。以下、この材料を中心に詳述する。
該電離放射線重合性化合物としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー及び／又はプレポリマーが用いられる。
かかるモノマーとしては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートなどの単官能（メタ）アクリレート類、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレート類等の各種（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ここで（メタ）アクリレートとの表記は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。カチオン重合性モノマーとして、例えば、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、４−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。
また、かかるプレポリマー（乃至オリゴマー）としては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、１種類単独で用いる他、モノマーを２種類以上混合したり、プレポリマーを２種類以上混合したり、或いはモノマー１種類以上とプレポリマー１種類以上とを混合して用いたりすることができる。 The material constituting such a transparent primer layer is not particularly limited in nature, but in the present invention, a specific intaglio printing method as described below is recommended as a method for forming the conductive pattern layer, and therefore the primer layer is also uncured. A layer formed by coating and curing (solidifying) an ionizing radiation curable resin composition containing a liquid (fluid) ionizing radiation polymerizable compound in a state is suitably used. Hereinafter, this material will be mainly described in detail.
As the ionizing radiation polymerizable compound, monomers and / or prepolymers that are polymerized and cured by a reaction such as crosslinking with ionizing radiation are used.
Examples of such monomers include radically polymerizable monomers such as methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth) ) Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) a Polyfunctional (meth) acrylates of various (meth) acrylates such relations and the like. Here, the expression (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether And vinyl ethers, and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.
In addition, as the prepolymer (or oligomer), as the radical polymerizable prepolymer, various (meth) such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, triazine (meth) acrylate, and the like. Examples thereof include polythiol-based prepolymers such as acrylate prepolymers, trimethylolpropane trithioglycolate, pentaerythritol tetrathioglycolate, and unsaturated polyester prepolymers. Other examples of the cationic polymerizable prepolymer include novolac type epoxy resin prepolymer and aromatic vinyl ether type resin prepolymer.
These monomers or prepolymers may be used alone or in combination of two or more types of monomers, two or more types of prepolymers, or one type of monomer, depending on the required performance, coating suitability, etc. A mixture of the above and one or more prepolymers can be used.

電離放射線として、紫外線、又は可視光線を採用する場合には、通常は、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、アセトフェノン系等の化合物が、又カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び／又はプレポリマーからなる組成物１００質量部に対して、０．１〜５質量部程度添加する。
なお、電離放射線としては、紫外線、又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。 When ultraviolet rays or visible rays are employed as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is usually added. As a photopolymerization initiator, in the case of a radical polymerizable monomer or prepolymer, a compound such as a benzophenone-based, thioxanthone-based, benzoin-based, or acetophenone-based compound, or in the case of a cationic polymerization-based monomer or prepolymer, Metallocene, aromatic sulfonium and aromatic iodonium compounds are used. These photopolymerization initiators are added in an amount of about 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition comprising the monomer and / or prepolymer.
In addition, as the ionizing radiation, ultraviolet rays or electron beams are typical, but in addition, electromagnetic waves such as visible rays, X-rays and γ rays, or charged particle beams such as α rays and various ion rays are used. You can also.

上記電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要となるため、コストを考えれば溶剤を含まないタイプ（ノンソルベントタイプ乃至無溶剤型）であることが好ましい。 The ionizing radiation curable composition may contain a solvent, but in that case, since a drying step is required after coating, it is a type that does not contain a solvent (non-solvent type or solvent-free type) in consideration of cost. preferable.

プライマー層の厚さ（導電性パターン層２の非形成部の厚みで評価）は特に限定されないが、通常は硬化後の厚さで１μｍ〜１０μｍ程度となるように形成される。また、プライマー層の厚さは、通常は、導電性パターン層とプライマー層との合計値（総厚。導電性パターン層の頂部と透明基材の表面との高度差）の１〜５０％程度である。 The thickness of the primer layer (evaluated by the thickness of the non-formed portion of the conductive pattern layer 2) is not particularly limited, but is usually formed to be about 1 μm to 10 μm after curing. Further, the thickness of the primer layer is usually about 1 to 50% of the total value of the conductive pattern layer and the primer layer (total thickness. Altitude difference between the top of the conductive pattern layer and the surface of the transparent substrate). It is.

また、必要に応じ適宜その他の層の形成、乃至は処理を施してもよい。例えば、錆に対する耐久性が不十分な場合は、黒化層上に防錆層を設けるとよい。該防錆層は、従来公知の材料及び手法により設けることができる。 Further, other layers may be formed or processed as necessary. For example, when the durability against rust is insufficient, a rust prevention layer may be provided on the blackened layer. The rust preventive layer can be provided by a conventionally known material and method.

次に、本発明の代表的な実施形態を例示して電磁波遮蔽フィルタの製造方法を説明する。
（導電性パターン層の形成方法）
本工程では、透明基材の一方の面に導電性粒子及び樹脂バインダーを含む導電性組成物（導電性インキ、導電性ペーストとも呼称する）を用いて導電性パターン層を形成する。
該導電性パターン層の有する所定パターンは、例えば、シルクスクリ−ン印刷、フレキソ印刷、凹版印刷等の公知の各種印刷法によって形成することができる。
また、透明基材と導電性パターン層との密着性を高めるために、該透明基材と該導電性パターン層との間にプライマー層を設ける場合には、上記電磁波遮蔽フィルタの製造方法としては、特許文献１に記載される特定のプライマーを用いた凹版印刷が推奨される。
以下、この凹版印刷法の概略を述べる。 Next, a representative embodiment of the present invention will be exemplified to describe a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding filter.
(Method for forming conductive pattern layer)
In this step, the conductive pattern layer is formed using a conductive composition (also referred to as conductive ink or conductive paste) containing conductive particles and a resin binder on one surface of the transparent substrate.
The predetermined pattern of the conductive pattern layer can be formed by various known printing methods such as silk screen printing, flexographic printing, and intaglio printing.
Further, in order to improve the adhesion between the transparent substrate and the conductive pattern layer, when a primer layer is provided between the transparent substrate and the conductive pattern layer, Intaglio printing using a specific primer described in Patent Document 1 is recommended.
The outline of this intaglio printing method will be described below.

当該凹版印刷法は、表面に所定のパターンで凹部（セルとも云う）が形成された版面に、導電性組成物を塗布した後、その凹部内以外に付着した導電性組成物を掻き取って該凹部内に導電性組成物を充填し、これに液状プライマー層を片面に形成済みの透明基材を、該プライマー層が凹版に接する向きで圧着して、凹部内の導電性組成物とプライマー層とを空隙なく密着させ、その状態でプライマー層を液状から固体状に固化させた後、透明基材を凹版から離して離版させることで、透明基材上の固化したプライマー層上に導電性組成物を転移させて、印刷するものである。 In the intaglio printing method, a conductive composition is applied to a plate surface having a concave pattern (also referred to as a cell) formed in a predetermined pattern on the surface, and then the conductive composition adhering outside the concave section is scraped off. A conductive composition is filled in the recess, and a transparent base material on which one side of the liquid primer layer is formed is pressure-bonded in such a direction that the primer layer is in contact with the intaglio, and the conductive composition and the primer layer in the recess In this state, the primer layer is solidified from a liquid state to a solid state, and then the transparent substrate is separated from the intaglio plate to release the conductive material on the solidified primer layer on the transparent substrate. The composition is transferred and printed.

印刷後、つまり離版後、まだ液状である導電性パターン層に対しては、乾燥操作、加熱操作、冷却操作、化学反応操作などを適宜行い、導電性インキを固化せしめて導電性パターン層を完成させる。また、導電性組成物は、版上で半硬化させ離版後に完全硬化させてもよい。 After printing, that is, after release, the conductive pattern layer that is still in the liquid state is appropriately subjected to drying operation, heating operation, cooling operation, chemical reaction operation, etc., and the conductive ink is solidified to form the conductive pattern layer. Finalize. Further, the conductive composition may be semi-cured on the plate and completely cured after the release.

なお、一般に、凹版印刷では、導電性インキを版面に供給し、ドクターブレード等で余剰の該インキを掻き取って版凹部に該インキを充填する際、充填された該インキの表面に凹みが発生し、該凹部のため、透明基材との密着不良、透明基材上への該インキの転移率低下という不具合を生じていた。
一方、特許文献１の凹版印刷では、凹版凹部内に充填された導電性インキの上部に窪み（凹み）が生じても、液状で流動性のプライマー層を介して印刷するので、印刷中にプライマー層を該窪みに流し込み隙間なく密着させた状態にでき、その後、プライマー層を固化させてから透明基材を凹版から離すので、透明基材上に固化したプライマー層を介して所定パターンの導電性パターン層を、細線でも、転移不足による断線や形状不良、インキ密着性不足などの印刷不良の発生なく形成できる。かくの如く凹版凹部内に充填されたインキの表面に生じる窪みをプライマー層が流入、充填する結果、得られた導電部材は、プライマー層の厚みが、前記導電性パターン層が形成されている部分の厚みが前記導電性パターン層が形成されていない部分の厚みよりも厚くなる。 In general, in intaglio printing, when conductive ink is supplied to the plate surface, the excess ink is scraped off with a doctor blade or the like and the ink is filled in the plate recesses, a dent is generated on the surface of the filled ink. However, due to the concave portions, there were problems such as poor adhesion to the transparent substrate and a decrease in the transfer rate of the ink onto the transparent substrate.
On the other hand, in the intaglio printing of Patent Document 1, even if a depression (dent) is formed in the upper part of the conductive ink filled in the intaglio depression, printing is performed through a liquid and fluid primer layer. The layer can be poured into the recess and brought into close contact, and then the primer layer is solidified, and then the transparent substrate is released from the intaglio, so that the conductivity of the predetermined pattern can be achieved through the primer layer solidified on the transparent substrate. The pattern layer can be formed even with fine lines without occurrence of printing defects such as disconnection and shape defects due to insufficient transfer, and insufficient ink adhesion. Thus, as a result of the primer layer flowing in and filling the depressions formed on the surface of the ink filled in the intaglio depressions, the resulting conductive member has a portion where the thickness of the primer layer is formed on the conductive pattern layer. Becomes thicker than the thickness of the portion where the conductive pattern layer is not formed.

（金属層）
本発明における電磁波遮蔽フィルタは、導電性を更に向上せしめるために、導電性パターン層２の表面に金属層２ｍをメッキ法により形成する。メッキ法としては、電解メッキ、無電解メッキのいずれも適用可能であるが、金属層が高速形成可能なこと、導電性パターン層上のみに選択的にメッキ可能なこと等の理由から電解メッキ法の方が好ましい。
導電性パターン層２への給電は導電性パターン層２が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電性パターン層２が電解メッキ可能な程度の導電性（例えば、１００Ω／□以下）を有するので、電解メッキを問題なく行うことができる。金属層２ｍを構成する材料としては、導電性が高く容易にメッキ可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。
メッキ条件としては、浴温２０〜６０℃、電流密度０．００１〜１０Ａ／ｄｍ²、メッキ時間１〜１０分程度が好ましい。電流密度を高くすることによって、導電性パターン層の頂部の端角部に電力集中が起こってメッキがつきやすくなる。特に、導電性パターン層の頂部の端角部がメッキ前の時点で突出していると、更に金属メッキした導電性パターン層は頂部の端角部が突出し、頂部の中央部が凹陥した表面形状となる。
また、電流密度が高いほど、頂部において端角部と中央部のメッキ層成長速度に差がつき、相対的に頂部の端角部の電流密度が高くなって、頂部の中央部が凹陥した凹凸表面形状になり易い。その際、導電性パターン層２の断面形状を図１（Ｂ）に図示の如くの台形、長方形、或いは正方形とすることによって、中央部に比べて端角部の電流密度を相対的に高めることができる。特に、導電性パターン層の頂部の端角部がメッキ前の時点（印刷完了時点）で突出していると、更にこの傾向は強まる。
電流密度を高めると、これに加えて、さらに、頂部金属層表面内に凹溝、特に図２に示される如く、分岐、蛇行、或いはこれらの両方の形態を有する溪谷状の凹溝が生じ易くなる。
斯かる凹溝、特に分岐、蛇行、或いはこれらの両方の形態を有する溪谷状の凹溝が導電性パターン層の頂部上に存在すると、該凹溝内に入射した光線は該凹溝内において複雑な経路で反射を多数回繰り返す結果減衰する。また、減衰し切れずに反射する場合も乱反射となり、画像観察者の視線方向に向かう反射光量は減少する。そのため、日光、電灯光等の外光の反射防止性の向上に寄与する。
本発明の電磁波遮蔽フィルタにおける金属メッキした導電性パターン層の端角突出部と中央凹陥部の段差は１〜３μｍ程度である。 (Metal layer)
In the electromagnetic wave shielding filter of the present invention, the metal layer 2m is formed on the surface of the conductive pattern layer 2 by a plating method in order to further improve the conductivity. As the plating method, either electrolytic plating or electroless plating can be applied. However, the electrolytic plating method can be used because the metal layer can be formed at high speed and can be selectively plated only on the conductive pattern layer. Is preferred.
The power supply to the conductive pattern layer 2 is performed from an electrode such as an energizing roll brought into contact with the surface on which the conductive pattern layer 2 is formed. However, the conductive pattern layer 2 is conductive enough to be electroplated (for example, 100Ω / □ or less), so that electroplating can be performed without any problem. Examples of the material constituting the metal layer 2m include copper, silver, gold, chromium, nickel and the like, which have high conductivity and can be easily plated.
As plating conditions, a bath temperature of 20 to 60 ° C., a current density of 0.001 to 10 A / dm ² , and a plating time of about 1 to 10 minutes are preferable. By increasing the current density, power concentration occurs at the end corners of the top portion of the conductive pattern layer, and plating is likely to occur. In particular, if the end corner portion of the top of the conductive pattern layer protrudes before plating, the metal-plated conductive pattern layer has a surface shape in which the end corner portion of the top portion protrudes and the central portion of the top portion is recessed. Become.
In addition, the higher the current density, the difference in the plating layer growth rate between the corner and the center at the top, the current density at the corner at the top is relatively high, and the unevenness where the center of the top is recessed. It tends to be a surface shape. At this time, the cross-sectional shape of the conductive pattern layer 2 is made trapezoidal, rectangular, or square as shown in FIG. 1B, so that the current density at the end portion is relatively increased as compared with the central portion. Can do. In particular, if the end corners of the top of the conductive pattern layer protrude before plating (when printing is completed), this tendency is further strengthened.
Increasing the current density, in addition to this, creates a groove in the surface of the top metal layer, in particular a trough-shaped groove having a branching, meandering or both form as shown in FIG. It becomes easy.
When such a concave groove, in particular, a trough-shaped concave groove having a branching shape, a meandering shape, or both of them is present on the top of the conductive pattern layer, a light beam incident on the concave groove is formed in the concave groove. Attenuates as a result of repeated reflections in a complex path many times. Further, when the light is reflected without being attenuated, it becomes irregular reflection, and the amount of reflected light directed toward the line of sight of the image observer decreases. Therefore, it contributes to the improvement of antireflection of external light such as sunlight and electric light.
In the electromagnetic wave shielding filter of the present invention, the step difference between the end projection and the central recess of the metal-plated conductive pattern layer is about 1 to 3 μm.

（黒化処理）
本発明においては、金属層を形成した後、黒化処理を施して金属層表面に黒化層２ｎを形成する。
黒化層２ｎは金属の針状突起（針状結晶）から構成される。黒化層を構成する金属は金属層２ｍを構成する金属と同じものでも良いし、別のものでも良いが、反射光量低減と高導電性との両立の点から、できるだけ導電率の高い物を選ぶことが好ましく、例えば、金、銀、白金、銅、ニッケル等が用いられる。
黒化処理は、例えば、硫酸銅５水和物と硫酸を水に溶かした電解浴を用いて陰極電解して粗面化処理を施すことにより、上記金属メッキした導電性パターン層の表面に銅からなる金属の針状結晶からなる黒化層４を形成する。
粗面化処理は陰極電解により金属の粒状突起物を析出させ（１層目）、次いでその突起物の脱落防止のためその上に金属メッキを施し（２層目）、金属被覆を形成させることによって全体として針状結晶からなる金属の粗面を作る。
黒化処理（粗面化処理）条件としては、（特に１層目の）電流密度を高くすることにより、針状結晶が形成され易いので好ましい。
黒化層２ｎの針状結晶の長さは０．１〜１μｍ程度、その直径は長さの１／２０〜１／２程度である。
斯かる針状結晶は、入射した光線が、針間の面で多重反射されるうちに、吸収、散乱が多数回起こり、多くの光を減衰させ、反射光量を大幅に減少せしめる。
図１（Ｂ）に図示の如く、導電性パターン層２の頂部に前記の如く両側端縁の端角部が突出した凹陥部を形成した上で更にその表面に針状結晶からなる黒化層２ｎを形成すると、凹陥部と針状結晶の両者の入射光線減衰作用の相乗効果によって、外光反射防止効果はより高まる。 (Blackening treatment)
In the present invention, after forming the metal layer, a blackening process is performed to form the blackened layer 2n on the surface of the metal layer.
The blackened layer 2n is composed of metal acicular protrusions (acicular crystals). The metal constituting the blackened layer may be the same as or different from the metal constituting the metal layer 2m. However, from the viewpoint of achieving both a reduction in the amount of reflected light and high conductivity, a metal having a conductivity as high as possible is used. For example, gold, silver, platinum, copper, nickel or the like is used.
For example, the blackening treatment is performed by cathodic electrolysis using an electrolytic bath in which copper sulfate pentahydrate and sulfuric acid are dissolved in water. A blackening layer 4 made of a needle-like crystal of metal is formed.
In the roughening treatment, a metal granular projection is deposited by cathodic electrolysis (first layer), and then metal plating is applied thereon to prevent the projection from falling off (second layer) to form a metal coating. The rough surface of the metal which consists of acicular crystals as a whole is made by.
As the blackening treatment (roughening treatment) condition, it is preferable to increase the current density (especially the first layer) because needle crystals are easily formed.
The length of the needle crystal of the blackened layer 2n is about 0.1 to 1 μm, and the diameter is about 1/20 to 1/2 of the length.
Such a needle crystal absorbs and scatters many times while the incident light beam is multiple-reflected on the surface between the needles, attenuates a lot of light, and greatly reduces the amount of reflected light.
As shown in FIG. 1B, a blackened layer made of needle-like crystals is formed on the surface of the conductive pattern layer 2 having a concave portion protruding from the end corners of both side edges as described above. When 2n is formed, the effect of preventing external light reflection is further enhanced by the synergistic effect of the incident light attenuation action of both the recessed portion and the needle-like crystal.

〔反射防止フィルタ〕
本発明の複合フィルタ１００は、電磁波遮蔽性と外光反射防止性との両立性をより高める為、電磁波遮蔽フィルタ１０とともに、該電磁波遮蔽フィルタ１０の画像観察者側の最表面には、低屈折率層４を含み多層膜干渉効果により反射光量を低減せしめる反射防止フィルタを設ける。
本発明における反射防止フィルタ２０は、透明基材１’上にハードコート層３、低屈折率層４を順次積層したものである。 (Antireflection filter)
The composite filter 100 of the present invention has a low refractive index on the outermost surface on the image observer side of the electromagnetic wave shielding filter 10 together with the electromagnetic wave shielding filter 10 in order to further improve the compatibility between the electromagnetic wave shielding property and the external light antireflection property. An antireflection filter that includes the rate layer 4 and reduces the amount of reflected light by the multilayer film interference effect is provided.
The antireflection filter 20 in the present invention is obtained by sequentially laminating a hard coat layer 3 and a low refractive index layer 4 on a transparent substrate 1 ′.

（透明基材）
反射防止フィルタを構成する透明基材１’は、前記電磁波遮蔽フィルタ１０における透明基材１で用いるのと同じ樹脂フィルムが使用できる。
透明基材１’の厚さは、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは３０〜２００μｍである。 (Transparent substrate)
As the transparent substrate 1 ′ constituting the antireflection filter, the same resin film as that used in the transparent substrate 1 in the electromagnetic wave shielding filter 10 can be used.
The thickness of the transparent substrate 1 ′ is preferably 20 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm.

（ハードコート層）
本発明の反射防止フィルタ２０において透明基材１’上に積層されるハードコート層３は、五酸化アンチモン及びウレタン樹脂を含有する。ハードコート層３において、五酸化アンチモンは、前記のように、三次元網目構造を形成するように分散している。三次元網目構造とは、五酸化アンチモンが互いに導通がとれる程度に連続して隣接して分散しており、ハードコート層の断面において網目状に存在しているのが観察される状態をいう。このような特定の状態で五酸化アンチモンがハードコート層中に分散して存在するため、本発明におけるハードコート層は、優れた帯電防止性能（表面抵抗値が例えば、１×１０¹³Ω／□未満。）を発揮することができる。 (Hard coat layer)
In the antireflection filter 20 of the present invention, the hard coat layer 3 laminated on the transparent substrate 1 ′ contains antimony pentoxide and a urethane resin. In the hard coat layer 3, antimony pentoxide is dispersed so as to form a three-dimensional network structure as described above. The three-dimensional network structure refers to a state in which antimony pentoxide is continuously and adjacently dispersed to such an extent that they can conduct each other, and is present in a network form in the cross section of the hard coat layer. Since antimony pentoxide is dispersed in the hard coat layer in such a specific state, the hard coat layer in the present invention has excellent antistatic performance (surface resistance value is, for example, 1 × 10 ¹³ Ω / □). Less than.).

五酸化アンチモンとしては、特に限定されないが、導電性が高く、少量の添加で帯電防止性能を好適に付与し得ることから、パイロクロア型構造を有するものが好ましい
五酸化アンチモンの形状は特に限定されず、棒状、針状、柱状、円柱状、真球状又は不定形等のものを挙げることができる。
五酸化アンチモンの平均一次粒径は、１０〜１００ｎｍであることが好ましい。１０ｎｍ未満であると、三次元網目構造を形成できないおそれがある。１００ｎｍを超えると、適度な凝集を起こさず、三次元網目構造を形成できなかったり、凝集塊が大きくなってヘイズが高くなるおそれがある。平均一次粒径は、３０〜７０ｎｍであることがより好ましい。
なお、平均一次粒径は、ヘテロダイン法により測定して得られた値である。
五酸化アンチモンは、凝集していてもよいが、その凝集塊の粒径は、光の波長より小さいことが好ましい。すなわち、五酸化アンチモンの凝集塊の平均粒径は、３８０ｎｍ未満であることが好ましく、より好ましくは、５０〜２５０ｎｍである。
凝集塊の平均粒径は、ＳＥＭによる断面分析の方法により測定して得られた値である。
五酸化アンチモンの含有量は、ハードコート層中１５〜７０質量％であることが好ましい。１５質量％未満であると、三次元網目構造を構成せず、帯電防止性能が不充分となるおそれがある。７０質量％を超えると、ヘイズが高くなったり、透明基材へのハードコート層の密着性が低下するおそれがある。五酸化アンチモンの含有量は、ハードコート層中３０〜６０質量％であることがより好ましい。 Antimony pentoxide is not particularly limited, but preferably has a pyrochlore structure because it has high conductivity and can suitably impart antistatic performance with a small amount of addition. The shape of antimony pentoxide is not particularly limited. , Rod-shaped, needle-shaped, columnar, cylindrical, true spherical or indeterminate.
The average primary particle size of antimony pentoxide is preferably 10 to 100 nm. If it is less than 10 nm, a three-dimensional network structure may not be formed. If it exceeds 100 nm, there is a possibility that moderate aggregation does not occur and a three-dimensional network structure cannot be formed, or the aggregates become large and haze increases. The average primary particle size is more preferably 30 to 70 nm.
The average primary particle size is a value obtained by measurement by the heterodyne method.
Antimony pentoxide may be aggregated, but the particle size of the aggregate is preferably smaller than the wavelength of light. That is, the average particle diameter of the aggregate of antimony pentoxide is preferably less than 380 nm, and more preferably 50 to 250 nm.
The average particle size of the agglomerates is a value obtained by measurement by a method of cross-sectional analysis by SEM.
The content of antimony pentoxide is preferably 15 to 70% by mass in the hard coat layer. If it is less than 15% by mass, a three-dimensional network structure is not formed, and the antistatic performance may be insufficient. When it exceeds 70 mass%, there exists a possibility that a haze may become high or the adhesiveness of the hard-coat layer to a transparent base material may fall. The content of antimony pentoxide is more preferably 30 to 60% by mass in the hard coat layer.

ウレタン樹脂としては、特に限定されず、多価アルコールと有機ポリイソシアネートとの反応によって得られる公知のものを挙げることができる。
多価アルコールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−［ヒドロキシメチル］−シクロヘキサン等；上記多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール；上記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるポリカプロラクトンポリオール；ポリカーボネートポリオール（例えば、１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）；及び、ポリエーテルポリオールを挙げることができる。ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等を挙げることができる。
有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルイソシアネート等のイソシアネート化合物、これらイソシアネート化合物の附加体、或いはこれらイソシアネートの多量体等が挙げられる。
なかでも、上記ウレタン樹脂は、上記多価アルコール及び有機ポリイソシアネートと、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応によって得られるウレタン（メタ）アクリレートの硬化物が好ましい。
ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
なかでも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートであることが硬度の面から好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレートは、重量平均分子量が、１０００以上１００００未満であることが好ましい。１０００未満であると、五酸化アンチモンによる三次元網目構造が構成できず、帯電防止性能が不充分となるおそれがある。１００００以上であると、五酸化アンチモンの凝集が進むために、ヘイズの悪化、光透過率低下が起こってしまうおそれがある。基材との密着性が悪化する恐れもある。重量平均分子量は、１０００以上７０００以下であることがより好ましい。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）により得られる値である。
ウレタン（メタ）アクリレートは、６官能以上であることが好ましい。上記ウレタン（メタ）アクリレートが６官能未満であると、硬度が十分でない恐れがある。また基材との密着が不足するおそれがある。
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、６〜１０官能であることがより好ましい。
上記ウレタン樹脂の含有量は、ハードコート層の樹脂成分中３０〜７０質量％であることが好ましい。３０質量％未満であると、五酸化アンチモンの割合が高くなり、全光線透過率が下がるおそれがある。また、透明基材との密着性が悪化するおそれがあり、低屈折率層との密着性が悪化するおそれがある。７０質量％を超えると、五酸化アンチモンが上述の三次元構造をとらず、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不十分となるおそれがある。
上記ウレタン樹脂の含有量は、ハードコート層の樹脂成分中３０〜５０質量％であることがより好ましい。 The urethane resin is not particularly limited, and examples thereof include known resins obtained by reacting polyhydric alcohols with organic polyisocyanates.
Examples of the polyhydric alcohol include neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, Tricyclodecane dimethylol, bis- [hydroxymethyl] -cyclohexane, etc .; the above polyhydric alcohols and polybasic acids (for example, succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, terephthalic acid, adipic acid, azelaic acid, tetrahydrophthalic anhydride Polyester polyol obtained by reaction with acid, etc .; polycaprolactone polyol obtained by reaction of the above polyhydric alcohol and ε-caprolactone; polycarbonate polyol (for example, 1,6-hexanediol and diphf) Polycarbonate diols obtained by reacting sulfonyl carbonate); and, may be mentioned polyether polyols. Examples of the polyether polyol include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and ethylene oxide-modified bisphenol A.
Examples of the organic polyisocyanate include isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclopentanyl isocyanate and the like, adducts of these isocyanate compounds, or these isocyanates. Multimers and the like.
Among these, the urethane resin is preferably a cured product of urethane (meth) acrylate obtained by reaction of the polyhydric alcohol and organic polyisocyanate with a hydroxy (meth) acrylate compound.
Examples of the hydroxy (meth) acrylate compound include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, and hydroxyethyl (meth). Examples include acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylol cyclohexyl mono (meth) acrylate, and hydroxycaprolactone (meth) acrylate.
Of these, pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of hardness.
The urethane (meth) acrylate preferably has a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000. If it is less than 1000, a three-dimensional network structure composed of antimony pentoxide cannot be formed, and the antistatic performance may be insufficient. If it is 10,000 or more, the aggregation of antimony pentoxide proceeds, which may cause haze deterioration and light transmittance reduction. There is also a possibility that the adhesiveness with the substrate is deteriorated. The weight average molecular weight is more preferably 1000 or more and 7000 or less.
The weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene conversion).
The urethane (meth) acrylate is preferably 6 or more functional. If the urethane (meth) acrylate is less than hexafunctional, the hardness may not be sufficient. Moreover, there exists a possibility that adhesion with a base material may be insufficient.
The urethane (meth) acrylate is more preferably 6 to 10 functional.
It is preferable that content of the said urethane resin is 30-70 mass% in the resin component of a hard-coat layer. If it is less than 30% by mass, the proportion of antimony pentoxide increases, and the total light transmittance may decrease. Moreover, there exists a possibility that adhesiveness with a transparent base material may deteriorate, and there exists a possibility that adhesiveness with a low refractive index layer may deteriorate. When it exceeds 70 mass%, antimony pentoxide does not take the above-mentioned three-dimensional structure, and the antistatic performance of the optical laminate of the present invention may be insufficient.
As for content of the said urethane resin, it is more preferable that it is 30-50 mass% in the resin component of a hard-coat layer.

ハードコート層は、上記ウレタン樹脂以外の樹脂を更に含んでいてもよい。
ウレタン樹脂以外の樹脂としては、例えば、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、又は、熱硬化型樹脂を挙げることができる。より好ましくは電離放射線硬化型樹脂である。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
ウレタン樹脂以外の樹脂としては、耐擦傷性、耐溶剤性に優れ、かつ、強靭な硬化塗膜を形成し得るようにできる点で、具体的には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種の硬化物を更に含有することが好ましい。
ウレタン樹脂以外の樹脂の含有量は、ハードコート層中２０〜５０質量％であることが好ましい。２０質量％未満であると、ハードコート層の膜質が弱く、傷が入りやすくなるおそれがある。また、ハードコート層の光透過性基材との密着性が悪化するおそれがある。５０質量％を超えると、帯電防止性能が発揮されなくなるおそれがある。ウレタン樹脂以外の樹脂の含有量は、ハードコート層中３０〜４０質量％であることがより好ましい。
また、上記ハードコート層中の樹脂成分の総含有量は、３０〜８５質量％であることが好ましい。 The hard coat layer may further contain a resin other than the urethane resin.
Examples of the resin other than the urethane resin include an ionizing radiation curable resin, a mixture of an ionizing radiation curable resin and a solvent drying resin, or a thermosetting resin. More preferred is an ionizing radiation curable resin. In the present specification, “resin” is a concept including resin components such as monomers and oligomers.
Specific examples of resins other than urethane resins include pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipenta, which are excellent in scratch resistance and solvent resistance and capable of forming a tough cured coating film. It is preferable to further contain at least one cured product selected from the group consisting of erythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate.
The content of the resin other than the urethane resin is preferably 20 to 50% by mass in the hard coat layer. If it is less than 20% by mass, the film quality of the hard coat layer is weak, and there is a risk that scratches are likely to occur. Moreover, there exists a possibility that the adhesiveness with the light transmissive base material of a hard-coat layer may deteriorate. If it exceeds 50% by mass, the antistatic performance may not be exhibited. As for content of resin other than a urethane resin, it is more preferable that it is 30-40 mass% in a hard-coat layer.
The total content of the resin components in the hard coat layer is preferably 30 to 85% by mass.

ハードコート層は、上述した五酸化アンチモン、ウレタン樹脂及びウレタン樹脂以外の樹脂の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、紫外線吸収剤、衝撃吸収剤、粘度調整剤、有機系帯電防止剤、無機系帯電防止剤、高屈折率剤等を挙げることができる。 The hard coat layer may contain other components as required in addition to the above-described resins other than antimony pentoxide, urethane resin, and urethane resin. Other components include photopolymerization initiators, leveling agents, crosslinking agents, curing agents, polymerization accelerators, UV absorbers, shock absorbers, viscosity modifiers, organic antistatic agents, inorganic antistatic agents, and high refraction. A rate agent etc. can be mentioned.

ハードコート層は、層厚みが０．５〜８μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、鉛筆硬度や耐スクラッチ性が悪くなったり、干渉縞が発生するおそれがある。また、単位面積当たりの粒子総量が少なくなるため、帯電防止性が悪化してしまうおそれがある。８μｍを超えると、ヘイズが高く、全光線透過率が低くなるおそれがある。層厚みは、１〜６μｍであることがより好ましい。 The hard coat layer preferably has a layer thickness of 0.5 to 8 μm. If it is less than 0.5 μm, the pencil hardness and scratch resistance may deteriorate, and interference fringes may occur. In addition, since the total amount of particles per unit area is reduced, the antistatic property may be deteriorated. If it exceeds 8 μm, the haze is high and the total light transmittance may be low. The layer thickness is more preferably 1 to 6 μm.

ハードコート層は、上記五酸化アンチモン、ウレタン樹脂、及び、必要に応じてウレタン樹脂以外の樹脂と他の成分とを溶剤に混合して分散して調製したハードコート層用組成物を用いて形成することができる。
溶剤としては、五酸化アンチモンの分散性が良い点で、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、２−〔２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ〕エタノール（ＴＧＭＥ））等のエーテルアルコールであることが好ましい。
ハードコート層は、上記ハードコート層用組成物を、後述する光透過性基材上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて該塗膜を乾燥させた後に、硬化させることにより形成することができる。 The hard coat layer is formed using the hard coat layer composition prepared by mixing and dispersing the antimony pentoxide, urethane resin, and if necessary, a resin other than the urethane resin and other components in a solvent. can do.
As a solvent, dispersibility of antimony pentoxide is good, and diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), 2- [2- Ether ether alcohol such as (2-methoxyethoxy) ethoxy] ethanol (TGME)) is preferable.
The hard coat layer is formed by applying the composition for a hard coat layer on a light-transmitting substrate to be described later to form a coating film, and if necessary, drying the coating film and then curing the coating film. can do.

（低屈折率層）
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層４の屈折率Ｎ_Lは、光学の分野において周知のとおり、該隣接する層（本発明においてはハードコート層）の屈折率Ｎ_Hの平方根（Ｎ_L＝（Ｎ_H）^1/2）となるように設計することが最適である。ただし、現実的には、この最適値の屈折率を有する材料の選択が困難な場合も多いが、その場合は、できるだけこの最適値に近い屈折率値の材料を選択することが好ましい。使用可能な低屈折率層の材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．３６）、ＭｇＦ₂（屈折率ｎ＝１．３８）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率ｎ＝１．３７）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ₂（屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料が挙げられる。或いはこれらの無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物等を挙げることができる。
また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いてもよい。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化珪素（シリカ）微粒子が挙げられる。充填する気体としては、空気（屈折率１．００）が代表的なものである。
低屈折率層４の厚みは特に限定されるものではないが、通常、反射防止すべき可視光線の波長（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）の１／４程度（９５〜１９５ｎｍ）である。 (Low refractive index layer)
In order to improve the antireflection effect, the refractive index N _L of the low refractive index layer 4 is the square root of the refractive index N _H of the adjacent layer (hard coat layer in the present invention) as is well known in the field of optics. It is optimal to design such that (N _L = (N _H ) ^1/2 ). However, in reality, it is often difficult to select a material having the refractive index of the optimum value. In this case, it is preferable to select a material having a refractive index value as close to the optimum value as possible. Examples of usable low refractive index layer materials include LiF (refractive index n = 1.36), MgF ₂ (refractive index n = 1.38), 3NaF · AlF ₃ (refractive index n = 1.4), Examples include inorganic materials such as AlF ₃ (refractive index n = 1.37), Na ₃ AlF ₆ (refractive index n = 1.33), and SiO ₂ (refractive index n = 1.45). Alternatively, an inorganic low-reflective material, a fluorine-based or silicone-based organic compound, or the like obtained by atomizing these inorganic materials into an acrylic resin or an epoxy resin can be used.
Further, fine particles having voids may be used for the low refractive index layer. The fine particles having voids form a structure in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas, and are in inverse proportion to the gas occupancy ratio in the fine particles compared to the original refractive index of the fine particles. It means fine particles having a reduced refractive index. The fine particles having voids may be either inorganic or organic, and examples thereof include metals, metal oxides, and resins, and preferably silicon oxide (silica) fine particles. A typical gas to be filled is air (refractive index 1.00).
The thickness of the low refractive index layer 4 is not particularly limited, but is usually about ¼ (95 to 195 nm) of the wavelength of visible light (380 to 780 nm) to be prevented from being reflected.

〔その他機能層〕
本発明においては、図４に示すように、反射防止フィルタ２０と電磁波遮蔽フィルタ１０との間の位置３０及び電磁波遮蔽フィルタの画像表示装置側の位置３０のいずれか１箇所以上にその他機能層を設けるものである。
該その他機能層としては、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、調色層、紫外線吸収層、所謂薄膜ミクロルーバ層からなるコントラスト向上層等の光学機能層（光学フィルタ層）、或いはハードコート層、耐衝撃層（衝撃吸収層）、防汚層、帯電防止層、抗菌層、防黴層等が挙げられる。
その他機能層は単数又は接着剤で接着された複数の層よりなる。
なお、耐衝撃層は、下側（ＰＤＰ側）に位置させるが、他の機能層は、いずれの位置にも位置させることができる。
また、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、調色（着色）層、紫外線吸収層は、接着剤層のいずれか１層以上に、当該吸収剤を含有させることにより、形成することができる。
以下、その他機能層、吸収剤について、主なものの概要を説明する。 [Other functional layers]
In the present invention, as shown in FIG. 4, other functional layers are provided at any one or more of the position 30 between the antireflection filter 20 and the electromagnetic wave shielding filter 10 and the position 30 on the image display device side of the electromagnetic wave shielding filter. It is to be provided.
Examples of the other functional layers include a near-infrared absorbing layer, a neon light absorbing layer, a toning layer, an ultraviolet absorbing layer, an optical functional layer (optical filter layer) such as a contrast enhancement layer comprising a so-called thin film microlouver layer, or a hard coat layer, Examples thereof include an impact resistant layer (impact absorbing layer), an antifouling layer, an antistatic layer, an antibacterial layer, and an antifungal layer.
The other functional layer is composed of a single layer or a plurality of layers bonded with an adhesive.
The impact resistant layer is positioned on the lower side (PDP side), but the other functional layers can be positioned at any position.
Moreover, a near-infrared absorption layer, a neon light absorption layer, a toning (coloring) layer, and an ultraviolet absorption layer can be formed by containing the absorber in any one or more of the adhesive layers.
Hereinafter, an outline of main functions of the other functional layers and the absorbent will be described.

（コントラスト向上層）
コントラスト向上層としては、特開２００７−２７２１６１号公報、特表２００９−５３５６７３号公報等に記載の薄膜ミクロルーバ層、或いは透明着色フィルタ等各種形態のものが使用可能である。ただし、外光存在下での画像コントラスト向上性能、製造容易性等の点から好ましいものは、いわゆる薄膜ミクロルーバ層であって、次のような構造である。
層の表裏面乃至これと平行な面内の所定方向に沿って直線状に連なり、その延長方向に対して垂直な主切断面が幅広の下底を観察者側又はＰＤＰ側に向ける台形となる形状の、光を透過する「透光性領域」と、該透光性領域と平行な方向に直線状に連なり、その延長方向に対して垂直な断面が幅広の下底をＰＤＰ側又は観察者側に向ける楔型となる形状の、光を吸収する「光吸収部」とを、交互に隣接させて多数噛み合わせて配列したものである。
透光性領域は、通常、透明な電離放射線硬化樹脂で構成され、楔型の溝部である光吸収部には、カーボンブラック等の黒色顔料と透明バインダーをインキ化した黒化インキが充填される。 (Contrast improvement layer)
As the contrast improving layer, various forms such as a thin film microlouver layer described in JP-A-2007-272161, JP-A-2009-535673, or a transparent coloring filter can be used. However, a so-called thin film microlouver layer is preferable from the viewpoint of image contrast improvement performance in the presence of external light, ease of manufacture, and the like, and has the following structure.
The main cutting surface that is continuous in a straight line along a predetermined direction in the front and back surfaces of the layer or in a plane parallel to the layer is a trapezoid in which the main cutting surface perpendicular to the extending direction is directed toward the viewer or the PDP. A “translucent region” that transmits light and a straight line extending in a direction parallel to the translucent region, and a cross section perpendicular to the extending direction is wide on the bottom of the PDP side or an observer A plurality of “light absorbing portions” that absorb light and have a wedge shape directed toward the side are alternately adjacent to each other and arranged.
The translucent region is usually composed of a transparent ionizing radiation curable resin, and the light absorbing portion, which is a wedge-shaped groove, is filled with a black pigment such as carbon black and a blackening ink in which a transparent binder is inked. .

主切断面が幅広の下底を観察者側に向ける台形形状の透光性領域と主切断面が幅広の下底をＰＤＰ側に向ける楔型形状の光吸収部からなるコントラスト向上層は視野角が良好であり、それとは逆向きである、主切断面が幅広の下底をＰＤＰ側に向ける台形形状の透光性領域と主切断面が幅広の下底を観察者側に向ける楔型形状の光吸収部からなるコントラスト向上層は外光遮蔽性が良好である。本発明の複合フィルタにおいては、いずれの向きであってもよいが、本発明の外光遮蔽性を上げるという目的からは、コントラスト向上層を後者の向きで配置することが好ましい。 The contrast-enhancing layer comprising a trapezoidal translucent region with the main cut surface facing the wide bottom and the observer side and a wedge-shaped light absorbing portion with the main cut surface facing the wide bottom and the PDP side has a viewing angle. Is a trapezoidal light-transmitting region in which the main cutting surface faces the lower bottom toward the PDP side, and the wedge-shaped shape where the main cutting surface faces the lower bottom toward the viewer The contrast-enhancing layer composed of the light absorbing portion has good external light shielding properties. In the composite filter of the present invention, any direction may be used, but for the purpose of improving the external light shielding property of the present invention, it is preferable to dispose the contrast improving layer in the latter direction.

また、光吸収部がストライプ状に並ぶコントラスト向上層とメッシュ状の電磁波遮蔽層が重なることにより、モアレ模様が出ることがある。このようなモアレ模様を防止するには、コントラスト向上層のストライプと電磁波遮蔽層のメッシュのバイアス角は、５〜８０°であることを要し、２０〜６０°であることが好ましい。
なお、本発明のコントラスト向上層において、光吸収部としては、上記の形態以外の各種形態とすることもできる。例えば、光吸収部の主切断面形状として、上底の幅と下底の幅が等しい長方形、正方形、或いは平行四辺形としたり、或いは狭幅の上底の幅を０乃至０に近いものとした三角形乃至三角形類似形状とすることもできる。光吸収部の色は暗色とするが、暗色としては具体的には、黒色が代表的であるが、その他、（濃い）灰色、褐色、紺色、深緑色、臙脂色、濃紫色等が可能である。光吸収部にこれら暗色を付与する為には、カーボンブラック、黒色酸化鉄、アニリンブラック等の公知の着色剤（顔料乃至染料）を添加する。 In addition, a moire pattern may appear when the contrast improving layer in which the light absorption parts are arranged in stripes and the meshed electromagnetic wave shielding layer overlap. In order to prevent such a moire pattern, the bias angle between the stripe of the contrast improving layer and the mesh of the electromagnetic wave shielding layer needs to be 5 to 80 °, and preferably 20 to 60 °.
In the contrast improving layer of the present invention, the light absorbing portion can be in various forms other than the above forms. For example, the main cutting plane shape of the light absorbing portion is a rectangle, square, or parallelogram having the same width of the upper base and the lower base, or the width of the narrow upper base is close to 0 to 0. It may be a triangle or a triangle-like shape. The color of the light absorption part is dark, but the dark color is typically black, but other (dark) gray, brown, amber, dark green, rosy, dark purple, etc. are possible is there. In order to impart these dark colors to the light absorbing portion, a known colorant (pigment or dye) such as carbon black, black iron oxide, or aniline black is added.

（近赤外線吸収層）
近赤外線吸収層に添加する近赤外線吸収剤は、本発明の複合フィルタの代表的な用途であるＰＤＰ用前面フィルタに適用する場合、ＰＤＰがキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長領域を吸収し、且つ可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域では吸収が少なくて十分な光線透過率を有する色素が好ましい。そして、接着剤層に添加する場合、上記近赤外線領域での近赤外線の吸収量が、透過率でいえば２０％以下、更に好ましくは１０％以下となるように、近赤外線吸収剤の種類、近赤外線吸収剤の接着剤層中での含有量、及び接着剤層の厚み等を設定するのが好ましい。
このような近赤外線吸収剤としては、具体的には、フタロシアニン系、イモニウム系、ジイモニウム系、シアニン系、アゾ系、ポリメチン系、キノン系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系等の化合物、或いはジチオール金属錯体等の有機系化合物からなる有機系近赤外線吸収剤、或いは金属酸化物、金属ホウ（硼）化物、金属窒化物などの無機系化合物から成る無機系近赤外線吸収剤が挙げられ、耐久性の面から、無機系近赤外線吸収剤が好ましい。
このうち、金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン系化合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化錫、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化セシウムなどの微粒子が挙げられる。
これらの中で、光学特性、即ち、近赤外線の高吸収率と可視光線の高透過率との両立性の点からは、ジイモニウム系化合物が好ましい。また、光学特性に加えて、更に高湿高湿度条件下における分光透過率特性の変化に対する耐久性の点からは、フタロシアニン系化合物、或いは酸化タングステン系化合物が好ましい。
上記近赤外線吸収剤の含有量は、該吸収層中に０．１〜１５質量％程度であることが好ましい。 (Near-infrared absorbing layer)
The near-infrared absorber added to the near-infrared absorbing layer is a near-infrared ray that is generated when the PDP emits light using xenon gas discharge when applied to a front filter for PDP, which is a typical application of the composite filter of the present invention. A dye that absorbs a wavelength region of 800 nm to 1100 nm and has a sufficient light transmittance in the visible light region, that is, a wavelength region of 380 nm to 780 nm is preferable. And when adding to the adhesive layer, the near-infrared absorption amount in the near-infrared region is 20% or less in terms of transmittance, more preferably 10% or less, the type of near-infrared absorber, It is preferable to set the content of the near infrared absorber in the adhesive layer, the thickness of the adhesive layer, and the like.
Specific examples of such near-infrared absorbers include phthalocyanine-based, imonium-based, diimonium-based, cyanine-based, azo-based, polymethine-based, quinone-based, diphenylmethane-based, triphenylmethane-based compounds, or dithiol metals. Organic near-infrared absorbers composed of organic compounds such as complexes, or inorganic near-infrared absorbers composed of inorganic compounds such as metal oxides, metal borides, and metal nitrides. From the surface, an inorganic near-infrared absorber is preferable.
Among these, examples of the metal oxide include tungsten oxide compounds, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, tin oxide, indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), and antimony dope. Examples thereof include fine particles such as tin oxide (ATO) and cesium oxide.
Among these, diimonium compounds are preferable from the viewpoint of optical characteristics, that is, compatibility between high near-infrared absorptance and high visible light transmittance. From the viewpoint of durability against changes in spectral transmittance characteristics under high humidity and high humidity conditions in addition to optical characteristics, phthalocyanine compounds or tungsten oxide compounds are preferred.
The content of the near infrared absorber is preferably about 0.1 to 15% by mass in the absorbing layer.

（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層に添加するネオン光吸収剤は、本発明の複合フィルタの代表的な用途であるＰＤＰ用前面フィルタに適用する場合、ＰＤＰから放射されるネオン光を吸収させる色素である。該ネオン光は、ネオン原子の発光スペクトル帯域、即ち５５０〜６４０ｎｍの波長領域（ネオン光領域）を吸収し、且つ該波長領域を除いた可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域中ではなるべく吸収が少なくて十分な光線透過率を有する色素が好ましい。また、吸収波長領域中の吸収極大波長における透過率変化の半値幅は５０ｎｍ以下であることが好ましい。
そして、接着剤層に添加する場合、上記Ｎｅ光領域の中心波長を５９０ｎｍとすれば、該５９０ｎｍにおける光線の透過率が５０％以下になるように、ネオン光吸収剤、ネオン光吸収剤の接着剤層中での含有量、及び接着剤層の厚み等を設定するのが好ましい。
このようなネオン光吸収剤としては、具体的には、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系の有機化合物等が挙げられる。これらの中でもポルフィリン系化合物が好ましく、中でも、テトラアザポルフィリン系色素が、分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、ネオン光吸収層中に、０．０５〜５質量％であることが好ましい。含有量が０．０５質量％以上であれば十分なネオン光吸収機能を発現でき、５質量％以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。 (Neon light absorption layer)
The neon light absorbing agent added to the neon light absorbing layer is a dye that absorbs neon light emitted from the PDP when applied to the front filter for PDP, which is a typical application of the composite filter of the present invention. The neon light absorbs the emission spectrum band of neon atoms, that is, the wavelength region of 550 to 640 nm (neon light region), and absorbs as little as possible in the visible light region of 380 nm to 780 nm excluding the wavelength region. And a dye having sufficient light transmittance is preferred. Moreover, it is preferable that the half value width of the transmittance | permeability change in the absorption maximum wavelength in an absorption wavelength region is 50 nm or less.
When added to the adhesive layer, if the central wavelength of the Ne light region is 590 nm, the neon light absorber and the neon light absorber are bonded so that the light transmittance at 590 nm is 50% or less. It is preferable to set the content in the agent layer, the thickness of the adhesive layer, and the like.
Specific examples of such neon light absorbers include cyanine-based, oxonol-based, methine-based, subphthalocyanine-based or porphyrin-based organic compounds. Among these, porphyrin-based compounds are preferable, and among them, tetraazaporphyrin-based dyes are preferable from the viewpoints of good dispersibility and good heat resistance, moisture resistance, and light resistance.
The neon light absorber content is preferably 0.05 to 5% by mass in the neon light absorption layer. If the content is 0.05% by mass or more, a sufficient neon light absorbing function can be exhibited, and if it is 5% by mass or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.

（調色層）
調色層に添加する調色光吸収剤は、表示画像を好みの色調（天然色、或いは天然色から多少偏移した色）に補正するための色素である。このような調色光吸収剤としては、有機系色素、無機系色素などを１種単独使用、又は２種以上併用することができる。具体的には、アントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の化合物からなる色素が挙げられる。
調色光吸収剤の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、調色層中に０．０１〜１０質量％程度含有する。 (Toning layer)
The toning light absorber added to the toning layer is a pigment for correcting the display image to a desired color tone (natural color or a color slightly deviated from the natural color). As such a toned light absorber, organic dyes, inorganic dyes, and the like can be used alone or in combination of two or more. Specific examples include dyes composed of anthraquinone, naphthalene, azo, phthalocyanine, pyromethene, tetraazaporphyrin, squarylium, and cyanine compounds.
The content of the toning light absorber is appropriately adjusted according to the color to be corrected and is not particularly limited. Usually, about 0.01-10 mass% is contained in the toning layer.

（紫外線吸収層）
紫外線吸収層に添加する紫外線吸収剤としては、例えば、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系等の有機系化合物、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどを微粒子化した粉体、或いは二酸化チタン微粒子を酸化鉄で複合化処理してなるハイブリッド無機粉体、酸化セリウム微粒子の表面を非結晶性シリカでコーティングしてなるハイブリッド無機粉体等の無機系化合物からなる公知の化合物を用いることができる。
なお、紫外線吸収剤を添加する場合、他の吸収剤(色素)を外来光から保護するために、他の吸収剤(色素)を添加した層と同じ層か、或いはその層よりも観察者側に近い層に添加する。また、耐光性が堅牢な色素を使用する場合は、紫外線吸収剤の添加は不要である。 (UV absorbing layer)
Examples of the ultraviolet absorber added to the ultraviolet absorbing layer include powders obtained by atomizing salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, substituted acrylonitrile-based, triazine-based organic compounds, titanium dioxide, zinc oxide, cerium oxide, and the like. Or inorganic compounds such as hybrid inorganic powder obtained by complexing titanium dioxide fine particles with iron oxide, or hybrid inorganic powder obtained by coating the surface of cerium oxide fine particles with amorphous silica Can be used.
When an ultraviolet absorber is added, in order to protect other absorbers (dyes) from extraneous light, the layer is the same as the layer to which other absorbers (dyes) are added, or the observer side of the layer. Add to a layer close to. In addition, when a dye having a fast light resistance is used, it is not necessary to add an ultraviolet absorber.

〔接着剤層（粘着剤層）〕
接着剤層は、低屈折率層（反射防止フィルタ）と電磁波遮蔽フィルタの間のその他機能層と電磁波遮蔽フィルタとを接着し、或いは本発明の複合フィルタを画像表示装置本体又は画像表示装置基板に接着する役割を有する層であり、また、各種吸収剤を含有させることで各種光学機能層となり得る層である。
接着剤層に用いる接着剤としては、基本的には特に制限はなく、公知の接着剤の中から、接着性（粘着力）、透明性、塗工適性などを有し、またそれ自体好ましくは無着色のものを適宜選択する。各種の天然又は合成樹脂が使用できる。
好適に用いられる接着剤は、粘着剤と呼称される形態のものである。粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。なお、本明細書において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸をいう。 [Adhesive layer (adhesive layer)]
The adhesive layer adheres the other functional layer between the low refractive index layer (antireflection filter) and the electromagnetic wave shielding filter and the electromagnetic wave shielding filter, or the composite filter of the present invention to the image display device main body or the image display device substrate. It is a layer having a role of bonding, and can be various optical function layers by containing various absorbents.
The adhesive used for the adhesive layer is basically not particularly limited, and has adhesiveness (adhesive strength), transparency, coating suitability, etc., among the known adhesives, and preferably itself. An uncolored one is appropriately selected. Various natural or synthetic resins can be used.
The adhesive preferably used is in a form called an adhesive. An example of the pressure-sensitive adhesive is an acrylic pressure-sensitive adhesive. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. Generally, it is a copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group. In this specification, (meth) acrylic acid refers to acrylic acid and / or methacrylic acid.

本発明の複合フィルタは、各種用途に使用可能である。特に、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類、各種事務用機器、各種医療機器、電算機器、電話機、電飾看板、各種遊戯機器等の表示部に用いられるプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管ディスプレイ（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電場発光ディスプレイ（ＥＬ）などの画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。また、その他、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車両、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジの窓等の等の各種家電製品の窓等の電磁波遮蔽用途にも使用可能である。 The composite filter of the present invention can be used for various applications. In particular, plasma displays (PDP) and cathode ray tube displays used in display units of television receivers, various measuring instruments and instruments, various office equipment, various medical equipment, computer equipment, telephones, electrical signs, various game machines, etc. (CRT), a liquid crystal display (LCD), an electroluminescent display (EL) and the like, which are suitable for a front filter of an image display device, and particularly suitable for a plasma display. In addition, electromagnetic shielding applications such as windows for buildings such as houses, schools, hospitals, offices, stores, etc., windows for vehicles such as vehicles, aircraft, ships, etc., windows for various home appliances such as microwave oven windows, etc. Can also be used.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例により何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited at all by these examples.

［実施例１］
（電磁波遮蔽シートの製造）
まず、凹版を用意した。該凹版は、中空の鉄の円筒表面に銅メッキ層を被覆してなる円筒版材表面を機械的に切削加工し、その後、前面にクロム膜を電解メッキして、該円筒版材表面に、深さ７μｍ、線幅１４μｍ、縦横線の繰返し周期２７０μｍの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成し、印刷用の凹版を得た。該凹版凹部の線条パターンの走行方向（長手方向）と直交する主切断面形状は底部（円筒中心に近い側）の幅がせばまった台形形状であり、底部の角の両底角が各々１０５度、円筒表面部に露出する角の両底角が各々７５度であり、該台形の高さが７μｍ、該台形の円筒表面部に露出する底辺の長さが１４μｍであった。
また、該台形状の主切断面の凹部の底部（導電性パターン層では頂部に対応）には中央部が線部の頂部の両側端縁にある端角部よりも２μｍ湾曲して突出（導電性パターン層では頂部の中央部が頂部の端角部よりも２μｍ湾曲して凹陥することに対応）する形状とした。
次いで、透明基材として厚みが１００μｍで、１０８０ｍｍ幅×２０００ｍ巻の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製Ａ４３００）を用意した。この透明基材上の一方の面上にプライマー層用の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥膜厚が厚さ２５μｍとなるように塗布形成した。塗布方式は、通常のグラビアリバースロールコート法を採用し、紫外線硬化性樹脂組成物としては、エポキシアクリレートプレポリマー３５質量部、ウレタンアクリレートプレポリマー１２質量部、フェノキシエチルアクリレート４４質量部、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート９質量部、さらに光重合開始剤としてイルガキュア１８４（物質名；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、製造元；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ）３質量部添加したものを使用した。このときの粘度は約１３００ｃｐｓ（２５℃、Ｂ型粘度計）であり、塗布後のプライマー層は触ると流動性を示すものの、ＰＥＴフィルム上から流れ落ちることはなかった。
一方、準備された上記円筒状凹版の版面に、導電性組成物である銀ペーストをピックアップロールで塗布し、鋼鉄製ドクターブレードで凹部内以外の導電性組成物を掻き取って凹部内のみに導電性組成物を充填させた。
そして、該導電性組成物を凹部内に充填させた状態のロール状凹版と、ニップロールとの間に、流動状態のプライマー層が形成されたＰＥＴフィルムを供し、ロール状凹版に対するニップロールの押圧力（付勢力）によって、流動状態のプライマー層を凹部内に存在する導電性組成物の凹みに流入させ、導電性ペーストと流動性保持状態のプライマー層とを隙間なく密着させると共に、該プライマーの一部を凹部内の該導電性組成物内に浸透せしめた。
次いで、更に凹版ロールが回転して高圧水銀灯によって紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂組成物からなる流動状態のプライマー層を硬化させた。プライマー層の硬化により、凹版ロールの凹部内の導電性ペーストは、硬化したプライマー層と密着し、その後、出口側のニップロールによってフィルムが凹版ロールから剥離され、プライマー層上には導電性組成物層が転写形成された。このようにして得られたフィルムを、１３０℃の乾燥ゾーンを通過させて、６０秒熱風乾燥させ、該導電性組成物中の溶剤を蒸発させ、プライマー層上に、該導電性導電性組成物から成る、厚さ６μｍ（パターン幅方向中央部の頂部の凹陥部における厚み）、線幅２０μｍ、縦横線の繰返周期２７０μｍの正方格子の導電性凸状パターン層を形成した。得られた導電性パターン層は、頂部において中央部が線部の両側端縁にある端角部よりも１．５μｍ湾曲して凹陥する形状であった。
なお、該導電性組成物は、導電性粉末として平均粒径約２μｍの銀粉末９３質量部、樹脂バインダーとして熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂７質量部、溶剤としてブチルカルビトールアセテート２５質量部を配合し、十分に撹拌混合した後、３本ロールで混練りして作製した。 [Example 1]
(Manufacture of electromagnetic shielding sheets)
First, an intaglio was prepared. The intaglio plate mechanically cuts the surface of a cylindrical plate made by coating a copper plating layer on the surface of a hollow iron cylinder, and then electroplating a chromium film on the front surface, A square lattice mesh pattern-shaped recess having a depth of 7 μm, a line width of 14 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 270 μm was formed to obtain an intaglio for printing. The main cutting plane shape orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of the line pattern of the intaglio depression is a trapezoidal shape with a width of the bottom (side closer to the center of the cylinder), and both bottom angles of the bottom corners are Each of the base angles exposed to the cylindrical surface part was 75 degrees, the trapezoidal height was 7 μm, and the base length exposed to the trapezoidal cylindrical surface part was 14 μm.
In addition, the bottom of the concave portion of the trapezoidal main cutting surface (corresponding to the top in the conductive pattern layer) protrudes with a central portion curved by 2 μm from the corners on both side edges of the top of the line (conducting) The pattern portion has a shape in which the central portion of the apex portion is curved and recessed by 2 μm from the end corner portion of the apex portion.
Next, as a transparent substrate, an uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and a width of 1080 mm × 2000 m was prepared. An ultraviolet curable resin composition for a primer layer was applied and formed on one surface of this transparent substrate so that the dry film thickness was 25 μm. The application method employs a normal gravure reverse roll coating method, and the UV curable resin composition includes 35 parts by mass of an epoxy acrylate prepolymer, 12 parts by mass of a urethane acrylate prepolymer, 44 parts by mass of phenoxyethyl acrylate, ethylene oxide-modified isocyanuric. 9 parts by weight of acid triacrylate and further 3 parts by weight of Irgacure 184 (substance name: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufacturer: Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator were used. The viscosity at this time was about 1300 cps (25 ° C., B-type viscometer), and the primer layer after application showed fluidity when touched, but did not flow down from the PET film.
On the other hand, a silver paste, which is a conductive composition, is applied to the plate surface of the prepared cylindrical intaglio using a pick-up roll, and the conductive composition other than the concave portion is scraped off with a steel doctor blade to conduct electricity only in the concave portion. The composition was filled.
Then, a PET film on which a primer layer in a fluid state is formed between the roll-shaped intaglio plate in a state where the conductive composition is filled in the concave portion and the nip roll, and the pressing force of the nip roll against the roll-shaped intaglio plate ( The flowable primer layer is caused to flow into the recess of the conductive composition existing in the recess by an urging force, and the conductive paste and the fluidity-maintained primer layer are brought into close contact with each other without any gap, and part of the primer Was infiltrated into the conductive composition in the recess.
Next, the intaglio roll was further rotated and irradiated with ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp, and the primer layer in a fluid state made of the ultraviolet curable resin composition was cured. Due to the curing of the primer layer, the conductive paste in the recesses of the intaglio roll is in close contact with the cured primer layer, and then the film is peeled from the intaglio roll by the nip roll on the outlet side, and the conductive composition layer is formed on the primer layer. Was transferred and formed. The film thus obtained is passed through a drying zone at 130 ° C. and dried with hot air for 60 seconds, the solvent in the conductive composition is evaporated, and the conductive conductive composition is deposited on the primer layer. A conductive convex pattern layer of a square lattice having a thickness of 6 μm (thickness at the concave portion at the top of the central portion in the pattern width direction), a line width of 20 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 270 μm was formed. The obtained conductive pattern layer had a shape in which the central portion at the top portion was curved and recessed by 1.5 μm from the end corner portions at the side edges of the line portion.
The conductive composition contains 93 parts by mass of silver powder having an average particle diameter of about 2 μm as the conductive powder, 7 parts by mass of thermoplastic polyester urethane resin as the resin binder, and 25 parts by mass of butyl carbitol acetate as the solvent. After sufficiently stirring and mixing, it was prepared by kneading with three rolls.

次いで、上記メッシュパターンが形成されている透明基材をメッキした。
メッキ液としては、溶媒として水（３０００Ｌ）を用い、硫酸銅５水和物（７５ｇ／Ｌ）と、硫酸（１８０ｇ／Ｌ）、塩酸（６０ｍｇ／Ｌ）、配向性調節成分として炭化水素系高分子系メッキ添加剤（４０ｍＬ／Ｌ）を混合してメッキ液を調製した。
メッキ条件は、浴量（５００ｍＬ）、撹拌（エアー撹拌）、浴温（２５℃）、電流密度（２Ａ／ｄｍ²）、メッキ時間（５ｍｉｎ）で行って、膜厚は２．０μｍであった。メッキ処理により堆積した被膜を１２０℃、６０分間アニール処理して、銅から成る金属層を得た。
メッキは被メッキ部とアノード極板との距離が近いところにメッキがつきやすく、角部にも電流密度集中が起こりメッキが厚くつきやすい。本実施例の導電性パターン層は主切断面が台形形状で頂部の端角部が尖っているとともに、その端角部が頂部の中央部よりも突出しているため、得られた銅メッキされたメッシュパターンの頂部は、端角部が突出し、中央部が凹陥した表面形状であった。 Next, the transparent substrate on which the mesh pattern was formed was plated.
As a plating solution, water (3000 L) is used as a solvent, copper sulfate pentahydrate (75 g / L), sulfuric acid (180 g / L), hydrochloric acid (60 mg / L), and hydrocarbon-based high as an orientation controlling component. A molecular plating additive (40 mL / L) was mixed to prepare a plating solution.
The plating conditions were bath volume (500 mL), stirring (air stirring), bath temperature (25 ° C.), current density (2 A / dm ² ), plating time (5 min), and the film thickness was 2.0 μm. . The film deposited by plating was annealed at 120 ° C. for 60 minutes to obtain a metal layer made of copper.
Plating is likely to occur where the distance between the portion to be plated and the anode electrode plate is short, and current density is concentrated at the corners, resulting in thick plating. The conductive pattern layer of this example was trapped in a trapezoidal shape and the end corners of the top were sharp, and the end corners protruded from the center of the top, so the obtained copper plating was performed. The top of the mesh pattern had a surface shape with end corners protruding and recessed central.

上記メッキ処理後、黒化処理を実施した。
黒化処理は、以下の浴組成の電解浴を用いて陰極電解し粗面化処理を施すことにより行った。
（１層目）
硫酸銅五水和物７０ｇ／Ｌ
硫酸１００ｇ／Ｌ
液温４０℃
電流密度４０Ａ／ｄｍ²
電解時間５秒
陽極白金
（２層目）
硫酸銅五水和物２５０ｇ／Ｌ
硫酸１００ｇ／Ｌ
液温４５℃
電流密度２０Ａ／ｄｍ²
電解時間３０秒
陽極白金
上記条件により、メッシュパターンは、頂部の両側端縁の端角部が突出し、頂部の中央部が凹陥し、且つ頂部表面には、図２の如く、分岐し且つ蛇行する溪谷状の凹溝が多数形成された表面形状の銅メッキ層の表面に銅からなる針状結晶からなる黒化層が形成された。
次いで、黒化層が形成された電磁波遮蔽シートを１０００ｍｍ×６００ｍｍの寸法の長方形に裁断した。その際、長辺とメッシュ（導電性パターン層）線条部走行方向とのなす角度（バイアス角）は５０度に設定した。 After the plating treatment, a blackening treatment was performed.
The blackening treatment was performed by cathodic electrolysis using an electrolytic bath having the following bath composition and roughening treatment.
(First layer)
Copper sulfate pentahydrate 70g / L
Sulfuric acid 100g / L
Liquid temperature 40 ℃
Current density 40A / dm ²
Electrolysis time 5 seconds Anode Platinum (2nd layer)
Copper sulfate pentahydrate 250g / L
Sulfuric acid 100g / L
Liquid temperature 45 ℃
Current density 20A / dm ²
Electrolysis time 30 seconds Anode Platinum Under the above conditions, the mesh pattern protrudes at the end corners of the top edge, the center of the top is recessed, and the top surface branches and meanders as shown in FIG. A blackening layer made of needle-like crystals made of copper was formed on the surface of the surface-plated copper plating layer on which a large number of ridge-like grooves were formed.
Next, the electromagnetic wave shielding sheet on which the blackened layer was formed was cut into a rectangle having a size of 1000 mm × 600 mm. At that time, the angle (bias angle) formed between the long side and the mesh (conductive pattern layer) linear portion running direction was set to 50 degrees.

（反射防止フィルタの準備）
Ｃ４１０６（ペルノックス社製、紫外線硬化型導電性ハードコートインキ、固形分約３２%、五酸化アンチモン分散体）に、ＵＶ−７６００Ｂ［日本合成化学株式会社製；紫外線硬化型のウレタンアクリレート／ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）＝６５／３５（質量比）の混合体］、及び、光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン〔（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」〕を添加し、下記混合溶剤Ａにて固形分が４５％になるように再調整してハードコート層用組成物Ａを得た。得られたハードコート層用組成物Ａの配合比率を表１に示す。
混合溶剤Ａは、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、及びアセチルアセトンの４成分系のものであり、これらをＰＧＭＥ／ＭＥＫ／ＩＰＡ／アセチルアセトン＝６５／２４／５／６の質量比とした。
上記ハードコート層用組成物Ａを、Ａ１５９８（東洋紡績株式会社製、ＰＥＴフィルム、厚み１００μｍ）の干渉縞対策面（易接着面）に乾燥重量６ｇ／ｍ²で塗布して塗膜を形成し、オーブンにて７０℃で１分間加熱して該塗膜を乾燥させ、塗膜に紫外線５０ｍＪ／ｃｍ²を照射して該塗膜を硬化させた。 (Preparation of antireflection filter)
C-4106 (Pernox, UV curable conductive hard coat ink, solid content of about 32%, antimony pentoxide dispersion), UV-7600B [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; UV curable urethane acrylate / pentaerythritol tri Acrylate (PETA) = 65/35 (mass ratio) mixture], and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone [(trade name “Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.] as a photopolymerization initiator ] Was readjusted so that the solid content would be 45% with the following mixed solvent A to obtain a hard coat layer composition A. The blending ratio of the obtained hard coat layer composition A is shown in Table 1. It is shown in 1.
The mixed solvent A is a four-component system of propylene glycol monomethyl ether (PGME), methyl ethyl ketone (MEK), isopropyl alcohol (IPA), and acetylacetone, and these are PGME / MEK / IPA / acetylacetone = 65/24/5. The mass ratio was / 6.
The hard coat layer composition A is applied at a dry weight of 6 g / m ² on an interference fringe countermeasure surface (easy adhesion surface) of A1598 (Toyobo Co., Ltd., PET film, thickness 100 μm) to form a coating film. The coated film was dried by heating in an oven at 70 ° C. for 1 minute, and the coated film was cured by irradiating the coated film with ultraviolet rays of 50 mJ / cm ² .

低屈折率層形成用組成物として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）１．９５質量部に、光重合開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」］０．１質量部を添加し、次いで処理シリカゾル含有溶液［空隙を有する微粒子（平均粒子径６０nm）、シリカゾル固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン］１２．３質量部、及びシリカ粒子含有溶液［ナカライテスク社製、商品名「ｓｉｃａｓｔａｒ」、巨大粒子（平均粒子径１００nm）、シリカ粒子固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン］１．２３質量部を混合したのち、メチルイソブチルケトン８３．５質量部を加えて、紫外線硬化性樹脂組成物の形態の低屈折率層形成用塗工液を調製した。
ＰＥＴフィルム上に形成した上記ハードコート層用組成物Ａによる塗膜の上に上記低屈折率層形成用塗工液を、乾燥重量０．１ｇ／ｍ²塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて６０秒間乾燥した。その後、高圧水銀灯からなる紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射を行うことにより硬化せしめて低屈折率層となし、反射防止層を連続的に形成した。
なお、該低屈折率層の硬化後の膜厚は、９０ｎｍ、屈折率が１．４４になるように形成した。 As a composition for forming a low refractive index layer, 1.95 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (PETA), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone [manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc. as a photopolymerization initiator, trade name "Irgacure 184"] 0.1 parts by mass, then treated silica sol-containing solution [fine particles having voids (average particle size 60 nm), silica sol solid content 20% by mass, solvent; methyl isobutyl ketone] 12.3 parts by mass, And 1.23 parts by mass of a silica particle-containing solution [manufactured by Nacalai Tesque, trade name “sicastar”, giant particles (average particle size 100 nm), solid content of silica particles 20% by mass, solvent; methyl isobutyl ketone] Add 83.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone to form an ultraviolet curable resin composition. A coating solution for forming a low refractive index layer was prepared.
The low-refractive-index layer-forming coating solution is applied (bar coating) with a dry weight of 0.1 g / m ² on the coating film of the hard coat layer composition A formed on the PET film. Dry at 60 ° C. for 60 seconds. Thereafter, using an ultraviolet irradiation device comprising a high-pressure mercury lamp, it was cured by applying ultraviolet irradiation at an irradiation dose of 200 mJ / cm ² to form a low refractive index layer, and an antireflection layer was continuously formed.
The film thickness after curing of the low refractive index layer was 90 nm and the refractive index was 1.44.

（コントラスト向上層の製造）
先ず、片面に易接着処理がされた幅１０００ｍｍ、厚さ１８８μｍでロール巻した連続帯状の透明２軸延伸ポリエチレンテレフタレー卜（ＰＥＴ）フィルムから成る支持体としての透明基材の一方の表面に、液状のウレタンアクリレート系のプレポリマー及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体、及びベンゾフェノン系光開始剤の混合液とから成る液状紫外線硬化樹脂を硬化後の膜厚が１５５μｍとなる様に塗布した。次に、ロール金型表面の面方向に沿って円周方向に直線状に連なり、その延長方向と直交する主切断面形状が、高さ１５０μｍ、版表面側底辺の長さが３０μｍ、版表面から遠い側の底辺の長さが６μｍの台形となる溝状凸部を、６０μｍ周期で複数條互いに平行に配列した凸條群（暗色部と同形状且つ逆凹凸）を形成されたロール金型とＰＥＴフィルムとの間に、塗布した紫外線硬化樹脂を挟んだ状態で水銀灯からの紫外線を照射することにより、該紫外線硬化樹脂を架橋硬化せしめて透明樹脂層とし、しかる後ロール金型を離型することにより、該透明樹脂層表面に、該透明樹脂層表面の面方向に沿って一方向に直線状に連なり、主切断面が、高さ１５０μｍ、透明樹脂層表面側底辺となる下底の長さが３０μｍ、ＰＥＴフィルム側の底辺となる上底の長さが６μｍの台形となる凹條溝群を表面に有する透明樹脂層（透光性領域）を該透明基材の一方の面上に形成した。なお、凹條溝は暗色材料が充填されて遮光する機能を有するので、遮光溝ともいう。
次に、アクリル系の紫外線硬化性プレポリマー１００質量部中に、最小粒径が２μｍで最大粒径が３μｍのカーボンブラックを含む黒色球状ビーズ状粒子５０質量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロへキシル−フェニル−ケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名:イルガキュア１８４］２質量部を混合して黒色で液状の紫外線硬化性樹脂組成物を調製した。この黒色液状組成物を透明樹脂層の遮光溝に塗工し、次いで該塗膜を鉄製ドクターブレードでスキージし該（凹條）遮光溝外の該黒色液状組成物のみを掻き取り除去し、該凹條溝内のみに該黒色液状組成物を充填して、しかる後これを水銀灯からの紫外線を照射して架橋硬化せしめて暗色部（光吸収部）を形成することで、コントラスト向上層（ミクロルーバ層）を完成した。 (Manufacture of contrast enhancement layer)
First, on one surface of a transparent substrate as a support comprising a continuous strip-shaped transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film roll-rolled with a width of 1000 mm and a thickness of 188 μm that has been subjected to easy adhesion treatment on one side, A liquid ultraviolet curable resin comprising a liquid mixture of a urethane acrylate prepolymer, a dipentaerythritol hexaacrylate monomer, and a benzophenone photoinitiator was applied so that the film thickness after curing was 155 μm. Next, the main cut surface shape that is linearly connected in the circumferential direction along the surface direction of the surface of the roll mold and is orthogonal to the extending direction has a height of 150 μm, the length of the base on the plate surface side is 30 μm, and the plate surface Roll mold in which convex groove groups (same shape as the dark portion and reverse irregularities) in which a plurality of groove-shaped convex portions having a trapezoidal shape with a base length of 6 μm on the side far from the base are arranged in parallel with each other at a period of 60 μm By irradiating UV light from a mercury lamp with the applied UV curable resin sandwiched between the PET film and the PET film, the UV curable resin is crosslinked and cured to form a transparent resin layer, and then the roll mold is released. As a result, the surface of the transparent resin layer is linearly connected in one direction along the surface direction of the surface of the transparent resin layer, the main cut surface is 150 μm in height, and the bottom surface of the transparent resin layer surface side is the bottom side. The length is 30 μm and the bottom on the PET film side The length of that upper base transparent resin layer having a surface 凹條 groove group to be trapezoidal 6μm (the light-transmission area) is formed on one surface of the transparent substrate. The concave groove is also referred to as a light shielding groove because it has a function of shielding light by being filled with a dark color material.
Next, 50 parts by mass of black spherical bead-shaped particles containing carbon black having a minimum particle diameter of 2 μm and a maximum particle diameter of 3 μm in 100 parts by mass of an acrylic UV curable prepolymer, and 1-hydroxy as a photopolymerization initiator -2 parts by mass of cyclohexyl-phenyl-ketone [trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] was mixed to prepare a black and liquid UV curable resin composition. The black liquid composition is applied to the light-shielding groove of the transparent resin layer, and then the coating film is squeezed with an iron doctor blade to scrape and remove only the black liquid composition outside the light-shielding groove, The black liquid composition is filled only in the concave groove, and then this is irradiated with ultraviolet light from a mercury lamp to crosslink and cure to form a dark color part (light absorption part), thereby forming a contrast enhancement layer (microlouver). Layer).

（粘着剤層の準備）
アクリル系粘着剤（東洋インキ（株）、感圧性粘着剤「オリバイン」（商品名：ＢＰＳ６２７１）、固形分２７％）及び硬化剤ＢＸＸ５６２７（東洋インキ製造（株））に、紫外線吸収剤ＣｙａｓｏｒｂＵＶ２４（サイテック社）を４質量％配合した粘着剤層用組成物を作製した。
この粘着剤層用組成物を厚さ３８μｍの離型フィルム上に厚さ２５μｍになるように塗布し、１００℃で２分間乾燥した後、更に別の３８μｍ離型フィルムで塗工面をラミネートし、粘着剤層を２枚の離型フィルム間に設けた粘着剤層形成フィルム（１）を作製した。その後、枚葉化した電磁波遮蔽シートの寸法よりも縦横とも３０ｍｍ小さい長方形に裁断した。 (Preparation of adhesive layer)
Acrylic adhesives (Toyo Ink Co., Ltd., pressure-sensitive adhesive “Olivein” (trade name: BPS6271), solid content 27%) and curing agent BXX5627 (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), UV absorber CyasorbUV24 (Cytech) The composition for adhesive layers which mix | blended 4 mass% was prepared.
This pressure-sensitive adhesive layer composition was applied on a release film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 25 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then the coated surface was laminated with another 38 μm release film, A pressure-sensitive adhesive layer-forming film (1) in which a pressure-sensitive adhesive layer was provided between two release films was produced. Then, it cut | judged to the rectangle smaller 30 mm in length and width than the dimension of the sheet-like electromagnetic shielding sheet.

アクリル系粘着剤（東洋インキ（株）、感圧性粘着剤「オリバイン」（商品名：ＢＰＳ６２７１）、固形分２７％）及び硬化剤ＢＸＸ５６２７（東洋インキ製造（株））に、酸化防止剤として１−Ｈベンゾトリアゾールからなる金属不活性化剤ＩＲＧＭＥＴ３９（ＢＡＳＦ社製）を０．５質量％配合した粘着剤層用組成物を作製した。
この粘着剤層用組成物を厚さ３８μｍの離型フィルム上に厚さ２５μｍになるように塗布し、１００℃で２分間乾燥した後、更に別の３８μｍ離型フィルムで塗工面をラミネートし、粘着剤層を２枚の離型フィルム間に設けた粘着剤層形成フィルム（２）を作製した。その後、枚葉化した電磁波遮蔽シートの寸法よりも縦横とも３０ｍｍ小さい長方形に裁断した。 As an antioxidant to acrylic adhesives (Toyo Ink Co., Ltd., pressure-sensitive adhesive “Olivein” (trade name: BPS6271), solid content 27%) and curing agent BXX5627 (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) A pressure-sensitive adhesive layer composition containing 0.5% by mass of a metal deactivator IRGME T39 (BASF) made of H-benzotriazole was prepared.
This pressure-sensitive adhesive layer composition was applied on a release film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 25 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then the coated surface was laminated with another 38 μm release film, A pressure-sensitive adhesive layer-forming film (2) in which a pressure-sensitive adhesive layer was provided between two release films was produced. Then, it cut | judged to the rectangle smaller 30 mm in length and width than the dimension of the sheet-like electromagnetic shielding sheet.

アクリル系粘着剤（東洋インキ（株）、感圧性粘着剤「オリバイン」（商品名：ＢＰＳ６２７１）、固形分２７％）及び硬化剤ＢＸＸ５６２７（東洋インキ製造（株））に、近赤外線吸収化合物として、フタロシアニン系化合物「ＩＲ１２」（商品名、日本触媒（株））を０．０５質量％、フタロシアニン系化合物「ＩＲ１４」（商品名、日本触媒（株））を０．０２質量％及びジインモニウム系化合物「ＩＲＧ−０６８」（商品名、日本化薬（株））を０．０３質量％それぞれ配合した。更に、テトラアザポルフィリン系化合物からなるネオン光吸収剤「ＴＡＰ２」（商品名、山田化学（株））を０．０１質量％配合した。更に、調色色素（ＫＡＹＡＳＥＴ（日本化薬(株)製）を０．０５質量％配合し、十分に混合して粘着剤層用組成物（３）を作製した。
この粘着剤層用組成物を厚さ３８μｍの離型フィルム上に厚さ２５μｍになるように塗布し、１００℃で２分間乾燥した後、更に別の３８μｍ離型フィルムで塗工面をラミネートし、粘着剤層を２枚の離型フィルム間に設けた粘着剤層形成フィルムを作製した。その後、枚葉化した電磁波遮蔽シートの寸法よりも同じ大きさの長方形に裁断した。 Acrylic adhesive (Toyo Ink Co., Ltd., pressure-sensitive adhesive "Olivein" (trade name: BPS6271), solid content 27%) and curing agent BXX5627 (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) as a near infrared absorbing compound, 0.05% by mass of phthalocyanine compound “IR12” (trade name, Nippon Shokubai Co., Ltd.), 0.02% by mass of phthalocyanine compound “IR14” (trade name, Nippon Shokubai Co., Ltd.) and diimmonium compound “ "IRG-068" (trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd.) was blended in an amount of 0.03% by mass. Furthermore, 0.01% by mass of neon light absorber “TAP2” (trade name, Yamada Chemical Co., Ltd.) made of a tetraazaporphyrin-based compound was blended. Further, 0.05% by mass of a toning dye (KAYASET (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) was mixed and mixed thoroughly to prepare a composition (3) for the pressure-sensitive adhesive layer.
This pressure-sensitive adhesive layer composition was applied on a release film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 25 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then the coated surface was laminated with another 38 μm release film, An adhesive layer forming film in which an adhesive layer was provided between two release films was produced. Then, it cut | judged into the rectangle of the same magnitude | size rather than the dimension of the electromagnetic wave shielding sheet which turned into a sheet.

（プラズマディスプレイ用前面フィルタの作製）
反射防止フィルタの透明基材側とコントラスト向上層の暗色部形成側の反対面とを離型フィルムを順次剥がした上記粘着剤層形成フィルム（１）を介して貼り合わせて光学機能層とした。
その光学機能層のコントラスト向上層の暗色部形成側の面と電磁波遮蔽シートの導電性パターン層形成側の面とを離型フィルムを順次剥がした上記粘着剤層形成フィルム（２）を介して貼り合わせ、複合フィルタを得た。なお、コントラスト向上層の暗色部線条と電磁波遮蔽フィルタのメッシュパターンのバイアス角は４７°となるように貼り合わせた。
また、その際、電磁波遮蔽フィルタの周縁部が幅１５ｍｍだけ機能層で被覆されずに接地用領域として露出するような位置関係で貼着した。
そのようにして得た複合フィルタの電磁波遮蔽シートの透明基材側に、離型フィルムを順次剥がした上記粘着剤層形成フィルム（３）を貼着して、ＰＤＰ本体に貼着するリワーク性のある粘着層を形成して、プラズマディスプレイ用前面フィルタを完成した。 (Preparation of front filter for plasma display)
The opposite surface of the antireflection filter on the transparent substrate side and the contrast enhancement layer on the dark color portion forming side was bonded together via the pressure-sensitive adhesive layer forming film (1) from which the release film was sequentially peeled to form an optical functional layer.
The surface on the dark color portion forming side of the contrast improving layer of the optical functional layer and the surface on the conductive pattern layer forming side of the electromagnetic wave shielding sheet are pasted through the adhesive layer forming film (2) in which the release film is sequentially peeled off. Combined, a composite filter was obtained. In addition, it bonded together so that the bias angle of the dark color part filament of a contrast improvement layer and the mesh pattern of an electromagnetic wave shielding filter might be set to 47 degrees.
Further, at that time, the electromagnetic wave shielding filter was pasted so as to be exposed as a grounding region without being covered with the functional layer by a width of 15 mm.
The above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer-forming film (3) from which the release film has been sequentially peeled off is attached to the transparent substrate side of the electromagnetic wave shielding sheet of the composite filter thus obtained, and the rework property of attaching to the PDP body. An adhesive layer was formed to complete a front filter for plasma display.

実施例１における電磁波遮蔽シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程において黒化層とガイドロール等の稼動部位との接触面積が少なく、黒化層の摩耗、剥脱が、これら稼動部位表面を目視観察した限りでは検知されなかった。
また、実施例１において、透明基材上にハードコート層を形成したものは、その表面抵抗値を、三菱化学社製ＨｉｒｅｓｔａＩＰＭＣＰ−ＨＴ２６０にて測定したところ、１０¹¹Ω／□であり、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳＫ−７１３６に準拠した方法により測定したヘイズは０．５であり、ＪＩＳＫ−５６００−５−４に準拠した方法により測定した鉛筆硬度は３Ｈであった。なお、図３は実施例１のハードコート層の断面の走査型電子顕微鏡写真であるが、五酸化アンチモンが三次元網目構造で分散していることがわかる。
そして、実施例１及び後述の比較例１のＰＤＰ用前面フィルタを同等の外光存在条件下の室内で、同一のＰＤＰに同一条件の白及び黒の両画像を並列表示して、目視で、白黒両画像の輝度比（コントラスト）を相対比較したところ、
実施例１のコントラスト＞比較例１のコントラスト
であった。 The electromagnetic wave shielding sheet in Example 1 has a small contact area between the blackened layer and the operating part such as the guide roll in the functional film laminating process, which is a subsequent process, and the blackened layer is worn or peeled off. It was not detected as long as it was visually observed.
Further, in Example 1, obtained by forming a hard coat layer on a transparent substrate, the surface resistance value was measured by Mitsubishi Chemical Corporation ^{Hiresta IP MCP-HT260, 10 11} Ω / □ and is, The haze measured by a method based on JIS K-7136 using a haze meter (Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150) was 0.5, and conformed to JIS K-5600-5-4. The pencil hardness measured by the method was 3H. FIG. 3 is a scanning electron micrograph of the cross section of the hard coat layer of Example 1. It can be seen that antimony pentoxide is dispersed in a three-dimensional network structure.
Then, the PDP front filter of Example 1 and Comparative Example 1 to be described later is displayed in parallel in a room under the same external light presence condition, and both white and black images of the same condition are displayed in parallel on the same PDP. When comparing the luminance ratio (contrast) of both black and white images,
Contrast of Example 1> Contrast of Comparative Example 1.

［比較例１］
凹版の製造時に、中空の鉄の円筒表面に銅メッキ層を被覆してなる円筒版材の表面にネガ型感光性レジスト膜を塗工し、実施例１と同じ線幅及び繰返周期の正方格子パターンをＡｒイオンレーザで露光により、該円筒版材表面の該正方格子の線状パターン部のみ未露光とし、該パターン非形成部（メッシュ開口部）は露光した。次いで、未露光部を洗浄除去することで正方格子パターン部のみ銅層を露出させた状態で、塩化第２鉄水溶液にてレジスト非形成部の銅層を腐蝕して、該円筒版材表面に、深さ７μｍ、線幅１４μｍ、縦横線の繰返し周期２７０μｍの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成し、印刷用の凹版を得た。
その他は実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを製造した。
該製版方式の場合、腐蝕（エッチング）により版凹部の線条パターンの主切断面形状は、底部（導電性パターン層頂部に対応）において凹部の底部が楕円形状となり、その版で凹版印刷したメッシュ状導電性パターン層の主切断面形状は表面凹凸の少ない綺麗な半楕円形状となり、頂部は両側端部よりも中央部の方が突出し、上に凸の滑らかな曲面形状となった。それにメッキ処理を施しても下地形状がそのまま影響し綺麗な丸みを持ったメッキ層形状となってしまった。また、得られた導電性パターン層の頂部表面には、端角部も凹溝も形成されていなかった。
上記メッキ処理後、黒化処理を施した。黒化処理は、浴温９０℃の亜塩素酸ソーダ水溶液５０ｇ／Ｌとカセイソーダ水溶液２０ｇ／Ｌとの混合液に、該メッシュパターン及び銅メッキ層が施された透明基材を、２分間浸漬させて化成処理を行う。これにより、銅メッキ層表面が銅酸化物になり、黒化処理される。
その他は実施例１と同様にして比較例１のプラズマディスプレイ用前面フィルタを製造した。 [Comparative Example 1]
At the time of manufacturing the intaglio, a negative photosensitive resist film was applied to the surface of a cylindrical plate material obtained by coating a hollow iron cylindrical surface with a copper plating layer, and the square of the same line width and repetition cycle as in Example 1 was used. By exposing the lattice pattern with an Ar ion laser, only the linear pattern portion of the square lattice on the surface of the cylindrical plate material was unexposed, and the non-pattern forming portion (mesh opening portion) was exposed. Next, the copper layer of the resist non-formation portion is corroded with an aqueous ferric chloride solution in a state where only the square lattice pattern portion is exposed by washing and removing the unexposed portion, and the surface of the cylindrical plate material is etched Then, a mesh pattern-shaped concave portion of a square lattice having a depth of 7 μm, a line width of 14 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 270 μm was formed to obtain an intaglio for printing.
Otherwise, an electromagnetic wave shielding sheet was produced in the same manner as in Example 1.
In the case of the plate-making method, the main cut surface shape of the linear pattern of the concave portion of the plate due to corrosion (etching) is an elliptical shape at the bottom (corresponding to the top of the conductive pattern layer) and the intaglio printing is performed on the plate. The main cut surface shape of the conductive pattern layer was a beautiful semi-elliptical shape with few surface irregularities, and the top portion protruded from the center portion rather than the end portions on both sides, and became a smooth curved surface shape convex upward. Even if the plating process was applied to it, the shape of the substrate was affected as it was, resulting in a plating layer shape with a beautiful roundness. Moreover, neither an end corner part nor a ditch | groove was formed in the top surface of the obtained electroconductive pattern layer.
After the plating process, a blackening process was performed. The blackening treatment is performed by immersing the transparent substrate with the mesh pattern and the copper plating layer in a mixed solution of 50 g / L sodium chlorite aqueous solution and 20 g / L sodium hydroxide aqueous solution at a bath temperature of 90 ° C. for 2 minutes. The chemical conversion treatment is performed. Thereby, the copper plating layer surface becomes a copper oxide and is blackened.
Otherwise, the front filter for plasma display of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1.

比較例１の電磁波遮蔽シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程において黒化層とガイドロール等の稼動部位との接触面積が多く、黒化層の摩耗、剥脱があった。
また、前記した如く、実施例１及び比較例１のＰＤＰ用前面フィルタを同等の外光存在条件下の室内で、同一のＰＤＰに同一条件の白及び黒の両画像を並列表示して、目視で、白黒両画像の輝度比（コントラスト）を相対比較したところ、
実施例１のコントラスト＞比較例１のコントラスト
であった。 The electromagnetic wave shielding sheet of Comparative Example 1 had a large contact area between the blackened layer and an operating site such as a guide roll in the functional film laminating process as a post process, and the blackened layer was worn and peeled off.
In addition, as described above, the PDP front filters of Example 1 and Comparative Example 1 are displayed in parallel in the same PDP in a room under the same external light presence condition, and both the white and black images of the same condition are displayed in parallel. Then, when comparing the luminance ratio (contrast) of both black and white images,
Contrast of Example 1> Contrast of Comparative Example 1.

［実施例２］
印刷方法をプライマーを用いないシルクスクリーン印刷とした他は実施例１と同じ操作によって、線幅、線厚、開口率、ピッチ、格子パターンが実施例１に同じであり、実施例１と同様の導電性パターン層表面を有する電磁波遮蔽フィルタを作製した。
その他は実施例１と同様にして実施例２のプラズマディスプレイ用前面フィルタを製造した。
実施例２の電磁波遮蔽シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程において黒化層とガイドロール等の稼動部位との接触面積が少なく、黒化層の摩耗、剥脱がほとんどなかった。
また、実施例２及び比較例１のＰＤＰ用前面フィルタを同等の外光存在条件下の室内で、同一のＰＤＰに同一条件の白及び黒の両画像を並列表示して、目視で、白黒両画像の輝度比（コントラスト）を相対比較したところ、
実施例２のコントラスト＞比較例１のコントラスト
であった。 [Example 2]
The line width, line thickness, aperture ratio, pitch, and lattice pattern are the same as in Example 1 except that the printing method is silk screen printing without using a primer, and the same as in Example 1. An electromagnetic wave shielding filter having a conductive pattern layer surface was produced.
Otherwise, the front filter for plasma display of Example 2 was produced in the same manner as Example 1.
In the electromagnetic wave shielding sheet of Example 2, the contact area between the blackened layer and the operation site such as the guide roll was small in the functional film laminating process as a subsequent process, and the blackened layer was hardly worn or peeled off.
Further, the PDP front filter of Example 2 and Comparative Example 1 is displayed in the same PDP in a room under the condition of the same external light, and both white and black images of the same condition are displayed side by side. When comparing the brightness ratio (contrast) of the image,
Contrast of Example 2> Contrast of Comparative Example 1.

１、１’ 透明基材
２導電性パターン層
２ｃ導電性粒子
２ｂ樹脂バインダー
２ｍ金属層
２ｎ針状結晶（黒化層）
３ハードコート層
４低屈折率層
１０電磁波遮蔽フィルタ
２０反射防止フィルタ
３０その他機能層が設けられる位置
１００複合フィルタ 1, 1 'transparent base material 2 electroconductive pattern layer 2c electroconductive particle 2b resin binder 2m metal layer 2n acicular crystal (blackening layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Hard coat layer 4 Low refractive index layer 10 Electromagnetic wave shielding filter 20 Antireflection filter 30 Position where other functional layers are provided 100 Composite filter

Claims

電磁波遮蔽フィルタと透明基材上にハードコート層、低屈折率層を順次積層した反射防止フィルタとを含む複合フィルタであって、
ハードコート層は、五酸化アンチモン及びウレタン樹脂を含有し、該五酸化アンチモンがハードコート層中に三次元網目構造を形成して分散されているものであり、
電磁波遮蔽フィルタは、透明基材上に所定のパターンで形成された導電性粒子と樹脂バインダーを含む導電性パターン層を有するものであり、
該導電性パターン層が、その表面に、頂部の端角部が突出し、頂部の中央部が凹陥した金属層が形成され、かつ、該金属層の表面には金属の針状結晶である黒化層が形成されているものである複合フィルタ。 A composite filter comprising an electromagnetic wave shielding filter and an antireflection filter in which a hard coat layer and a low refractive index layer are sequentially laminated on a transparent substrate,
The hard coat layer contains antimony pentoxide and a urethane resin, and the antimony pentoxide is dispersed by forming a three-dimensional network structure in the hard coat layer,
The electromagnetic wave shielding filter has a conductive pattern layer containing conductive particles formed in a predetermined pattern on a transparent substrate and a resin binder,
The conductive pattern layer is formed on the surface thereof with a metal layer in which the end corner portion of the top portion protrudes and the central portion of the top portion is recessed, and the surface of the metal layer is blackened which is a metal needle crystal. A composite filter in which layers are formed.

電磁波遮蔽フィルタの導電性パターン層が、さらに、頂部金属層表面内に凹溝が走行しているものである請求項１に記載の複合フィルタ。 The composite filter according to claim 1, wherein the conductive pattern layer of the electromagnetic wave shielding filter further has a groove running in the surface of the top metal layer.

請求項１又は２に記載の複合フィルタであって、前記反射防止フィルタと前記電磁波遮蔽フィルタとの間、前記電磁波遮蔽フィルタの画像表示装置側、のいずれか１箇所以上に機能層を設けた複合フィルタ。 3. The composite filter according to claim 1, wherein a functional layer is provided at any one or more positions between the antireflection filter and the electromagnetic wave shielding filter, or on the image display device side of the electromagnetic wave shielding filter. filter.

請求項１〜３のいずれかに記載の複合フィルタを画像表示板の前面に設けた画像表示装置。 The image display apparatus which provided the composite filter in any one of Claims 1-3 in the front surface of the image display board.