JP2012140695A - 蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空蒸着室11内に設けられた蒸着源1と、蒸着用のテープ状基材10を供給するための基材供給手段(3)と、蒸着源1から蒸散する蒸着材料をテープ状基材10の被蒸着面に対して放出する放出口1aと、蒸着後のテープ状基材10を回収するための基材巻取り手段(4)と、テープ状基材10の蒸着位置を蒸着源1の放出口1aに対して所定の距離に保持するための基材支持手段(5)とを備える蒸着装置であって、蒸着源1の放出口1aには、テープ状基材10に対する蒸着材料の付着量を均一に制御する所定形状の遮蔽マスク2が、交換可能に装着されている。
【選択図】図1
Description
上記テープ状基材10としては、例えばポリエチレンナフタレート(PEN),ポリイミド(PI)等からなる樹脂フィルムや、ステンレススチール(SUS)等からなる金属箔が用いられ、リールあるいはロール等に巻回された状態で、図1(a)のように、蒸着装置の巻き出し器3(基材供給手段)にセットされている。
この凸状の遮蔽マスク2は、上記放出口1a内に突出してその突出部位の付着量を低減する凸状部2xと、上記放出口1aの外側に位置して蒸着源1への取り付けに用いられる取付部2zとから形成されている。そして、上記凸状の遮蔽マスク2を蒸着源1の放出口1aに取り付ける際には、蒸着材料の付着量がテープ状基材10の幅方向に均一になるように、この蒸着装置を用いて行った予備実験(蒸着試験)の結果や、クヌーセン余弦定理(クヌーセンの余弦法則)を用いたシミュレーションの結果等を考慮して、その取り付け位置と残部となる放出口1aの開口パターンが決定される。
この凹状の遮蔽マスク2’は、上記放出口1a内に凹状に突出してその突出部位(凹状の両側)の付着量を低減する凹状部2yと、上記放出口1aの外側に位置して蒸着源1への取り付けに用いられる取付部2zとから形成されている。そして、上記凹状の遮蔽マスク2’を蒸着源1の放出口1aに取り付ける際には、前記凸状の遮蔽マスク2と同様、蒸着材料の付着量がテープ状基材10の幅方向に均一になるように、この蒸着装置を用いて行った予備実験(蒸着試験)の結果や、クヌーセン余弦定理(クヌーセンの余弦法則)を用いたシミュレーションの結果等を考慮して、その取り付け位置と残部となる放出口1aの開口パターンが決定される。
[テープ状基材]
・ポリエチレンナフタレート(PEN)製フィルム
(幅20mm,長さ50m,厚さ125μm)
[蒸着材料]
・有機発光ダイオード(OELD)の電子輸送材料兼発光材料に用いられる
トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体〔Alq3〕
・真空蒸着室の真空度:10-5Pa(10-3〜10-5Pa)
・蒸着源(蒸着材料)の温度:300℃(250〜320℃)
・蒸着源の放出口の開口形状:縦(基材流れ方向)20mm,横(基材幅方向)20mm
・蒸着源の放出口とテープ状基材との距離(蒸着距離):2mm(1〜15mm)
・蒸着(加工)速度:1〜20m/分
上記テープ状基材に成膜された有機薄膜の膜厚(基材幅方向の膜厚分布)を、触針式段差膜厚計〈ULVAC社製:Dektak〉を用いて計測した。
実施例1のテープ状基材は以下のようにして作製した。
まず、コンピュータを利用して、上記蒸着装置の加工条件におけるクヌーセン余弦定理(クヌーセンの余弦法則)を用いた付着量のシミュレーションを行い、テープ状基材の幅方向の付着量(膜厚)分布を予測した。そして、この予測にもとづき、その付着量のばらつき(幅方向のばらつき)を抑えるための遮蔽マスクAを作製した。なお、この遮蔽マスクAの形状は、前記実施形態に記載の遮蔽マスク2に類似の凸形状である〔図2(a)参照〕。
ついで、得られた実施例1の蒸着済みテープ状基材の膜厚(基材幅方向の膜厚分布)を、上記ブランクと同様の方法で測定した。そして、その解析結果にもとづき、上記遮蔽マスクAの形状を修正して、改良版の遮蔽マスクBを作製した。なお、この改良版の遮蔽マスクBの形状も、図2(a)に記載の遮蔽マスク2に類似の凸形状である。
つぎに、上記遮蔽マスクBを、蒸着源の放出口の基材流れ方向上流側と下流側の2個所〔図2(c)参照〕に1枚ずつ取り付け、上記ブランクおよび実施例1,2と同様に蒸着を行い、実施例3の蒸着済みテープ状基材を作製した。
上記膜厚測定方法を用いて、得られた上記実施例1〜3の蒸着済みテープ状基材と遮蔽マスクを使用していないブランクの蒸着済みテープ状基材の、基材幅方向の「蒸着膜の膜厚分布」を計測した結果を、図4の「グラフ1」に示す。このグラフ1は、テープ状基材(幅20mm)の幅方向中央の膜厚を1とした時の膜厚のばらつき(a.u.)を、基材幅方向中央からの距離1mmごとに示している。なお、基材幅方向の端部(縁部2mm)は、蒸着膜のばらつきが大きく、実質上製品として使用できないため、基材幅方向中央から±8mmより外側は、測定から除外した。
また、膜厚のばらつき(誤差)が、基材幅方向中央の厚さ(基準)に対して±3%,±5%,±10%に収まる範囲の幅(基材幅)を、上記測定データの中から抽出し、テープ状基材の幅20mmに対する「蒸着膜の有効幅」(すなわち、製品として使用できる歩留り)を計算した。結果を以下の「表1」に示す。
1a 放出口
2 遮蔽マスク
10 テープ状基材
11 真空蒸着室
Claims (4)
- 真空蒸着室と、この真空蒸着室内に設けられた蒸着源と、上記真空蒸着室内に蒸着用のテープ状基材を供給するための基材供給手段と、上記蒸着源に関連して設けられ、蒸着源から蒸散する蒸着材料を上記テープ状基材の被蒸着面に対して放出する放出口と、蒸着後のテープ状基材を回収するための基材巻取り手段と、上記真空蒸着室内におけるテープ状基材の蒸着位置を、上記蒸着源の放出口に対して所定の距離に保持するための基材支持手段とを備え、上記蒸着源の放出口に、蒸着材料の放出量を規制して上記テープ状基材の被蒸着面に基材幅方向に均一な膜厚の蒸着膜を形成するための遮蔽マスクが、交換可能に装着されていることを特徴とする蒸着装置。
- 上記遮蔽マスクが、同一の開口パターンを有する遮蔽マスク材を、その開口を揃えた状態で複数枚重ねて形成されているとともに、これら各遮蔽マスク材が一枚ずつ除去可能になっており、この除去により順次新しい遮蔽マスク材が使用されるようになっている請求項1記載の蒸着装置。
- 上記蒸着位置における蒸着源の放出口とテープ状基材の被蒸着面との間の距離が、1〜15mmである請求項1または2記載の蒸着装置。
- 上記筒状蒸着源の放出口近傍と上記遮蔽マスクとを加熱するための加熱手段を備える請求項1〜3のいずれか一項に記載の蒸着装置。
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Cited By (2)
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WO2016204022A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2016-12-22 | 株式会社アルバック | 成膜方法及び成膜装置 |
JP2019189901A (ja) * | 2018-04-23 | 2019-10-31 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6174142A (ja) * | 1984-09-20 | 1986-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH0765370A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-03-10 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPH0793752A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPH0798862A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-11 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPH08165559A (ja) * | 1994-12-12 | 1996-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | 機能性フィルムの成膜装置及び成膜方法 |
JPH11323532A (ja) * | 1998-05-11 | 1999-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂薄膜の製造方法 |
JP2005235568A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-02 | Seiko Epson Corp | 蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
JP2005330537A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
JP2005350732A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着装置 |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6174142A (ja) * | 1984-09-20 | 1986-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH0765370A (ja) * | 1993-08-27 | 1995-03-10 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPH0793752A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPH0798862A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-11 | Kao Corp | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPH08165559A (ja) * | 1994-12-12 | 1996-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | 機能性フィルムの成膜装置及び成膜方法 |
JPH11323532A (ja) * | 1998-05-11 | 1999-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂薄膜の製造方法 |
JP2005235568A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-02 | Seiko Epson Corp | 蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
JP2005330537A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
JP2005350732A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016204022A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2016-12-22 | 株式会社アルバック | 成膜方法及び成膜装置 |
JPWO2016204022A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2018-01-25 | 株式会社アルバック | 成膜方法及び成膜装置 |
CN107636192A (zh) * | 2015-06-16 | 2018-01-26 | 株式会社爱发科 | 成膜方法和成膜装置 |
JP2019189901A (ja) * | 2018-04-23 | 2019-10-31 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
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