JP2012060137A5 - - Google Patents

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本発明の液処理装置は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部と、
カップ体の開口部間における前記移動路に位置すると共に一の液処理部から他の液処理部に向けて横方向に移動する途中の当該処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄し、その洗浄液が前記液取り部にて処理液ノズルから除去されるように前記液取り部に設けられた洗浄液供給部と、
を備えたことを特徴とする。
前記処理液ノズルは例えば斜め下方に前記処理液を吐出する吐出口を備えており、また前記液取り部は例えば弾性材により構成され、そして前記液取り部は例えば更に前記待機部に設けられている。そして、前記待機部に位置する処理液ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給部を備えていてもよい。前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、その表面に多数の凹部を有していてもよい。前記凹部は例えば上方に向けて開口すると共に、上方から下方に向かうにつれて末広がりに構成される。前記液取り部は例えば毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、多孔質材料により構成されている。前記処理液は例えば現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものである
本発明の液処理方法は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部に対して共用化された処理液ノズルから前記基板に処理液を供給する液処理方法において、
前記液処理部の列の延長線上に設けられた、処理液ノズルを待機させるための待機部から、前記複数の液処理部を構成する一の液処理部の上方領域へ、当該一の液処理部の基板に処理液を供給するために前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動手段により移動させる工程と、
次いで、前記待機部に処理液ノズルを戻さずに当該処理液ノズルを前記複数の液処理部を構成する他の液処理部の基板に処理液を供給するために、当該他の液処理部の上方領域へ向けて前記列に従って移動させる工程と、
次いで、前記処理液ノズルが他の液処理部まで横方向に移動する途中で、前記カップ体の開口部間において、当該処理液ノズルに洗浄液供給部により洗浄液を供給して当該処理液ノズルを洗浄し、前記洗浄液供給部を備えると共に処理液ノズルの移動路の下方側に設けられた液取り部を前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた洗浄液の液滴に接触させる工程と、
前記液取り部に接触した液滴を当該液取り部により処理液ノズルから除去する工程と、
を備えたことを特徴とする。

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI544291B (zh) 2012-05-22 2016-08-01 斯克林半導體科技有限公司 顯像處理裝置
JP6236328B2 (ja) * 2014-02-06 2017-11-22 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP6447354B2 (ja) * 2014-07-23 2019-01-09 東京エレクトロン株式会社 現像装置
CN113759675A (zh) * 2020-06-05 2021-12-07 长鑫存储技术有限公司 半导体设备及其操作方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0430521A (ja) * 1990-05-28 1992-02-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板用回転式表面処理装置
JP2811247B2 (ja) * 1991-12-13 1998-10-15 東京エレクトロン株式会社 処理装置
JP4024351B2 (ja) * 1997-08-11 2007-12-19 大日本スクリーン製造株式会社 現像装置
JP3679904B2 (ja) * 1997-08-29 2005-08-03 大日本スクリーン製造株式会社 ノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置
JP2004209313A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板塗布装置および基板塗布方法
JP4901200B2 (ja) * 2005-11-30 2012-03-21 東京応化工業株式会社 溶剤回収システム
JP5045218B2 (ja) * 2006-10-25 2012-10-10 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
JP4900117B2 (ja) * 2007-07-30 2012-03-21 東京エレクトロン株式会社 現像装置、現像方法及び記憶媒体
JP2010186974A (ja) * 2009-02-13 2010-08-26 Tokyo Electron Ltd 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体

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