JP2012060083A - 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液処理系の単位ブロック群と、この単位ブロック群のキャリアブロック側に配置された第1の加熱系のブロックと、前記液処理系の単位ブロック群のインターフェイスブロック側に配置された第2の加熱系のブロックと、を備えるように処理ブロックを構成し、液処理系の単位ブロック群は、反射防止膜及びレジスト膜を形成する前段処理用の単位ブロックを二重化したものと、上層膜を形成し、露光前に洗浄を行う後段処理用の単位ブロックを二重化したものと、現像処理を行う単位ブロックとを含むように構成し、第1の加熱系のブロックは、レジスト塗布後及び現像後の基板を加熱し、第2の加熱系のブロックは、露光後現像前、反射防止膜形成後及び上層膜形成後の各基板を加熱する。
【選択図】図1
Description
a)前記処理ブロックは、キャリアブロック側に配置される液処理系の単位ブロック群と、この液処理系の単位ブロック群のキャリアブロック側に配置された第1の加熱系のブロックと、前記液処理系の単位ブロック群のインターフェイスブロック側に配置された第2の加熱系のブロックと、を備えたことと、
b)前記液処理系の単位ブロック群は、
基板に下層側の反射防止膜を形成するために薬液を供給する下層用の液処理モジュールと、前記反射防止膜の上にレジスト膜を形成するためにレジスト液を供給する塗布モジュールと、これらモジュール間で基板の受け渡しを行うためにキャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動し、単位ブロック用の搬送機構と、を備えた前段処理用の単位ブロックを、第1の前段処理用の単位ブロック及び第2の前段処理用の単位ブロックとして上下に二重化して互いに積層したものと、
前記前段処理用の単位ブロックの上方側に積層され、レジスト膜が形成された基板に上層側の膜を形成するために薬液を供給する上層用の液処理モジュールと、上層膜が形成された基板に対して、露光前に洗浄を行う洗浄モジュールと、これらモジュール間で基板を搬送するために、キャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた後段処理用の単位ブロックを、第1の後段処理用の単位ブロック及び第2の後段処理用の単位ブロックとして上下に二重化して、互いに積層したものと、
前記前段処理用の単位ブロックに対して積層され、基板に現像液を供給する液処理モジュールと、キャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた現像処理用の単位ブロックと、を含むことと、
c)前記第1の加熱系のブロックは、複数の加熱モジュールを上下に積層し、これら加熱モジュールに対して、前記前段処理用の単位ブロックにてレジスト液を塗布した後の基板を加熱する加熱モジュールと、現像用の単位ブロックにて現像が行われた基板を加熱する加熱モジュールと、を割り当てると共に、加熱モジュールの間で基板の搬送を行うために昇降自在な第1の加熱系の搬送機構と、を備えたことと、
d)前記第2の加熱系のブロックは、複数の加熱モジュールを上下に積層し、これら加熱モジュールに対して、前記前段処理用の単位ブロックにて反射防止膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を加熱する加熱モジュールと、前記後段処理用の単位ブロックにて上層膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を加熱する加熱モジュールと、現像用の単位ブロックにて現像が行われる前の基板を加熱する加熱モジュールと、を割り当てると共に、加熱モジュールの間で基板の搬送を行うために昇降自在な第2の加熱系の搬送機構と、を備えたことと、
e)前記現像用の単位ブロックのキャリアブロック側に現像後の基板が搬送機構により搬出される受け渡しステージを設けると共に、前記前段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、キャリアから払い出された基板を当該単位ブロックの搬送機構に受け渡すための受け渡しステージを設けたことと、
f)前記前段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、レジスト液が塗布された基板を第1の加熱系のブロックに払い出すための受け渡しステージを設けると共に、前記後段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、レジスト膜が形成された基板を当該単位ブロックの搬送機構が受け取るための受け渡しステージを設けることと、
g)前記前段処理用の単位ブロックにおけるインターフェイスブロック側に、反射防止膜が塗布された基板を第2の加熱系のブロックに払い出すための受け渡しステージと第2の加熱系のブロックにて加熱処理された基板を当該単位ブロックの搬送機構が受け取るための受け渡しステージとを設けると共に、前記後段処理用の単位ブロックにおけるインターフェイスブロック側に、上層膜が形成された基板を第2の加熱系のブロックの搬送機構に受け渡すための受け渡しステージを設けることと、
を備えたことを特徴とする。
(1)前記第1の加熱系のブロックは、
前記直線搬送路の伸びる方向を前後方向とすると、前後方向に伸びる直線搬送路と、この直線搬送路に沿って設けられた複数の加熱モジュールと、これら加熱モジュール及び受け渡しステージの間で基板を搬送するために当該直線搬送路に沿って移動する水平搬送機構と、を備えたユニット部分を複数段積層し、更に各ユニット部分の間で基板の搬送を行う上下搬送機構を設けた構成とされる。
(2)現像処理用の単位ブロックは、当該単位ブロックの搬送機構により基板の受け渡しが行われ、露光後の基板を洗浄するための洗浄モジュールを更に備えている。
前段処理用の単位ブロックにて反射防止膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を第2の加熱系ブロックに搬送する工程と、
次いで、第2の加熱系ブロックの加熱モジュールで加熱された基板を前段処理用の単位ブロックに搬送する工程と、
前記前段処理用の単位ブロックにてレジスト液が塗布された基板を第1の加熱系ブロックに搬送する工程と、
第1の加熱系の搬送機構により前記基板を後段処理用の単位ブロックに搬送する工程と、
後段処理用の単位ブロックにて上層膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を第2の加熱系のブロックに搬送する工程と、
を備えることを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、上記の塗布、現像方法を実施するためのものであることを特徴とする。
本発明に係る塗布、現像装置1について、夫々当該塗布、現像装置1の平面図、斜視図、縦断側面図である図1、図2、図3を参照しながら説明する。この塗布、現像装置1ではキャリアブロックS1、処理ブロックS20、インターフェイスブロックS5が直線状に接続されており、インターフェイスブロックS5には、液浸露光を行う露光装置S6が接続されている。前記処理ブロックS20は、キャリアブロックS1側からインターフェイスブロックS5側に向けて配列された第1の加熱系のブロックである前方側加熱系ブロックS2と、液処理系の単位ブロック群をなす液処理ブロックS3と、第2の加熱系のブロックである後方側加熱系ブロックS4とにより構成される。
BCT 反射防止膜形成モジュール
B1〜B6 メインアーム
COT レジスト膜形成モジュール
DEV 現像モジュール
C1〜C6 液処理単位ブロック
D1〜D6 メインアーム
TCT 保護膜形成モジュール
S1 キャリアブロック
S2 前方側加熱系ブロック
S3 液処理ブロック
S4 後方側加熱系ブロック
S5 インターフェイスブロック
S6 露光装置
W ウエハ
1 塗布、現像装置
61 制御部
Claims (5)
- キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、前記処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に位置するインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
a)前記処理ブロックは、キャリアブロック側に配置される液処理系の単位ブロック群と、この液処理系の単位ブロック群のキャリアブロック側に配置された第1の加熱系のブロックと、前記液処理系の単位ブロック群のインターフェイスブロック側に配置された第2の加熱系のブロックと、を備えたことと、
b)前記液処理系の単位ブロック群は、
基板に下層側の反射防止膜を形成するために薬液を供給する下層用の液処理モジュールと、前記反射防止膜の上にレジスト膜を形成するためにレジスト液を供給する塗布モジュールと、これらモジュール間で基板の受け渡しを行うためにキャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた前段処理用の単位ブロックを、第1の前段処理用の単位ブロック及び第2の前段処理用の単位ブロックとして上下に二重化して互いに積層したものと、
前記前段処理用の単位ブロックの上方側に積層され、レジスト膜が形成された基板に上層側の膜を形成するために薬液を供給する上層用の液処理モジュールと、上層膜が形成された基板に対して、露光前に洗浄を行う洗浄モジュールと、これらモジュール間で基板を搬送するために、キャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた後段処理用の単位ブロックを、第1の後段処理用の単位ブロック及び第2の後段処理用の単位ブロックとして上下に二重化して、互いに積層したものと、
前記前段処理用の単位ブロックに対して積層され、基板に現像液を供給する液処理モジュールと、キャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた現像処理用の単位ブロックと、を含むことと、
c)前記第1の加熱系のブロックは、複数の加熱モジュールを上下に積層し、これら加熱モジュールに対して、前記前段処理用の単位ブロックにてレジスト液を塗布した後の基板を加熱する加熱モジュールと、現像用の単位ブロックにて現像が行われた基板を加熱する加熱モジュールと、を割り当てると共に、加熱モジュールの間で基板の搬送を行うために昇降自在な第1の加熱系の搬送機構と、を備えたことと、
d)前記第2の加熱系のブロックは、複数の加熱モジュールを上下に積層し、これら加熱モジュールに対して、前記前段処理用の単位ブロックにて反射防止膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を加熱する加熱モジュールと、前記後段処理用の単位ブロックにて上層膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を加熱する加熱モジュールと、現像用の単位ブロックにて現像が行われる前の基板を加熱する加熱モジュールと、を割り当てると共に、加熱モジュールの間で基板の搬送を行うために昇降自在な第2の加熱系の搬送機構と、を備えたことと、
e)前記現像用の単位ブロックのキャリアブロック側に現像後の基板が搬送機構により搬出される受け渡しステージを設けると共に、前記前段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、キャリアから払い出された基板を当該単位ブロックの搬送機構に受け渡すための受け渡しステージを設けたことと、
f)前記前段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、レジスト液が塗布された基板を第1の加熱系のブロックに払い出すための受け渡しステージを設けると共に、前記後段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、レジスト膜が形成された基板を当該単位ブロックの搬送機構が受け取るための受け渡しステージを設けることと、
g)前記前段処理用の単位ブロックにおけるインターフェイスブロック側に、反射防止膜が塗布された基板を第2の加熱系のブロックに払い出すための受け渡しステージと第2の加熱系のブロックにて加熱処理された基板を当該単位ブロックの搬送機構が受け取るための受け渡しステージとを設けると共に、前記後段処理用の単位ブロックにおけるインターフェイスブロック側に、上層膜が形成された基板を第2の加熱系のブロックの搬送機構に受け渡すための受け渡しステージを設けることと、
を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 前記第1の加熱系のブロックは、
前記直線搬送路の伸びる方向を前後方向とすると、前後方向に伸びる直線搬送路と、この直線搬送路に沿って設けられた複数の加熱モジュールと、これら加熱モジュール及び受け渡しステージの間で基板を搬送するために当該直線搬送路に沿って移動する水平搬送機構と、を備えたユニット部分を複数段積層し、更に各ユニット部分の間で基板の搬送を行う上下搬送機構を設けた構成とされたことを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。 - 現像処理用の単位ブロックは、当該単位ブロックの搬送機構により基板の受け渡しが行われ、露光後の基板を洗浄するための洗浄モジュールを更に備えていることを特徴とする請求項1または2記載の塗布、現像装置。
- キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、前記処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に位置するインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
a)前記処理ブロックは、キャリアブロック側に配置される液処理系の単位ブロック群と、この液処理系の単位ブロック群のキャリアブロック側に配置された第1の加熱系のブロックと、前記液処理系の単位ブロック群のインターフェイスブロック側に配置された第2の加熱系のブロックと、を備えたことと、
b)前記液処理系の単位ブロック群は、
基板に下層側の反射防止膜を形成するために薬液を供給する下層用の液処理モジュールと、前記反射防止膜の上にレジスト膜を形成するためにレジスト液を供給する塗布モジュールと、これらモジュール間で基板の受け渡しを行うためにキャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた前段処理用の単位ブロックを、第1の前段処理用の単位ブロック及び第2の前段処理用の単位ブロックとして上下に二重化して互いに積層したものと、
前記前段処理用の単位ブロックの上方側に積層され、レジスト膜が形成された基板に上層側の膜を形成するために薬液を供給する上層用の液処理モジュールと、上層膜が形成された基板に対して、露光前に洗浄を行う洗浄モジュールと、これらモジュール間で基板を搬送するために、キャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた後段処理用の単位ブロックを、第1の後段処理用の単位ブロック及び第2の後段処理用の単位ブロックとして上下に二重化して、互いに積層したものと、
前記前段処理用の単位ブロックに対して積層され、基板に現像液を供給する液処理モジュールと、キャリアブロックとインターフェイスブロックとを結ぶ直線搬送路上を移動する単位ブロック用の搬送機構と、を備えた現像処理用の単位ブロックと、を含むことと、
c)前記第1の加熱系のブロックは、複数の加熱モジュールを上下に積層し、これら加熱モジュールに対して、前記前段処理用の単位ブロックにてレジスト液を塗布した後の基板を加熱する加熱モジュールと、現像用の単位ブロックにて現像が行われた基板を加熱する加熱モジュールと、を割り当てると共に、加熱モジュールの間で基板の搬送を行うために昇降自在な第1の加熱系の搬送機構と、を備えたことと、
d)前記第2の加熱系のブロックは、複数の加熱モジュールを上下に積層し、これら加熱モジュールに対して、前記前段処理用の単位ブロックにて反射防止膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を加熱する加熱モジュールと、前記後段処理用の単位ブロックにて上層膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を加熱する加熱モジュールと、現像用の単位ブロックにて現像が行われる前の基板を加熱する加熱モジュールと、を割り当てると共に、加熱モジュールの間で基板の搬送を行うために昇降自在な第2の加熱系の搬送機構と、を備えたことと、
e)前記現像用の単位ブロックのキャリアブロック側に現像後の基板が搬送機構により搬出される受け渡しステージを設けると共に、前記前段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、キャリアから払い出された基板を当該単位ブロックの搬送機構に受け渡すための受け渡しステージを設けたことと、
f)前記前段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、レジスト液が塗布された基板を第1の加熱系のブロックに払い出すための受け渡しステージを設けると共に、前記後段処理用の単位ブロックにおけるキャリアブロック側に、レジスト膜が形成された基板を当該単位ブロックの搬送機構が受け取るための受け渡しステージを設けることと、
g)前記前段処理用の単位ブロックにおけるインターフェイスブロック側に、反射防止膜が塗布された基板を第2の加熱系のブロックに払い出すための受け渡しステージと第2の加熱系のブロックにて加熱処理された基板を当該単位ブロックの搬送機構が受け取るための受け渡しステージとを設けると共に、前記後段処理用の単位ブロックにおけるインターフェイスブロック側に、上層膜が形成された基板を第2の加熱系のブロックの搬送機構に受け渡すための受け渡しステージを設けることと、
を備えた塗布、現像装置を用い、
前段処理用の単位ブロックにて反射防止膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を第2の加熱系ブロックに搬送する工程と、
次いで、第2の加熱系ブロックの加熱モジュールで加熱された基板を第2の加熱系の搬送機構により前段処理用の単位ブロックに搬送する工程と、
前記前段処理用の単位ブロックにてレジスト液が塗布された基板を第1の加熱系ブロックに搬送する工程と、
第1の加熱系の搬送機構により前記基板を後段処理用の単位ブロックに搬送する工程と、
後段処理用の単位ブロックにて上層膜を形成するための薬液が塗布された後の基板を第2の加熱系のブロックに搬送する工程と、
を備えることを特徴とする塗布、現像方法。 - 塗布、現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項4記載の塗布、現像方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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