JP2012023287A - 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 151
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 129
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 200
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 120
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 167
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 22
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 16
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 293
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】ウェハ処理装置42は、周辺露光処理を行う周辺露光室111、112と、周辺露光処理後のウェハWの欠陥を検査する検査室113と、ウェハWを鉛直方向に搬送する搬送アーム130を備えた搬送室114とを有している。周辺露光室111、112は、ウェハWを保持する第1の保持部140と、搬送室114との間で第1の保持部140を移動させる駆動部142と、ウェハWの周縁部を露光する露光部150と、ウェハWの周縁部の位置を検出する位置検出センサ152とを有している。検査室113は、ウェハWを保持する第2の保持部160と、搬送室114との間で第2の保持部160を移動させる駆動部162と、ウェハWを撮像する撮像部170とを有している。
【選択図】図4
Description
42 ウェハ処理装置
70 ウェハ搬送装置
110 処理容器
111 下側周辺露光室
111a 第1の開口部
112 上側周辺露光室
112a 第1の開口部
113 検査室
113a 第2の開口部
114 搬送室
130 搬送アーム
140 第1の保持部
141 基台
142 駆動部
150 露光部
152 位置検出センサ
160 第2の保持部
161 基台
162 駆動部
170 撮像部
200 制御部
210 位置検出センサ
W、W1、W2 ウェハ
Claims (10)
- 基板の処理装置であって、
基板上に形成された塗布膜の周縁部に対して周辺露光処理を行う周辺露光室と、
前記周辺露光室に積層して設けられ、当該周辺露光室における周辺露光処理が終了した基板の欠陥を検査する検査室と、
外部との間で基板を搬入出しつつ、前記周辺露光室と前記検査室に隣接して設けられ、基板を鉛直方向に搬送する搬送アームを備えた搬送室と、を有し、
前記周辺露光室は、
基板を保持する第1の保持部と、
前記周辺露光室の搬送室側に形成された第1の開口部を介して、前記周辺露光室と前記搬送室との間で前記第1の保持部を移動させる第1の移動機構と、
前記第1の保持部に保持された基板上の塗布膜の周縁部を露光する露光部と、を有し、
前記検査室は、
基板を保持する第2の保持部と、
前記検査室の搬送室側に形成された第2の開口部を介して、前記検査室と前記搬送室との間で前記第2の保持部を移動させる第2の移動機構と、
前記第2の保持部に保持された基板を撮像する撮像部と、を有することを特徴とする、基板処理装置。 - 前記周辺露光室は、
前記第1の保持部に保持された基板の周縁部の位置を検出する位置検出センサと、
前記第1の保持部に保持された基板を回転させる回転駆動部と、
前記位置検出センサの検出結果に基づいて、基板の周縁部の位置を調整するように前記回転駆動部を制御する制御部と、を有することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記検査室は、
前記第2の保持部に保持された基板の周縁部の位置を検出する位置検出センサと、
前記第2の保持部に保持された基板を回転させる回転駆動部と、
前記位置検出センサの検出結果に基づいて、基板の周縁部の位置を調整するように前記回転駆動部を制御する制御部と、を有することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理装置。 - 1室以上の前記周辺露光室と1室以上の前記検査室がそれぞれ積層され、
前記周辺露光室における周辺露光処理時間と前記検査室における検査時間との比率に基づいて、前記周辺露光室の数と前記検査室の数が設定されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。 - 2室の前記周辺露光室と1室の前記検査室が積層されていることを特徴とする、請求項4に記載の基板処理装置。
- 基板処理装置を用いた基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、基板上に形成された塗布膜の周縁部に対して周辺露光処理を行う周辺露光室と、前記周辺露光室に積層して設けられ、当該周辺露光室における周辺露光処理が終了した基板の欠陥を検査する検査室と、外部との間で基板を搬入出しつつ、前記周辺露光室と前記検査室に隣接して設けられ、基板を鉛直方向に搬送する搬送アームを備えた搬送室と、を備え、
前記周辺露光室は、基板を保持する第1の保持部と、前記周辺露光室の搬送室側に形成された第1の開口部を介して、前記周辺露光室と前記搬送室との間で前記第1の保持部を移動させる第1の移動機構と、前記第1の保持部に保持された基板上の塗布膜の周縁部を露光する露光部と、を備え、
前記検査室は、基板を保持する第2の保持部と、前記検査室の搬送室側に形成された第2の開口部を介して、前記検査室と前記搬送室との間で前記第2の保持部を移動させる第2の移動機構と、前記第2の保持部に保持された基板を撮像する撮像部と、を備え、
前記基板処理方法は、
前記第1の移動機構によって、前記第1の保持部に保持された基板を前記周辺露光室に搬送し、当該周辺露光室で基板上の塗布膜の周縁部を露光する周辺露光工程と、
その後、第1の保持部から前記搬送アームに基板を受け渡した後、前記搬送アームを前記検査室と同じ高さまで移動させる搬送工程と、
その後、前記搬送アームから前記第2の保持部に基板を受け渡した後、前記第2の移動機構によって、前記第2の保持部に保持された基板を前記検査室に搬送し、当該検査室で基板の欠陥を検査する検査工程と、を有することを特徴とする、基板処理方法。 - 前記周辺露光室は、前記第1の保持部に保持された基板の周縁部の位置を検出する位置検出センサと、前記第1の保持部に保持された基板を回転させる回転駆動部と、を備え、
前記周辺露光工程において、前記位置検出センサの検出結果に基づいて、前記回転駆動部によって基板を回転させ、当該基板の周縁部の位置を調整することを特徴とする、請求項6に記載の基板処理方法。 - 前記検査室は、前記第2の保持部に保持された基板の周縁部の位置を検出する位置検出センサと、前記第2の保持部に保持された基板を回転させる回転駆動部と、を備え、
前記検査工程において、前記位置検出センサの検出結果に基づいて、前記回転駆動部によって基板を回転させ、当該基板の周縁部の位置を調整することを特徴とする、請求項6に記載の基板処理方法。 - 請求項6〜8のいずかに記載の基板処理方法を基板処理装置によって実行させるために、当該基板処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項9に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010161709A JP5567919B2 (ja) | 2010-07-16 | 2010-07-16 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010161709A JP5567919B2 (ja) | 2010-07-16 | 2010-07-16 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012023287A true JP2012023287A (ja) | 2012-02-02 |
JP5567919B2 JP5567919B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=45777276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010161709A Active JP5567919B2 (ja) | 2010-07-16 | 2010-07-16 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
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