JP2012021183A - Baffle plate unit and gas wiping device using the same - Google Patents
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Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 38
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 10
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 8
- 239000003517 fume Substances 0.000 abstract description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 94
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 94
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 46
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 22
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 8
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 240000007124 Brassica oleracea Species 0.000 description 1
- 235000003899 Brassica oleracea var acephala Nutrition 0.000 description 1
- 235000012905 Brassica oleracea var viridis Nutrition 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 210000004894 snout Anatomy 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
- C23C2/16—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
- C23C2/18—Removing excess of molten coatings from elongated material
- C23C2/20—Strips; Plates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0034—Details related to elements immersed in bath
- C23C2/00342—Moving elements, e.g. pumps or mixers
- C23C2/00344—Means for moving substrates, e.g. immersed rollers or immersed bearings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0038—Apparatus characterised by the pre-treatment chambers located immediately upstream of the bath or occurring locally before the dipping process
- C23C2/004—Snouts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
- C23C2/51—Computer-controlled implementation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
- C23C2/52—Controlling or regulating the coating processes with means for measuring or sensing
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、金属帯に溶融金属めっきを施した後に過剰な溶融金属を除去するガスワイピング装置に用いられる、バッフルプレートとその位置を調整する位置調整機構とを有するバッフルプレートユニットおよびこのバッフルプレートユニットを用いたガスワイピング装置に関する。 The present invention relates to a baffle plate unit having a baffle plate and a position adjusting mechanism for adjusting its position, and a baffle plate unit used in a gas wiping apparatus that removes excess molten metal after applying a molten metal plating to a metal strip. The present invention relates to a gas wiping apparatus using the above.
例えば、鋼帯の溶融亜鉛めっき設備においては、鋼帯を溶融亜鉛めっき浴に浸漬した後、鋼帯を垂直に引き上げることにより、鋼帯の表裏面に溶融亜鉛を付着させるが、めっき浴の直上に、めっき浴から引き上げられた鋼帯の表裏面にガスを吹き付けて過剰な溶融亜鉛を除去するガスワイピング装置が配置されている。 For example, in a hot dip galvanizing facility for steel strips, after immersing the steel strip in a hot dip galvanizing bath, the steel strip is pulled up vertically to attach hot dip zinc to the front and back surfaces of the steel strip. In addition, a gas wiping device for removing excess molten zinc by blowing gas onto the front and back surfaces of the steel strip pulled up from the plating bath is disposed.
このようなガスワイピング装置は、鋼帯の両面側に、鋼帯の幅方向に沿って鋼帯の幅長よりも長い一対のガスワイピングノズルが互いに対向するように設けられており、これらガスワイピングノズルから鋼帯にガスを吹き付けるようになっている。 Such a gas wiping device is provided with a pair of gas wiping nozzles that are longer than the width of the steel strip along the width direction of the steel strip so as to face each other on both sides of the steel strip. Gas is blown from the nozzle to the steel strip.
ところで、このようなガスワイピング装置においては、鋼帯よりも幅方向外側部分において、一対のガスワイピングノズルから吹き出されたガスが衝突してガスの流れが乱れ、鋼帯のエッジ部分においてワイピング効果が減少して、鋼帯のエッジ部分のめっき付着量が多くなるエッジオーバーコート現象が生じる。 By the way, in such a gas wiping device, the gas blown from the pair of gas wiping nozzles collides in the width direction outer side portion than the steel strip, the gas flow is disturbed, and the wiping effect is exerted on the edge portion of the steel strip. The edge overcoat phenomenon that decreases and increases the amount of plating attached to the edge portion of the steel strip occurs.
このため、ガスワイピングノズルの設置位置において、鋼帯の両エッジの外側に、サイドプレート、ダミープレート、バッフルプレート等と称されるプレート(以下、バッフルプレートと記す)を配置し、このようなガスの衝突を回避している(特許文献1、2、3等)。
For this reason, at the installation position of the gas wiping nozzle, a plate called a side plate, a dummy plate, a baffle plate, etc. (hereinafter referred to as a baffle plate) is arranged outside both edges of the steel strip, and such gas (
このようなバッフルプレートは、上記オーバーコート現象を抑制するために、鋼帯に極力近接することが必要であり、鋼帯から1mm程度の位置まで近接することが求められる。この場合に、被めっき鋼帯の幅は一定ではないため、バッフルプレートの設置位置は、鋼帯の幅に応じて調整が必要である。また、鋼帯の幅が同じであっても、搬送中の鋼帯は左右に移動するため、バッフルプレートが鋼帯に接触しないように位置調整が必要である。 Such a baffle plate needs to be as close as possible to the steel strip in order to suppress the overcoat phenomenon, and is required to be close to a position of about 1 mm from the steel strip. In this case, since the width of the steel strip to be plated is not constant, the installation position of the baffle plate needs to be adjusted according to the width of the steel strip. Moreover, even if the width of the steel strip is the same, the steel strip being transported moves to the left and right, so that position adjustment is necessary so that the baffle plate does not contact the steel strip.
このような点に対応して、上記特許文献1では、バッフルプレートにタッチロールを設け、これを鋼帯に接触させて、バッフルプレートと鋼帯との距離を一定に保つようにしている。しかしながら、このような接触式の場合、エッジにダメージを与える可能性や、鋼帯のエッジ部に付着した亜鉛がタッチロールに巻き込まれて欠陥となるおそれがある。このため、バッフルプレートを鋼帯に接触しないように位置調整する技術が必要となる。
In response to such a point, in
このように非接触で位置調整するためには、位置検出器を設けて鋼帯のエッジ位置を検出する技術が必要であり、そのような技術が特許文献4に開示されている。特許文献4では、鋼帯の両側に鋼帯の幅方向に直線移動することが可能なように位置検出器としてレーザー反射式光電型検出器が設けられており、これにより、鋼帯のエッジ部を検出している。 In order to adjust the position without contact in this way, a technique for providing a position detector to detect the edge position of the steel strip is required, and such a technique is disclosed in Patent Document 4. In Patent Document 4, laser reflective photoelectric detectors are provided as position detectors on both sides of the steel strip so that they can move linearly in the width direction of the steel strip. Is detected.
しかしながら、上記特許文献4の技術を、バッフルプレートの位置調整のための鋼帯の位置検出に用いる場合、位置検出器が光学式であるため、亜鉛フュームによる曇りが生じると、使用不能となる。また、このような光学式の位置検出器は、検出対象である鋼帯に近接して配置せざるを得ず、鋼帯に付着した高温の溶融亜鉛の熱影響による誤動作が懸念される。そして、このような問題は、鋼帯に対して溶融亜鉛めっきを施す場合に限らず、金属帯に溶融金属めっきを施す場合の全般に生ずるものである。 However, when the technique of Patent Document 4 is used for detecting the position of the steel strip for adjusting the position of the baffle plate, the position detector is an optical type. Moreover, such an optical position detector must be disposed close to the steel strip to be detected, and there is a concern about malfunction due to the thermal effect of high-temperature molten zinc adhering to the steel strip. Such a problem is not limited to the case where hot dip galvanizing is applied to a steel strip, but occurs in general when hot dip galvanizing is applied to a metal strip.
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、溶融金属からのフュームや熱等の影響を受けずに金属帯の位置を検出してバッフルプレートの位置調整を行うことができるバッフルプレートユニットおよびこのバッフルプレートユニットを用いたガスワイピング装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and a baffle plate capable of adjusting the position of a baffle plate by detecting the position of a metal strip without being affected by fume, heat, or the like from the molten metal. An object is to provide a unit and a gas wiping apparatus using the baffle plate unit.
上記課題を解決するため、本発明に係るバッフルプレートユニットは、溶融金属めっき槽から垂直方向に引き上げられた金属帯の両面にガスを吹き付けて過剰な溶融金属を除去するガスワイピング装置に用いられるバッフルプレートユニットであって、ガスワイピングノズルが設置された位置における前記金属帯の一対の幅方向端部の外側にそれぞれ設けられた一対のバッフルプレートと、前記一対のバッフルプレートの金属帯の幅方向端部に対する位置を調整する位置調整機構とを有し、前記位置調整機構は、前記金属帯の一対の幅方向端部の位置をそれぞれ検出する一対の電磁波センサーユニットと、前記一対のバッフルプレートをそれぞれ前記金属帯の幅方向に移動させる一対の移動機構と、前記電磁波センサーユニットの検出値に基づいて、前記一対の移動機構を、前記一対のバッフルプレートが前記金属帯の幅方向端部に近接した所定位置に位置されるように制御する制御部とを有し、前記各電磁波センサーユニットは、電磁波を放射し、前記金属帯の幅方向端部で反射した電磁波を受信するアンテナを有する検出部と、本体部とを有し、前記検出部は、前記金属帯の幅方向端部から所定長離隔した位置に固定的に設けられていることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a baffle plate unit according to the present invention is a baffle used in a gas wiping apparatus that removes excess molten metal by blowing gas onto both surfaces of a metal strip pulled up vertically from a molten metal plating tank. A plate unit, a pair of baffle plates provided outside the pair of widthwise ends of the metal strip at the position where the gas wiping nozzle is installed, and the widthwise ends of the metal strip of the pair of baffle plates A position adjusting mechanism that adjusts the position with respect to the portion, and the position adjusting mechanism includes a pair of electromagnetic wave sensor units that respectively detect the positions of the pair of widthwise ends of the metal strip, and the pair of baffle plates. Based on a pair of moving mechanisms that move in the width direction of the metal band and the detection value of the electromagnetic wave sensor unit. And a control unit that controls the pair of moving mechanisms so that the pair of baffle plates are positioned at a predetermined position close to an end in the width direction of the metal strip, and each of the electromagnetic wave sensor units includes: A detection unit having an antenna that radiates electromagnetic waves and receives electromagnetic waves reflected by the end portions in the width direction of the metal band; and a main body portion; and the detection unit has a predetermined length from the end portions in the width direction of the metal bands. It is characterized by being fixedly provided at a separated position.
また、本発明に係るガスワイピング装置は、溶融金属めっき槽から垂直方向に引き上げられた金属帯の両面にガスを吹き付けて過剰な溶融金属を除去するガスワイピング装置であって、前記金属帯の両面にガスを吹き付ける一対のガスワイピングノズルと、上記バッフルプレートユニットとを具備することを特徴とする。 The gas wiping device according to the present invention is a gas wiping device that removes excess molten metal by blowing a gas onto both surfaces of a metal strip pulled up vertically from a molten metal plating tank, the both surfaces of the metal strip A pair of gas wiping nozzles for blowing gas onto the baffle plate unit and the baffle plate unit.
本発明によれば、バッフルプレートの金属帯の幅方向端部に対する位置を調整する位置調整機構として、金属帯の一対の幅方向端部の位置をそれぞれ検出する一対の電磁波センサーユニットを有するものを用い、その検出部を金属帯の幅方向端部から所定長離隔した位置に固定的に設けたので、溶融金属からのフュームや熱等の影響を受けずに金属帯の位置を検出してバッフルプレートの位置調整を行うことができる。 According to the present invention, the position adjustment mechanism that adjusts the position of the baffle plate with respect to the end portion in the width direction of the metal band includes the pair of electromagnetic wave sensor units that respectively detect the positions of the pair of width direction end portions of the metal band. Since the detection part is fixedly provided at a position separated from the end of the metal band in the width direction by a predetermined length, the position of the metal band is detected without being affected by fume or heat from the molten metal. The position of the plate can be adjusted.
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
ここでは、鋼帯に溶融亜鉛めっきを施す場合を例にとって説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るバッフルプレートユニットを有するガスワイピング装置が搭載された溶融亜鉛めっき設備を示す概略構成図、図2はガスワイピング装置の構成を示す斜視図、図3はガスワイピング装置におけるガスワイピングノズルとバッフルプレートとの配置を説明するための模式図、図4は本発明の一実施形態に係るバッフルプレートユニットを示す正面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
Here, a case where hot dip galvanizing is applied to a steel strip will be described as an example.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a hot dip galvanizing equipment equipped with a gas wiping apparatus having a baffle plate unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the gas wiping apparatus, and FIG. The schematic diagram for demonstrating arrangement | positioning of the gas wiping nozzle and baffle plate in a gas wiping apparatus, FIG. 4 is a front view which shows the baffle plate unit which concerns on one Embodiment of this invention.
図1において、符号11は溶融亜鉛Lが貯留された亜鉛ポットであり、この亜鉛ポット11内の溶融亜鉛Lに鋼帯1が斜めに引き込まれ、亜鉛ポット11内に配置されたシンクロール12によって方向が転換された後、同様に亜鉛ポット11内に配置されたサポートロール13を経て亜鉛ポット11内の溶融亜鉛から垂直方向に引き上げられる。亜鉛ポット11に引き込まれる鋼帯1は、非酸化雰囲気に保たれた筒状のスナウト15の内部を通って亜鉛ポット11内へ導かれる。また、亜鉛ポット11の上方には、垂直方向に引き上げられた鋼帯1の過剰な溶融亜鉛を除去するためのガスワイピング装置20が設けられている。
In FIG. 1,
ガスワイピング装置20は、図2および図3に示すように、鋼帯1の表面および裏面にガスを吹き付けて鋼帯1に付着した過剰な溶融亜鉛を除去する一対のガスワイピングノズル21と、バッフルプレートユニット24とを備えている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
ガスワイピングノズル21は、鋼帯1の幅方向に沿って、鋼帯1の幅よりも長い長尺体として構成され、その先端にワイピングガスを鋼帯1に向けて吐出するスリット21aが形成されている。
The
バッフルプレートユニット24は、図4に示すように、ガスワイピングノズル21の設置位置において、鋼帯1の両エッジ部の外側に設けられた一対のバッフルプレート22と、バッフルプレート22の位置を調整する位置調整機構23とを有する。
As shown in FIG. 4, the
バッフルプレート22は、鋼帯1の両エッジ部の外側に鋼帯1と略同一平面を形成するように、鋼帯1に近接して設けられ、一対のガスワイピングノズル21のスリット21aから吐出されたワイピングガス同士が鋼帯1の外側で衝突することを防止している。これにより、鋼帯1のエッジ部分においてワイピング効果が減少して、鋼帯1のエッジ部分のめっき付着量が多くなるエッジオーバーコート現象が抑制される。
The
位置調整機構23は、一対のバッフルプレート22をそれぞれ移動させる一対の移動機構31と、鋼帯1の各エッジ(幅方向端部)位置を検出する一対の電磁波センサー(レーダーセンサー)ユニット32と、これら電磁波センサーユニット32の検出値に基づいて、上記一対の移動機構31を上記一対のバッフルプレート22が鋼帯1のエッジに近接した所定位置に位置されるように制御する制御部33とを有する。なお、図示はしていないが、位置調整機構23は、鋼帯1のパスラインに合わせて、各バッフルプレート22の鋼帯1の主面に垂直な方向の位置を調整する機構も有する。
The
各移動機構31は、バッフルプレート22を鋼帯1の幅方向に移動させる、例えばサーボモータ等からなるアクチュエータ35と、移動する鋼帯1をガイドするリニアガイド36とを有する。これらアクチュエータ35およびリニアガイド36は、ベースとなるフレーム部材40の下面側に固定されており、バッフルプレート22は、このフレーム部材40に対して移動されるようになっている。
Each
各電磁波センサーユニット32は、鋼帯1のエッジに向けて電磁波を放射し、反射した電磁波を受信して鋼帯のエッジ位置の検出を行う、レーダーの原理を用いたものである。具体的には、鋼帯1に向けてマイクロ波等の電磁波を放射し、鋼帯1のエッジで反射した電磁波を受信して、電磁波の放射時と、反射した電磁波の受信時との時間差に基づいて、鋼帯1のエッジ位置を検出する。本実施形態においては、電磁波センサーユニット32は、高精度の検出を行える相対的に高い周波数の第1の電磁波と安定した検出を行える相対的に低い周波数の第2の電磁波(搬送波)を放射可能となっている。これにより、通常は第1の電磁波を用いて高精度の位置検出を行い、第1の電磁波による測定が周辺ノイズの影響を受けた場合でも、第2の電磁波により補正して安定した位置検出を行うことができる。電磁波としてはマイクロ波を用いることが好ましく、好適な具体例としては、第1の電磁波の周波数として10GHz、第2の周波数として2.5GHzを用いることができる。
Each electromagnetic
各電磁波センサーユニット32は、所定周波数の信号を発生する信号発生部、信号を電力増幅して所定周波数の電磁波とするアンプ部、および受信した電磁波の信号処理を行う信号処理部を有する本体部37と、電磁波を鋼帯1のエッジに向けて放射し、鋼帯1のエッジで反射した電磁波を受信するアンテナを有する検出部38と、本体部37と検出部38とを繋ぐ電磁波ケーブル39とを有する。
Each electromagnetic
検出部38は、送受信部43と、第1の電磁波、例えば10GHzの電磁波用の第1の送受信アンテナ44と、第2の電磁波、例えば2.5GHzの電磁波用の第2の送受信アンテナ45とを有している。この検出部38は、上記フレーム部材40の上面に取り付けられたスタンド41によりフレーム部材40に固定されており、フレーム部材40の上面から適長離隔して設けられている。例えばフレーム部材40の上面からアンテナ中心部までの距離が800mmとなるように設けられている。一方、本体部37は熱の影響を避けるため、地上に配置されている。
The
検出部38の第1の送受信アンテナ44および第2の送受信アンテナ45は、鋼帯1のエッジから250〜1000mm程度離れた位置に固定的に設けることができる。そして、本体部37で発生させた所定周波数、例えば10GHzの電磁波を第1の送受信アンテナ44から放射し、鋼帯1のエッジで反射した電磁波を第1の送受信アンテナ44で受け取り、本体部37において、放射時と受信時との時間差から位置情報を演算し、その位置情報を制御部33に送る。同様に、第2の送受信アンテナ45から例えば2.5GHzの電磁波を放射し、鋼帯1のエッジで反射した電磁波を第2の送受信アンテナ45で受け取り、本体部37において、放射時と受信時との時間差から位置情報を演算し、その位置情報を制御部33に送る。
The first transmission /
電磁波ケーブル39の検出部38側の部分はフレーム部材40に固定されており、コネクタ46により本体部37側の部分と接離可能となっている。これにより、バッフルプレートユニット24の取り付け時や、メンテナンスの際の取り外し時に、フレーム部材40の着脱を容易に行うことができる。なお、高周波を伝送する電磁波ケーブルの中継が好ましくない場合には、本体部37に設けられている電磁波(高周波)を生成する部分を検出部38に設けるようにし、本体部37と検出部38とを通常のケーブルで繋いでそこにコネクタを設けるようにすることが好ましい。
A portion of the
制御部33は、電磁波センサーユニット32からの鋼帯1のエッジ位置の情報を受け取り、その信号に基づいてアクチュエータ35に制御信号を出力し、バッフルプレート22が鋼帯1のエッジに近接した所定の位置に位置するように制御する。電磁波センサーユニット32の精度確認およびキャリブレーションには、レール上にダミー鋼帯を取り付け、ダミー鋼帯を移動可能とした校正治具を用いる。具体的には、初期状態または鋼帯幅等の条件変更時に、一対の検出部38間に校正治具を設置し、アンテナから500mmの位置にダミー鋼帯のエッジがくるようにして、1点校正を行い、またセンサーユニット32により実際にダミー鋼帯のエッジを検出してセンサーの精度確認を行う。また、ダミー鋼帯により、各バッフルプレート22の鋼帯1の主面に垂直な方向の位置の調整も行う。
The
次に、本実施形態に係るガスワイピング装置の動作について説明する。
まず、亜鉛ポット11の上方の所定位置に、ガスワイピング装置20を設置する。具体的には、ガスワイピングノズル21を所定位置に設置した後、バッフルプレートユニット24を所定位置に設置する。
Next, the operation of the gas wiping apparatus according to this embodiment will be described.
First, the
その後、可動式のダミー鋼帯を有する校正治具を用い、各バッフルプレート22の鋼帯1の主面に垂直な方向の位置をパスラインに合わせて調整するとともに、電磁波センサーユニット32のセンサーの精度確認およびキャリブレーションを行う。
Thereafter, using a calibration jig having a movable dummy steel strip, the position of each
次に、鋼帯1の溶融亜鉛めっき処理を開始し、亜鉛ポット11から引き上げられた鋼帯1に対し、ガスワイピング装置20により、鋼帯1の過剰な溶融亜鉛の除去を行う。
Next, the hot dip galvanizing process of the
このとき、鋼帯1のエッジ部分のめっき付着量が多くなるエッジオーバーコート現象を解消するために、バッフルプレートユニット24の位置調整機構23により、バッフルプレート22が鋼帯1のエッジに近接するようにバッフルプレート22の位置を調整する。位置調整機構23は、鋼帯1の両側に設けられた電磁波センサーユニット32から鋼帯1のエッジに向けて電磁波を放射し、反射した電磁波を受信して鋼帯1のエッジ位置を非接触で検出する。
At this time, the
従来のバッフルプレートユニットは、鋼帯のエッジ位置の検出に光学的センサーを用いているが、光学的センサーは測定可能な距離が短いため、センサーをバッフルプレート直近に設けざるを得ず、亜鉛のフュームが投・受光部に付着して光量不足により、センサーが正常に動作しないトラブルが生じる。このため、メンテナンス・清掃を頻繁に行う必要がある。また、光学的センサーをバッフルプレートの直近に設けるためには、センサーをバッフルプレートと共に移動する可動式とせざるを得ず、メンテナンスの際に操業を停止する必要がある。また、光学的センサーは熱(高温)に弱く、バッフルプレートの近傍に設けた場合には、熱による誤検出や故障等が生じやすい。 The conventional baffle plate unit uses an optical sensor to detect the edge position of the steel strip. However, since the optical sensor has a short measurable distance, the sensor must be installed in the immediate vicinity of the baffle plate. There is a problem that the sensor does not operate normally due to the insufficient amount of light due to the fume adhering to the light emitting / receiving part. For this reason, it is necessary to perform maintenance and cleaning frequently. In order to provide the optical sensor in the immediate vicinity of the baffle plate, the sensor must be movable with the baffle plate, and the operation needs to be stopped during maintenance. Further, the optical sensor is vulnerable to heat (high temperature), and if it is provided in the vicinity of the baffle plate, erroneous detection or failure due to heat tends to occur.
これに対して、本実施形態のバッフルプレートユニット24において位置調整機構23に用いる電磁波センサーは、原理的に測定距離が長く、かつ高精度であるので、検出部38が検出対象である鋼帯から1000mm程度離れていても位置を高精度で検出することができる。このため、検出部38を鋼帯1のエッジや亜鉛ポット11から離れた位置に固定的に設けることができ、高温の鋼帯1からの熱影響や亜鉛フューム等の影響の少ない環境下で鋼帯1のエッジの位置検出を行うことができる。しかも、電磁波(マイクロ波)には、気体の温度、圧力、流速変化、粉塵等の影響をほとんど受けないという利点がある。このように、本実施形態において用いている電磁波センサーユニット32は、原理的に光学センサーに比べて熱やフューム等に強く、かつ設置環境を熱やフュームの影響が少ないものとすることができるので、高精度で鋼帯1の位置測定を行えるとともに、長寿命化を図ることができる。実際に、周波数が10GHzの電磁波(マイクロ波)を放射する電磁波センサーを用いてバッフルプレートの位置を制御した結果、バッフルプレート22と鋼帯1のエッジとの間の目標のギャップに対して±1.0mmを達成することができた。
On the other hand, the electromagnetic wave sensor used for the
また、電磁波センサーユニット32は、上述のように、温度や粉塵等の影響を受け難いため、基本的にはメンテナンスフリーである。たとえメンテナンスが必要な場合でも、検出部38を鋼帯1のエッジから離れた位置に固定的に設けているので、ラインを停止せずにメンテナンスを行うことができる。
The electromagnetic
また、電磁波センサーは高指向性を有するため、電磁波センサーユニット32の検出部38をフレーム部材40上の狭い場所で、かつ鋼帯1から離れた位置に配置しても、周辺機器に影響を与えずに安定した連続測定が可能となる。また、検出部38をスタンド41を用いたスタンション取付けとしたので、人がある程度近づいても測定への影響は極めて少ない。さらに、電磁波センサーは、幅が0.3mm程度の部位でも、電磁波を当てて位置検出が可能であり、また、エッジ1点での検出ではなく、また範囲で検出しているのでもないため、測定漏れ等がほとんど発生しない。
Further, since the electromagnetic wave sensor has high directivity, even if the
また、電磁波センサーユニット32の検出部38は、電子部品が少なく、強度も十分であるため、故障しにくく長寿命であり、省メンテナンス化を実現することができる。また、たとえメンテナンスが必要となった場合でも、上述したように、操業を止めずに容易にメンテナンスを行うことが可能である。
Moreover, since the
さらに、本実施形態のバッフルプレートユニット24は、ベース部材であるフレーム部材40に電磁波センサーユニット23の検出部38およびアクチュエータ35を取り付け、バッフルプレート22をフレーム部材40に取り付けられたリニアガイドに沿って移動するように構成された一体構造である。このため、バッフルプレートユニット24を取り付ける際およびメンテナンス等で取り外す際に一体的に行うことができ、取り付け取り外しが容易であり、メンテナンス性が高い。また、このとき、フレーム部材40に取り付けられている電磁波ケーブル39の検出部側の部分がコネクタ46により本体部37側の部分と接離可能となっているため、電磁波ケール部39の本体部37側の部分を切り離すことにより、フレーム部材40の取り付け取り外しを容易に行うことができる。
Further, in the
さらに、鋼帯1の位置検出に、高精度の検出を行える相対的に高い周波数、例えば10GHzの第1の電磁波と、安定した検出を行える相対的に低い周波数、例えば2.5GHzの第2の電磁波(搬送波)の2つの周波数の電磁波を用いることにより、周辺ノイズ(不要反射波)により第1の周波数による測定が影響を受けた場合でも、第2の電磁波により補正して安定した位置検出を行うことができる。
Further, the position detection of the
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、鋼帯に対して溶融亜鉛めっきを施す設備に本発明を適用した場合について示したが、これに限らず、金属帯に溶融金属めっきを施す場合の全般に適用可能である。また、上記実施形態では、検出部38がそれぞれ異なる周波数の電磁波を放射する2つのアンテナを有する例を示したが、一つのアンテナから単一の周波数の電磁波を放射するものであってもよい。
In addition, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible. For example, in the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to equipment for performing hot dip galvanizing on a steel strip has been described. However, the present invention is not limited thereto, and is applicable to all cases where hot metal plating is applied to a metal strip. is there. In the above embodiment, an example in which the
1;鋼帯
20;ガスワイピング装置
21;ガスワイピングノズル
22;バッフルプレート
23;位置調整機構
24;バッフルプレートユニット
31;移動機構
32;電磁波センサーユニット
33;制御部
35;アクチュエータ
36;リニアガイド
37;本体部
38;検出部
39;電磁波ケーブル(ケーブル)
40;フレーム部材(ベース部材)
41;スタンド
43;送受信部
44;第1の送受信アンテナ
45;第2の送受信アンテナ
46;コネクタ
DESCRIPTION OF
40; frame member (base member)
41; stand 43; transmission /
Claims (7)
前記ガスワイピングノズルが設置された位置における前記金属帯の一対の幅方向端部の外側にそれぞれ設けられた一対のバッフルプレートと、
前記一対のバッフルプレートの金属帯の幅方向端部に対する位置を調整する位置調整機構とを有し、
前記位置調整機構は、
前記金属帯の一対の幅方向端部の位置をそれぞれ検出する一対の電磁波センサーユニットと、
前記一対のバッフルプレートをそれぞれ前記金属帯の幅方向に移動させる一対の移動機構と、
前記電磁波センサーユニットの検出値に基づいて、前記一対の移動機構を、前記一対のバッフルプレートが前記金属帯の幅方向端部に近接した所定位置に位置されるように制御する制御部と
を有し、
前記各電磁波センサーユニットは、電磁波を放射し、前記金属帯の幅方向端部で反射した電磁波を受信するアンテナを有する検出部と、本体部とを有し、前記検出部は、前記金属帯の幅方向端部から所定長離隔した位置に固定的に設けられていることを特徴とするバッフルプレートユニット。 A baffle plate unit used in a gas wiping apparatus that removes excess molten metal by blowing gas onto both sides of a metal strip pulled up vertically from a molten metal plating tank,
A pair of baffle plates respectively provided outside the pair of widthwise ends of the metal strip at the position where the gas wiping nozzle is installed;
A position adjusting mechanism for adjusting the position of the pair of baffle plates with respect to the widthwise end of the metal strip,
The position adjustment mechanism is
A pair of electromagnetic wave sensor units that respectively detect the positions of the pair of widthwise ends of the metal band;
A pair of moving mechanisms for respectively moving the pair of baffle plates in the width direction of the metal strip;
A control unit configured to control the pair of moving mechanisms based on a detection value of the electromagnetic wave sensor unit so that the pair of baffle plates are positioned at a predetermined position close to an end in a width direction of the metal strip; And
Each of the electromagnetic wave sensor units includes a detection unit having an antenna that radiates an electromagnetic wave and receives an electromagnetic wave reflected at an end in a width direction of the metal band, and a main body unit, and the detection unit is formed of the metal band. A baffle plate unit characterized by being fixedly provided at a position separated by a predetermined length from an end in the width direction.
前記金属帯の両面にガスを吹き付ける一対のガスワイピングノズルと、
請求項1から請求項6のいずれかに記載のバッフルプレートユニットと
を具備することを特徴とするガスワイピング装置。
A gas wiping device that removes excess molten metal by blowing gas onto both sides of a metal strip pulled up vertically from a molten metal plating tank,
A pair of gas wiping nozzles for blowing gas on both sides of the metal strip;
A gas wiping apparatus comprising the baffle plate unit according to any one of claims 1 to 6.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010158601A JP5812581B2 (en) | 2010-07-13 | 2010-07-13 | Baffle plate unit and gas wiping device using the same |
PCT/JP2011/065772 WO2012008400A1 (en) | 2010-07-13 | 2011-07-11 | Baffle plate unit and gas wiping device using same |
EP11806730.5A EP2594658A1 (en) | 2010-07-13 | 2011-07-11 | Baffle plate unit and gas wiping device using same |
KR1020137003433A KR101490989B1 (en) | 2010-07-13 | 2011-07-11 | Baffle plate unit and gas wiping device using same |
CN2011800340968A CN102985580A (en) | 2010-07-13 | 2011-07-11 | Baffle plate unit and gas wiping device using same |
TW100124594A TWI425117B (en) | 2010-07-13 | 2011-07-12 | Baffle and the use of its air knife device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010158601A JP5812581B2 (en) | 2010-07-13 | 2010-07-13 | Baffle plate unit and gas wiping device using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012021183A true JP2012021183A (en) | 2012-02-02 |
JP5812581B2 JP5812581B2 (en) | 2015-11-17 |
Family
ID=45469399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010158601A Active JP5812581B2 (en) | 2010-07-13 | 2010-07-13 | Baffle plate unit and gas wiping device using the same |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2594658A1 (en) |
JP (1) | JP5812581B2 (en) |
KR (1) | KR101490989B1 (en) |
CN (1) | CN102985580A (en) |
TW (1) | TWI425117B (en) |
WO (1) | WO2012008400A1 (en) |
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KR102474918B1 (en) | 2022-10-07 | 2022-12-07 | 주식회사 삼우에코 | Air knife of baffle device |
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- 2011-07-11 CN CN2011800340968A patent/CN102985580A/en active Pending
- 2011-07-11 EP EP11806730.5A patent/EP2594658A1/en not_active Withdrawn
- 2011-07-11 KR KR1020137003433A patent/KR101490989B1/en active IP Right Grant
- 2011-07-11 WO PCT/JP2011/065772 patent/WO2012008400A1/en active Application Filing
- 2011-07-12 TW TW100124594A patent/TWI425117B/en active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2594658A1 (en) | 2013-05-22 |
KR101490989B1 (en) | 2015-02-06 |
WO2012008400A1 (en) | 2012-01-19 |
CN102985580A (en) | 2013-03-20 |
KR20130038364A (en) | 2013-04-17 |
TW201221691A (en) | 2012-06-01 |
TWI425117B (en) | 2014-02-01 |
JP5812581B2 (en) | 2015-11-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140513 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140619 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150327 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5812581 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |