JP2012013644A - マクロ検査方法および検査システム、上記マクロ検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得する一方、その製造品がその処理装置による処理を受ける以前に、その処理装置による処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像の中から、比較の基準となる比較基準マクロ画像を用意する(S101,S102)。検査対象マクロ画像と比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出する(S103)。類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断する(S104)。
【選択図】図1
Description
処理装置によって基板上に成膜する処理を含む製造プロセスによって製造される又は製造された製造品について、上記基板上に異常が生じたか否かを検査するマクロ検査方法であって、
或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得するとともに、上記製造品が上記処理装置による処理を受ける以前に、上記処理装置による処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像の中から、比較の基準となる比較基準マクロ画像を用意し、
上記検査対象マクロ画像と上記比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出し、
上記類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断することを特徴とする。
上記比較基準マクロ画像と上記検査対象マクロ画像とをそれぞれ複数の部分領域に分割し、
上記比較基準マクロ画像と上記検査対象マクロ画像との間で、互いに位置が対応する各部分領域毎に画像マッチングを行い、上記各部分領域毎の画像マッチング結果のうち最小値、平均値または最大値を上記類似度として求めることを特徴とする。
検出すべき処理ムラの一部あるいは全部を模式化した1つ以上の画像をテンプレート画像として準備し、上記テンプレート画像を用いて上記比較基準マクロ画像と上記検査対象マクロ画像とにそれぞれテンプレートマッチングを行い、
そのテンプレートマッチング結果の相関係数を上記類似度として求めることを特徴とする。
処理装置によって基板上に成膜する処理を含む製造プロセスによって製造される又は製造された製造品について、上記基板上に異常が生じたか否かを検査する検査システムであって、
或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得する検査対象マクロ画像取得部と、
上記検査対象マクロ画像のための比較の基準となる比較基準マクロ画像を記憶する比較基準マクロ画像記憶部と、
上記検査対象マクロ画像と上記比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出する類似度算出部と、
上記類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断する管理判定部とを備えたことを特徴とする。
2′ ウエハ
10 データベース
20 処理装置
30 撮像装置
40,40A 半導体検査装置
100 検査システム
Claims (10)
- 処理装置によって基板上に成膜する処理を含む製造プロセスによって製造される又は製造された製造品について、上記基板上に異常が生じたか否かを検査するマクロ検査方法であって、
或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得するとともに、上記製造品が上記処理装置による処理を受ける以前に、上記処理装置による処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像の中から、比較の基準となる比較基準マクロ画像を用意し、
上記検査対象マクロ画像と上記比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出し、
上記類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断することを特徴とするマクロ検査方法。 - 請求項1に記載のマクロ検査方法において、
上記比較基準マクロ画像として、上記処理装置についてのメンテナンスまたは処理条件変更があった直後に上記処理装置による処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像を用いることを特徴とするマクロ検査方法。 - 請求項1に記載のマクロ検査方法において、
上記比較基準マクロ画像として、上記検査対象マクロ画像が取得された上記製造品が上記処理装置による処理を受けた直前に上記処理装置によって処理を受けた同種の製造品を撮像して得られたマクロ画像を用いることを特徴とするマクロ検査方法。 - 請求項1から3までのいずれか一つに記載のマクロ検査方法において、
上記類似度を算出する方法は、
上記比較基準マクロ画像と上記検査対象マクロ画像とをそれぞれ複数の部分領域に分割し、
上記比較基準マクロ画像と上記検査対象マクロ画像との間で、互いに位置が対応する各部分領域毎に画像マッチングを行い、上記各部分領域毎の画像マッチング結果のうち最小値、平均値または最大値からなる統計量を上記類似度として求めることを特徴とするマクロ検査方法。 - 請求項1から3までのいずれか一つに記載のマクロ検査方法において、
上記類似度を算出する方法は、
検出すべき処理ムラの一部あるいは全部を模式化した1つ以上の画像をテンプレート画像として準備し、上記テンプレート画像を用いて上記比較基準マクロ画像と上記検査対象マクロ画像とにそれぞれテンプレートマッチングを行い、
そのテンプレートマッチング結果の相関係数を上記類似度として求めることを特徴とするマクロ検査方法。 - 請求項1から5までのいずれか一つに記載のマクロ検査方法において、
上記製造品毎に算出された上記類似度を、上記処理装置によって上記製造品が処理された処理日時順に並べてグラフ表示することを特徴とするマクロ検査方法。 - 処理装置によって基板上に成膜する処理を含む製造プロセスによって製造される又は製造された製造品について、上記基板上に異常が生じたか否かを検査する検査システムであって、
或る処理装置による処理を受けた後の製造品を撮像して検査対象マクロ画像を取得する検査対象マクロ画像取得部と、
上記検査対象マクロ画像のための比較の基準となる比較基準マクロ画像を記憶する比較基準マクロ画像記憶部と、
上記検査対象マクロ画像と上記比較基準マクロ画像との間で、互いに類似している程度を定量的に表す類似度を算出する類似度算出部と、
上記類似度が予め決められた管理範囲から外れたかどうかを判断する管理判定部とを備えたことを特徴とする検査システム。 - 請求項7に記載の検査システムにおいて、
上記類似度が上記管理範囲から外れたとき、警報を発する警報部を備えたことを特徴とする検査システム。 - 請求項1に記載のマクロ検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
- 請求項9に記載のプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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