JP2011524993A - 光学シート - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
弾性回復率=(D1−D2)/D1×100
式中、D1は外部圧力が加えられて圧入された深さを示し、D2は外部圧力が加えられていない状態の光学シートの高さと、外部圧力が除去されて回復したときの光学シートの高さとの差異を示す。
弾性回復率=(D1−D2)/D1×100
式中、D1は外部圧力が加えられて圧入された深さを示し、D2は外部圧力が加えられていない状態の光学シートの高さと外部圧力が除去されて回復したときの光学シートの高さとの差を示す。
合成例1
窒素で充填された還流反応器中で、トルエン500g、トリエチルアミン14mL、ビスフェノールAビスクロロホルメート(Aldrich社)39.3g(0.1mol)、およびポリエチレングリコールアクリレート(Aldrich社、数平均分子量:375)75.0g(0.2mol)を50℃で24時間反応させた。その後、生成された塩を遠心分離法によって分離し、減圧蒸留によって溶媒と未反応物質を除去することにより、化学式1(ここで、n=2、RはHであり、xは2であり、yは0であり、zは0であり、aは9であり、bは0であり、cは0であり、Yは、化学式2における、R2およびR8がそれぞれ−OCH2CH2−を示し、R5およびR11がそれぞれCH3を示し、残りのRがHを示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマーを製造した。
窒素で充填された還流反応器中で、トルエン200gにフェノール9.4g(Aldrich社)、エポキシブタン28.8g(Aldrich社)およびベンジルトリエチルアンモニウムクロライド0.05gを加えた後、90℃で24時間反応させた。その反応収得物にイソシアナトエチルメタクリレート15.51g(Aldrich社)を添加し、触媒としてジブチル錫ラウレート(Aldrich社)0.05gを投入した後、60℃で24時間反応し、未反応物質および溶媒を減圧蒸留によって除去することにより、化学式1(ここで、n=1、RはCH3であり、xは4であり、yおよびzはそれぞれ0であり、a=4、bおよびc=0、Yは、化学式3におけるR1が−OC=ONHCH2CH2−を示し、残りのRがHを示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマーを製造した。
窒素で充填された還流反応器中で、トルエン200gにポリプロピレングリコールモノアクリレート(BISOMER PPA6、LARPORTE社)92g(0.1mol)、塩化スズ0.04g(Aldrich社)およびエピクロロヒドリン10.17g(0.11モル)を添加して80℃で24時間攪拌した後、NaOH50%水溶液を用いて脱塩反応を行った。その後、分液漏斗を用いてNaCl塩を除去した後、減圧蒸留によって得られた収得物をさらにトルエン200gに47.9g(0.05モル)添加した。その後、ここに2−ビフェニルカルボン酸(Aldrich)10.1g(0.051モル)とベンジルトリエチルアンモニウムクロライド0.05gを入れ、90℃で24時間反応させた後、減圧蒸留によって未反応物質および溶媒を除去することにより、化学式1(ここで、n=1、RはHであり、xは3であり、y=0、z=0、bおよびcはそれぞれ0であり、aは5であり、Yは、化学式4におけるR2が−C(=O)OCH2CH(OH)CH2−を示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマーを製造した。
窒素で充填された還流反応器中で、トルエン500g、トリエチルアミン14mL、ビスフェノールフルオレン(大阪ガス、BPF)35.4g(0.1mol)およびポリエチレングリコールアクリレート(Aldrich社、数平均分子量:375)75.0g(0.2mol)を50℃で24時間反応させた後、生成された塩を遠心分離法によって分離し、減圧蒸留によって溶媒と未反応物質を除去することにより、化学式1(ここで、n=1、RはHであり、xは2であり、yは0であり、zは0であり、aは6であり、bは0であり、cは0であり、Yは、化学式5における、R3およびR16がそれぞれ−OCH2CH2−を示し、残りのRがHを示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマーを製造した。
窒素で充填された還流反応器中で、トルエン500g、トリエチルアミン14mL、ビスフェノールAビスクロロホルメート(Aldrich社)39.3g(0.1mol)およびポリエチレングリコールアクリレート(Aldrich社、数平均分子量:800)160.0g(0.2mol)を50℃で24時間反応させた。その後、生成された塩を遠心分離法によって分離し、減圧蒸留によって溶媒と未反応物質を除去することにより、化学式1(ここで、n=2、R=H、x=2、y=0、z=0、a=15、bおよびc=0、Yは、化学式2における、R2およびR8がそれぞれ−OCH2CH2−を示し、R5およびR11がそれぞれCH3を示し、残りのRがHを示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマーを製造した。
窒素で充填された還流反応器中で、トルエン200gにビスフェノールAグリリシジルエーテル34.0g(0.1mol)を投入した後、ポリエチレングリコールアクリレート(Aldrich社、数平均分子量:800)160.0g(0.2mol)とベンジルトリエチルアンモニウムクロライド0.05gを入れ、90℃で24時間反応させた後、減圧蒸留によって溶媒と未反応物質を除去することにより、化学式1(ここで、n=2、R=H、x=2、y=0、z=0、a=15、bおよびc=0、Yは、化学式2における、R2およびR8がそれぞれ−CH2−CH(OH)−CH2O−を示し、R5およびR11がCH3を示し、残りのRがHを示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマーを製造した。
化学式1(ここで、n=2、R=H、x=2、yおよびz=0、a=2、bおよびc=0、Yは、化学式2における、R2およびR7がそれぞれ−OCH2CH2−を示し、R11およびR5がそれぞれCH3を示し、残りのRがHを示す化合物である。)で表わされるアクリレートオリゴマー(Miwon商事、M240)を製造した。
実施例1
全体組成物100重量部に対して、合成例1で製造して得たアクリレート70重量部、フェノキシエチルメタクリレート(Sartomer、SR340)10重量部、フェノキシエチルアクリレート(Sartomer、SR339)15重量部、光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド1.5重量部、光開始剤としてのメチルベンゾイルホルメート1.5重量部、および添加剤としてのビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバシン酸塩2.0重量部を60℃で1時間混合することにより、組成物を製造した。その後、この組成物を基材層のポリエチレンテレフタレート(KOLON社、厚さ188μm)の一面に塗布し、35℃のプリズム形状ローラーのフレーム上に置き、D型バルブ付き紫外線照射装置(Fusion社、600Watt/inch2(約93Watt/cm2))を用いて基材層の方向から900mJ/cm2で照射してプリズム頂角90°、ピッチ50μmおよび高さ27μmの線形三角プリズムを形成させることにより、光学シートを製造した(D=215μm)。
実施例1の方法によって断面半円形、ピッチ50μmおよび高さ27μmのレンチキュラレンズを形成させることにより、光学シートを製造した。
実施例1の方法によって断面半円形、ピッチ50μmおよび高さ27μmの線形プリズムを形成させることにより、光学シートを製造した。
実施例1の方法によって断面五角形、ピッチ50μmおよび高さ27μmの線形プリズムを形成させることにより、光学シートを製造した。
実施例1の方法によって断面半円形、ピッチ50μmおよび高さ27μmの波形配列のプリズムを形成させることにより、光学シートを製造した。
合成例2で収得したアクリレートを使用した以外は、実施例1と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例3で収得したアクリレートを使用した以外は、実施例1と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例4で収得したアクリレートを使用した以外は、実施例1と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例5で収得したアクリレートを使用した以外は、実施例1と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例6で収得したアクリレートを使用した以外は、実施例1と同一の方法で光学シートを製造した。
光学シートとしてBEFIIIプリズムフィルム(3M社製)を使用した(D=215μm)。
光学シートとしてBrtie−200プリズムフィルム(DOOSAN社製、韓国)を使用した(D=215μm)。
光学シートとしてLES−T2プリズムフィルム(LG社製、韓国)を使用した(D=220μm)。
合成例7で製造されたアクリレート70重量部、フェノキシエチルメタクリレート(Sartomer、SR340)10重量部、フェノキシエチルアクリレート(Sartomer、SR339)15重量部、光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド1.5重量部、光開始剤としてのメチルベンゾイルホルメート1.5重量部、および添加剤としてのビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバシン酸塩2.0重量部を60℃で1時間混合することにより、組成物を製造した。
実施例および比較例で製造された光学シートに対し、微小圧縮硬度計(Shimadzu DUH−W201S)によって「Load−Unload test」項目を用いてD1および弾性回復率を測定した。直径50μmの平面圧子の中央部分に光学シートの構造層の山模様に尖った部分がくるように位置させた後、次の条件でD1および弾性回復率を5回繰り返し測定し、平均値を求めて下記表1に示した。
a.加えられる最大圧縮力:1gf(=9.807mN)
b.時間当たり加えられる圧縮力:0.2031mN/sec
c.最大圧縮力における保持時間:5sec
[測定条件2]
a.加えられる最大圧縮力:2gf(=19.614mN)
b.時間当たり加えられる圧縮力:0.2031mN/sec
c.最大圧縮力における保持時間:5sec
実施例および比較例の光学シートをBig Heartテスト装置(IMOTO社)による基本重量を用いて最小限の圧力を加えたとき、構造層のスクラッチ発生有無を測定した。その結果は下記表1のとおりである。損傷の度合いは肉眼で判断し、基準は次のとおりである。
耐スクラッチ性に劣る←×<△<○<◎→耐スクラッチ性に優れる。
全体組成物100重量部に対して、合成例1で製造して得たアクリレート69.5重量部、フェノキシエチルメタクリレート(Sartomer、SR340)10重量部、フェノキシエチルアクリレート(Sartomer、SR339)15重量部、光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド1.5重量部、光開始剤としてのメチルベンゾイルホルメート1.5重量部、添加剤としてのビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバシン酸塩2.0重量部、およびシリコンアクリレート0.5重量部を60℃で1時間混合することにより、組成物を製造した。その後、この組成物を基材層としてのポリエチレンテレフタレート(KOLON社、厚さ188μm)の一面に塗布し、35℃のプリズム形状ローラーのフレーム上に置き、D型バルブ付き紫外線照射装置(Fusion社、600Watt/inch2(約93Watt/cm2))を用いて基材層の方向から900mJ/cm2で照射してプリズム頂角90°、ピッチ50μmおよび高さ27μmの線形三角プリズムを形成させることにより、光学シートを製造した(D=215μm)。
実施例1から得られる光学シートの構造層上に、スプレー方式でシリコンアクリレートおよび光開始剤としてのジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−ホスフィンオキシドを含む硬化性組成物(シリコンアクリレート100重量部に対して光開始剤の含量1.5重量部)を塗布した。塗布された組成物に、D型バルブ付き紫外線照射装置(Fusion社、600Watt/inch2(約93Watt/cm2))を用いて構造層の方向から300mJ/cm2で照射し、構造層上に、スリップ性樹脂硬化層を含む光学シート(D=216μm)を製造した。
実施例1から得られる光学シートの基材層の他の一面に、スプレー方式でシリコンアクリレートおよび光開始剤としてのジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−ホスフィンオキシドを含む硬化性組成物(シリコンアクリレート100重量部に対して、光開始剤の含量1.5重量部)を塗布した。塗布された組成物に、D型バルブ付き紫外線照射装置(Fusion社、600Watt/inch2(約93Watt/cm2))を用いて基材層の方向から900mJ/cm2で照射し、構造層に対向する基材層の他の一面上に、スリップ性樹脂硬化層を含む光学シート(D=216μm)を製造した。
密着性に劣る(シート間密着の発生あり)×<△<○<◎密着性に優れる(シート間密着の発生なし)
Claims (17)
- 表面が構造化され、下記化学式1の化合物を含む硬化性樹脂組成物からなる樹脂硬化層を含み;
構造化された表面の上面を平面圧子を用いて0.2031mN/secの加圧速度で最大圧縮力が1gf(9.807mN)または2gf(19.614mN)となるまで加圧し、最大圧縮力に到達したとき、構造化された表面を5秒間最大圧縮力に保持した後、圧縮力を解除した場合、下記数式1で表わされる弾性回復率が80%以上である、光学シート。
数式1
弾性回復率=D1−D2/D1×100
(式中、D1は外部圧力が加えられて圧入された深さを示し、D2は外部圧力が加えられていない状態の光学シートの高さと、外部圧力が除去されて回復したときの光学シートの高さとの差を示す。) - ベンゼン環を少なくとも一つ含む化合物は、下記化学式2〜化学式5で表わされる化合物の中から選ばれることを特徴とする、請求項1に記載の光学シート。
- 弾性回復率が85%以上であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 硬化性樹脂組成物は紫外線硬化型単量体、光開始剤および添加剤を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 樹脂硬化層の表面は多数の立体構造が線形または非線形的に配列された形状を持つことを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 基材層を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 樹脂硬化層は、断面が多角形、半円形または半楕円形の多面体形状;または断面が多角形、半円形または半楕円形の柱状;または断面が多角形、半円形または半楕円形の曲線柱状よりなる群から選ばれた少なくとも一つのパターンが多数形成されて構造化されたものであることを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 樹脂硬化層は、スリップ性を有する元素を分子鎖に含有するスリップ性樹脂硬化層であることを特徴とする、請求項1に記載の光学シート。
- 樹脂硬化層上に形成され、スリップ性を有する元素を分子鎖に含有するスリップ性樹脂硬化層を含むことを特徴とする、請求項1に記載の光学シート。
- 基材層の他の一面に形成され、スリップ性を有する元素を分子鎖に含有するスリップ性樹脂硬化層を含むことを特徴とする、請求項9に記載の光学シート。
- スリップ性を有する元素はFまたはSiであることを特徴とする、請求項11〜13のいずれか1項に記載の光学シート。
- スリップ性樹脂硬化層は、FまたはSiを含む硬化性樹脂組成物から形成されることを特徴とする、請求項11〜13のいずれか1項に記載の光学シート。
- 硬化性樹脂組成物は、有機ケイ素系化合物およびフッ素系アクリレートよりなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含むことを特徴とする、請求項15に記載の光学シート。
- 請求項1の光学シートを少なくとも1層含む、バックライトユニットアセンブリー。
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