JP2011513905A - 投影レンズ構成体 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (30)
- 複数の小ビームを使用してターゲットを露光するための荷電粒子マルチ小ビームシステムであって、
中に形成された複数の孔を有する第1のプレートと、
各電子小ビームが対応する投影レンズ系を通過するように、各孔の位置に形成された複数の静電投影レンズ系と、を具備し、
前記複数の孔は、共通制御電圧を使用して、前記ターゲットの表面上に前記小ビームの集束を与えるように、十分に均一な配置及び寸法を有するシステム。 - 前記投影レンズ系及び共通集束電圧は、前記表面上に前記小ビームを集束させるための全ての集束手段を有する請求項1のシステム。
- 前記投影レンズ系は、それぞれの電子小ビームの焦点又は経路の補正のなく、前記表面上に前記電子小ビームを集束させるように、共通制御信号によって制御される請求項1又は2のシステム。
- 各電子小ビームは、所定の焦点距離で投影レンズ系によって集束され、
前記投影レンズ系が形成されているところでの前記複数の孔の配置及び寸法は、共通制御電圧を使用して、前記電子小ビームの集束が0.05%よりも一様によい焦点距離を達成することを可能にするのに十分な許容範囲内に制御される請求項1ないし3のいずれか1のシステム。 - 前記投影レンズ系は、公称ピッチだけ互いに離間されており、
各電子小ビームは、前記ターゲットの前記表面にスポットを形成するように、投影レンズ系によって集束され、
前記複数の孔の配置及び寸法は、前記公称ピッチの0.2%未満の前記表面の前記スポットの空間分布の変化を達成するのに十分な許容範囲内に制御される請求項1ないし4のいずれか1のシステム。 - 前記複数の孔は、ほぼ円形で、所定の公称直径を有し、
前記複数の孔の直径は、前記公称直径の±0.2%に対する許容範囲内にある請求項1ないし5のいずれか1のシステム。 - 前記複数の孔は、エッチング技術を使用して、少なくとも1つのプレートに形成されている請求項1ないし6のいずれか1のシステム。
- 前記電子小ビームの経路は、互いに交差しない請求項1ないし7のいずれか1のシステム。
- 前記電子小ビームの全ての経路の共通のクロスオーバがない請求項1ないし8のいずれか1のシステム。
- 前記小ビームは、
電子ビームを放射するための放射源と、
前記電子ビームをコリメートするためのコリメート系と、
前記ビームを複数の小ビームに分割するためのビーム分割器と、によって発生される請求項1ないし9のいずれか1のシステム。 - 前記電子小ビームの経路は、前記ビーム分割器と前記第1のプレートとの間で互いにほぼ平行である請求項10のシステム。
- 前記電子小ビームの経路は、前記ビーム分割器と前記ターゲットの表面との間で互いとほぼ平行である請求項10のシステム。
- 前記ビーム分割器は、中に形成された複数の孔を有するアパーチャプレートを含む請求項10ないし12のいずれか1のシステム。
- 前記第1のプレートに形成された前記複数の孔に対応して形成された複数の孔を有する第2のプレートをさらに具備し、
前記静電投影レンズ系は、前記第1及び第2のプレートの対応する孔の位置に形成されている請求項1ないし13のいずれか1のシステム。 - 偏向器のアレイを有する変調手段と、
前記偏向器によって偏向された小ビームを停止するための小ビーム停止アレイと、をさらに具備し、
各偏向器は、前記小ビームの経路から離れるように小ビームを偏向するように設けられている請求項1ないし14のいずれか1のシステム。 - 各偏向器は、それぞれアドレスされることができる請求項15のシステム。
- ターゲットを露光するための荷電粒子マルチ小ビームシステムであって、
複数の電子小ビームを発生させるための手段と、
中に形成された複数の孔を有する少なくとも1つのプレートと、
各電子小ビームが対応する投影レンズ系を通過するように、前記複数の孔の位置に形成された複数の静電投影レンズ系と、を具備し、
前記静電投影レンズ系は、それぞれの電子小ビームの焦点又は経路の補正のなく、前記表面上に前記電子小ビームを集束させるように、共通電気信号によって制御されるシステム。 - 各電子小ビームは、所定の焦点距離で投影レンズ系によって集束され、
前記投影レンズ系が形成されているところでの前記複数の孔の配置及び寸法は、共通制御電圧を使用して、前記電子小ビームの集束が0.05%よりも一様によい焦点距離を達成することを可能にするのに十分な許容範囲内に制御される請求項17のシステム。 - 前記投影レンズ系は、公称ピッチだけ互いに離間されており、
各電子小ビームは、前記ターゲットの前記表面にスポットを形成するように、投影レンズ系によって集束され、
前記複数の孔の配置及び寸法は、前記公称ピッチの0.2%未満の前記表面の前記スポットの空間分布の変化を達成するのに十分な許容範囲内に制御される請求項17又は18のシステム。 - 前記複数の孔は、ほぼ円形で、所定の公称直径を有し、
前記複数の孔の直径は、前記公称直径の±0.2%に対する許容範囲内にある請求項17ないし19のいずれか1のシステム。 - 前記複数の孔は、エッチング技術を使用して、少なくとも1つのプレートに形成されている請求項17ないし20のいずれか1のシステム。
- 前記電子小ビームの経路は、互いに交差しない請求項17ないし21のいずれか1のシステム。
- 前記電子小ビームの全ての経路の共通のクロスオーバがない請求項17ないし22のいずれか1のシステム。
- 前記小ビームは、
電子ビームを放射するための放射源と、
前記電子ビームをコリメートするためのコリメート系と、
前記ビームを複数の小ビームに分割するためのビーム分割器と、によって発生される請求項17ないし23のいずれか1のシステム。 - 前記電子小ビームの経路は、前記ビーム分割器と前記第1のプレートとの間で互いにほぼ平行である請求項24のシステム。
- 前記電子小ビームの経路は、前記ビーム分割器と前記ターゲットとの表面の間で互いとほぼ平行である請求項24のシステム。
- 前記ビーム分割器は、中に形成された複数の孔を有するアパーチャプレートを含む請求項24ないし26のいずれか1のシステム。
- 前記第1のプレートに形成された前記複数の孔に対応して形成された複数の孔を有する第2のプレートをさらに具備し、
前記静電投影レンズ系は、前記第1及び第2のプレートの対応する孔の位置に形成されている請求項17ないし27のいずれか1のシステム。 - 偏向器のアレイを有する変調手段と、
前記偏向器によって偏向された小ビームを停止するための小ビーム停止アレイと、をさらに具備し、
各偏向器は、前記小ビーム経路から離れるように小ビームを偏向するように設けられている請求項17ないし28のいずれか1のシステム。 - 各偏向器は、それぞれアドレスされることができる請求項29のシステム。
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