JP2011236203A - チタン錯体、酸化チタン粒子およびその製造方法 - Google Patents

チタン錯体、酸化チタン粒子およびその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】環境負荷の低減を図ることができ、かつ、酸化チタン粒子の着色の低減を図ることができる酸化チタン粒子の製造方法、その製造方法において用いることのできるチタン錯体、および、その製造方法により調製される酸化チタン粒子を提供すること。
【解決手段】チタン原子を中心原子として含有し、総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を配位子として含有するチタン錯体を、高温高圧の水中下において処理する。
【選択図】なし

Description

本発明は、チタン錯体、酸化チタン粒子およびその製造方法、詳しくは、酸化チタン粒子の製造方法、その製造方法に用いられるチタン錯体、および、その製造方法により調製される酸化チタン粒子に関する。
従来、各種産業製品に用いられる酸化チタン粒子は、有機溶媒中などにおいて調製されることが知られている。一方、近年の環境負荷低減の観点から、有機溶媒などと比較して、環境負荷の小さい水中において、酸化チタン粒子を調製する方法が種々検討されている。
このような酸化チタンの製造方法としては、例えば、グリコール酸を配位子として含有するチタン錯体を、高温高圧の水中下で処理することにより、酸化チタン粒子を調製する酸化チタン粒子の製造方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。
Ｋｏｊｉ Ｔｏｍｉｔａ ｅｔ ａｌ.、「Ａ Ｗａｔｅｒ−Ｓｏｌｕｂｌｅ Ｔｉｔａｎｉｕｍ Ｃｏｍｐｌｅｘ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｂｒｏｏｋｉｔｅ，Ｒｕｔｉｌｅ，ａｎｄ Ａｎａｔａｓｅ ｂｙ ａ Ｈｙｄｒｏｔｈｅｒｍａｌ Ｍｅｔｈｏｄ」、Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ Ｃｈｅｍｉｅ Ｉｎｔ．Ｅｄ．、２００６年、第４５巻、ｐ．２３７８−２３８１
しかるに、酸化チタン粒子は、通常白色であるが、非特許文献１に記載の酸化チタン粒子の製造方法により調製される酸化チタン粒子は、高温高圧の水中下においてチタン錯体の配位子が分解されるため、その配位子分解物（グリコール酸分解物）により、着色（茶色）している。
また、調製される酸化チタン粒子がナノサイズの場合には、チタン錯体の製造において残存した水溶性の配位子（グリコール酸）と酸化チタン粒子とを分離することが非常に困難である。
そのため、そのような酸化チタン粒子を光学用途などに用いる場合、酸化チタン粒子の着色（配位子分解物）や残存した配位子を除去する必要があり、酸化チタン粒子の製造作業が煩雑となる。
そこで、本発明は、環境負荷の低減を図ることができ、かつ、酸化チタン粒子の着色の低減を図ることができる酸化チタン粒子の製造方法、その製造方法において用いることのできるチタン錯体、および、その製造方法により調製される酸化チタン粒子を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明のチタン錯体は、チタン原子を中心原子として含有し、総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を配位子として含有することを特徴としている。
また、本発明では、前記ヒドロキシカルボン酸は、総炭素数７以上のヒドロキシアルカン酸であることが好適である。
また、本発明では、前記ヒドロキシアルカン酸は、直鎖状であることが好適である。
また、本発明では、前記ヒドロキシカルボン酸は、ヒドロキシモノカルボン酸であることが好適である。
また、本発明では、前記ヒドロキシカルボン酸は、モノヒドロキシカルボン酸であることが好適である。
また、本発明では、前記ヒドロキシカルボン酸の総炭素数が、１３以下であることが好適である。
また、本発明では、前記ヒドロキシカルボン酸が、２−ヒドロキシカルボン酸および／または３−ヒドロキシカルボン酸であることが好適である。
また、本発明の酸化チタン粒子は、上記のチタン錯体を、高温高圧の水中下において、処理することにより得られることを特徴としている。
また、本発明の酸化チタン粒子の製造方法では、上記のチタン錯体を、高温高圧の水中下において、処理することを特徴としている。
本発明のチタン錯体は、総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を配位子として含有している。そのため、高温高圧の水中下において酸化チタン粒子を調製しても、配位子の分解が抑制され、酸化チタン粒子の着色を低減することができる。
したがって、本発明によれば、環境負荷の低減を図ることができながら、酸化チタン粒子の着色の低減を図ることができる。
本発明のチタン錯体は、中心原子としてチタン原子を含有し、配位子として総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を含有している。
チタン原子は、原子番号２２の遷移元素であって、例えば、４価のチタン原子が挙げられる。
ヒドロキシカルボン酸は、カルボキシル基と水酸基とを含有する、総炭素数７以上の有機化合物であって、例えば、ヒドロキシアルカン酸、ヒドロキシアルケン酸、ヒドロキシアルキン酸などの飽和または不飽和の総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸が挙げられる。
また、このようなヒドロキシカルボン酸の総炭素数は、好ましくは、８以上、例えば、１６以下、好ましくは、１３以下である。
また、このようなヒドロキシカルボン酸が含有するカルボキシル基数は、例えば、１〜３、好ましくは、１、水酸基数が、例えば、１〜３、好ましくは、１である。
つまり、このようなヒドロキシカルボン酸のなかでは、好ましくは、ヒドロキシモノカルボン酸およびモノヒドロキシカルボン酸が挙げられ、さらに好ましくは、モノヒドロキシモノカルボン酸が挙げられる。
また、このようなヒドロキシカルボン酸のなかでは、好ましくは、飽和のヒドロキシアルカン酸が挙げられ、具体的には、例えば、ヒドロキシヘプタン酸、ヒドロキシオクタン酸、ヒドロキシノナン酸、ヒドロキシデカン酸、ヒドロキシウンデカン酸、ヒドロキシドデカン酸、ヒドロキシトリデカン酸、ヒドロキシテトラデカン酸、ヒドロキシペンタデカン酸、ヒドロキシヘキサデカン酸などの炭素数７〜１６の直鎖状のヒドロキシアルカン酸、例えば、ヒドロキシ３−エチルヘキサン酸、ヒドロキシ４−エチルヘプタン酸、ヒドロキシ３−エチルオクタン酸などの炭素数７〜１６の分岐状のヒドロキシアルカン酸などが挙げられる。このようなヒドロキシアルカン酸のなかでは、好ましくは、直鎖状のヒドロキシアルカン酸が挙げられる。
すなわち、このようなヒドロキシカルボン酸のなかで、とりわけ好ましくは、２−ヒドロキシアルカン酸（α−ヒドロキシアルカン酸）、３−ヒドロキシアルカン酸（β−ヒドロキシアルカン酸）などの総炭素数７〜１３のモノヒドロキシモノアルカン酸が挙げられ、具体的には、２−ヒドロキシオクタン酸、３−ヒドロキシデカン酸が挙げられる。
このような総炭素数７〜１３のモノヒドロキシモノアルカン酸は、チタン錯体を構成する配位子として活用でき、さらに、このようなモノヒドロキシモノアルカン酸を配位子として含有するチタン錯体は、総炭素数６以下のヒドロキシカルボン酸を配位子として含有するチタン錯体よりも、耐熱性の向上（１８０℃以上）を図ることができる。
このようなチタン錯体は、チタン原子に、総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を、反応させることにより調製される。
このようなチタン錯体を調製するには、まず、チタン原子を含有する物質を、過酸化水素水とアルカリ性水溶液との混合溶液に溶解して、不安定なペルオキソチタン錯体水溶液を調製する。
チタン原子を含有する物質としては、特に制限されず、例えば、チタン粒子、チタン粉末などが挙げられる。
このようなチタン粒子およびチタン粉末の大きさ（平均粒子径）は、特に限定されない。
このようなチタン粒子は、例えば、市販品（和光純薬工業社製）を用いることもできる。
過酸化水素水は、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）が水に溶解した溶液であって、その濃度は、例えば、１０〜５０体積％、好ましくは、２０〜４０体積％である。
アルカリ性水溶液としては、例えば、アンモニア（ＮＨ３）を水に溶解したアンモニア水、例えば、アミン類などの塩基性有機化合物を水に溶解した有機塩基水溶液、例えば、炭酸水素ナトリウムなどの塩基性無機化合物を水に溶解した無機塩基水溶液などが挙げられる。
このようなアルカリ性水溶液は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
また、このようなアルカリ性水溶液のなかでは、好ましくは、アンモニア水が挙げられる。このようなアンモニア水の濃度は、例えば、１〜４５質量％、好ましくは、５〜４０質量％、さらに好ましくは、１０〜３５質量％である。
そして、過酸化水素水とアルカリ性水溶液との混合溶液は、その配合割合（過酸化水素水：アルカリ性水溶液）が、例えば、３：７〜９：１、好ましくは、５：５〜９：１、さらに好ましくは、６：４〜９：１である。
このような混合溶液のｐＨは、例えば、６以上、好ましくは、７〜１４、さらに好ましくは、９〜１４である。
チタン原子を含有する物質を、このような混合溶液に溶解するには、例えば、混合溶液にチタン原子を含有する物質を加えて、所定時間攪拌する。
チタン原子を含有する物質の添加割合は、過酸化水素水１００ｍｌに対して、例えば、０．５〜５ｇ、好ましくは、１〜３ｇ、混合溶液１００ｍｌに対して、例えば、０．５〜５ｇ、好ましくは、１〜２ｇである。
攪拌条件としては、温度が、例えば、−１５〜８０℃、好ましくは、−１０〜５０℃、さらに好ましくは、−５〜２５℃、時間が、例えば、０．１〜２４時間、好ましくは、１〜１０時間、さらに好ましくは、１〜５時間である。
以上によって、チタン原子を含有する物質が、混合溶液に溶解され、ペルオキソチタン錯体水溶液が調製される。
詳しくは、ペルオキソチタン錯体水溶液は、チタン原子と過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）とが反応して形成されるペロオキソチタン錯体を含有する。
次いで、ペルオキソチタン錯体水溶液に、上記した総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を混合し、チタン錯体含有溶液を調製する。
上記したヒドロキシカルボン酸をペルオキソチタン錯体水溶液に混合するには、例えば、上記したヒドロキシカルボン酸を溶媒に溶解し、ヒドロキシカルボン酸溶液を調製して、ヒドロキシカルボン酸溶液とペルオキソチタン錯体水溶液とを混合し攪拌する。そして、攪拌後、必要により、例えば、１０〜４０時間静置する。
溶媒は、ヒドロキシカルボン酸を溶解できれば、特に制限されず、例えば、水、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール類、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。
このような溶媒は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
このような溶媒のなかでは、好ましくは、アルコール類が挙げられる。
ヒドロキシカルボン酸溶液の濃度は、例えば、０．１〜８０質量％、好ましくは、１〜５０質量％、さらに好ましくは、５〜３０質量％である。
ヒドロキシカルボン酸溶液の混合割合は、ペルオキソチタン錯体水溶液１００ｍｌに対して、例えば、１０〜１００ｍｌ、好ましくは、２０〜８０ｍｌ、さらに好ましくは、３０〜６０ｍｌである。
ヒドロキシカルボン酸の混合割合は、チタン原子を含有する物質１ｍｏｌに対して、例えば、１〜６ｍｏｌ、好ましくは、１〜５ｍｏｌ、さらに好ましくは、１〜４ｍｏｌである。
ヒドロキシカルボン酸の混合割合が、チタン原子を含有する物質１ｍｏｌに対して、１ｍｏｌ未満であると、配位子が不足することでチタン錯体を形成できずに、配位子（ヒドロキシカルボン酸）と、錯体を形成しないチタン原子とを含む副生成物が残留する場合があり、その副生成物を含むチタン錯体からは、所望する酸化チタン粒子を得られない場合がある。また、ヒドロキシカルボン酸の混合割合が、チタン原子を含有する物質１ｍｏｌに対して、６ｍｏｌを超過すると、過剰のヒドロキシカルボン酸が、多くなり、無駄になるのでコストの面から不適となる場合がある。また、この場合、酸化チタン粒子の製造工程において残存した過剰のヒドロキシカルボン酸を除去する必要があり、製造作業が煩雑となる。一方、ヒドロキシカルボン酸の混合割合が、上記範囲内であると、酸化チタン粒子の製造効率の向上を図ることができる。
攪拌条件としては、温度が、例えば、０〜８０℃、好ましくは、５〜７０℃、さらに好ましくは、１０〜６０℃、時間が、例えば、０．１〜２４時間、好ましくは、０．５〜１０時間、さらに好ましくは、１〜５時間である。そして、攪拌後、必要により、例えば、１０〜４０時間静置する。
このように、ヒドロキシカルボン酸とペルオキソチタン錯体水溶液とが混合し攪拌されることにより、ヒドロキシカルボン酸と、ペルオキソチタン錯体水溶液に含有されるペロオキソチタン錯体とが反応して、チタン錯体が形成される。よって、チタン錯体を含有するチタン錯体含有溶液が調製される。
次いで、得られたチタン錯体含有溶液を、乾燥してチタン錯体を調製する。
乾燥方法としては、特に限定されないが、公知の真空乾燥、スプレードライ、フリーズドライなどの方法が挙げられる。例えば、乾燥機などにより温度を上昇し、溶媒を乾燥させて、チタン錯体を調製する。
乾燥条件としては、溶媒を除去することができれば、特に制限されないが、温度が、例えば、５０〜１００℃、好ましくは、６０〜９０℃、時間が、０．１〜４８時間、好ましくは、０．５〜２４時間、さらに好ましくは、１〜１０時間である。
以上によって、チタン錯体が調製される。
このようなチタン錯体の配位数は、チタン原子１つに対して、例えば、１〜６、好ましくは、２〜４である。なお、配位数は、例えば、マトリックス支援レーザー脱離イオン化法（ＭＡＬＤＩ）−飛行時間型（ＴＯＦ）質量分析器（ＭＳ）などの質量分析器などにより分析することができる。
また、チタン錯体の収率は、使用したチタン原子を含有する物質に対して、例えば、６０〜１００ｍｏｌ％、好ましくは、８０〜１００ｍｏｌ％である。
このように調製されたチタン錯体の用途は特に限定されないが、例えば、熱分解により、酸化チタン粒子が製造される。具体的には、例えば、水中において高温高圧処理すること（水熱合成）により、酸化チタン粒子が製造される。
酸化チタン粒子を製造するには、まず、チタン錯体と水とを反応器に仕込む。
チタン錯体の仕込割合は、水１００質量部に対して、例えば、５〜４０質量部、好ましくは、１０〜３０質量部である。
反応器としては、公知の高圧反応器（オートクレーブ）、連続式高圧反応器が挙げられる。
このような高圧反応器（オートクレーブ）としては、例えば、市販品（ＡＫＩＣＯ社製）を用いることができる。また、このような連続式高圧反応器としては、例えば、市販品（ＩＴＥＣ社製）を用いることができる。
そして、反応器内を高温高圧条件とすることにより、酸化チタン粒子が製造される（水熱合成）。
水熱合成における反応条件は、具体的には、加熱温度が、例えば、１００〜６００℃、好ましくは、２００〜５００℃である。また、圧力が、例えば、０．２〜５０ＭＰａ、好ましくは、１〜５０ＭＰａ、さらに好ましくは、５〜５０ＭＰａである。また、反応時間が、例えば、１〜２００分間、好ましくは、３〜１５０分間である。連続式反応器を用いた場合には、例えば、１分以下である。
上記の水熱合成において、得られる反応物は、主に水中に沈殿する沈殿物と、密閉容器の内壁に付着する付着物とを含んでいる。
沈殿物の分離回収方法は、特に限定されず、公知の分液ロートを用いた方法、フィルターを用いたろ過、遠心分離などを用いた方法などが挙げられる。このような方法によって、分離回収することが可能である。例えば、反応物を、重力または遠心力場によって、沈降させる沈降分離によって得る。好ましくは、遠心力場によって沈降させる遠心沈降（遠心分離）によって、反応物の沈殿物として得られる。
また、付着物は、例えば、へら（スパ−テル）などによって、回収する。
なお、反応物は、溶媒を加えて未反応のヒドロキシカルボン酸を洗浄し（つまり、ヒドロキシカルボン酸を溶媒に溶解させ）、その後、溶媒を除去して、回収（分離）することもできる。
溶媒としては、例えば、上記した溶媒が挙げられる。
このような溶媒は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
このような溶媒のなかでは、好ましくは、アルコール類が挙げられる。
洗浄後における反応物は、例えば、濾過、デカンテーションなどによって、溶媒（上澄み液）から分離され回収される。その後、必要に応じて、反応物を、例えば、加熱または気流などにより乾燥する。
以上により、チタン錯体から酸化チタン粒子が調製される。
このような酸化チタン粒子は、その結晶構造が、例えば、アナターゼ型（正方晶）、ルチル型（正方晶）、ブルサイト型（斜方晶）である。結晶構造は、ＸＲＤ（Ｘ線回折）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による電子線回折により決定できる。
このような結晶構造は、特に限定されず、配位子の種類や酸化チタンの合成条件を変更することにより、適宜選択することが可能である。例えば、高屈折率の光学材料として用いる場合、好ましくは、ルチル型であり、また光触媒機能を発現する触媒材料として用いる場合、好ましくは、アナターゼ型である。
このような本発明の酸化チタン粒子は、上記したように、総炭素数７以上のヒドロキシルカルボン酸を配位子として含有するチタン錯体を、高温高圧の水中下において処理することにより調製される。
このとき、チタン錯体の配位子が総炭素数７以上のヒドロキシルカルボン酸であるため、高温高圧の水中下においても、配位子の分解が抑制されるので、調製される酸化チタン粒子の着色を低減することができる。
したがって、本発明によれば、環境負荷の低減を図ることができながら、酸化チタン粒子の着色の低減を図ることができる。
本発明の酸化チタン粒子の用途としては、例えば、各種産業製品が挙げられ、好ましくは、着色が低減されていることから、光学用途などが挙げられる。
以下に実施例、比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、それらに限定されない。
なお、チタン錯体の評価方法を以下に記載する。
＜評価方法＞
（１）ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ ＭＳ測定
（測定装置）
・ＢＲＵＫＥＲ ＤＡＬＴＯＮＩＣＳ社製 ａｕｔｏｆｌｅｘ
（測定条件）
・レーザー光源：Ｎ２レーザー（波長：３３７ｎｍ）
・測定モード：リフレクターモード、ネガティブイオンモード
・測定質量範囲（ｍ／ｚ）：２０〜３０００
・積算回数：１５００回
・マトリックス：Ｍｅｓｏ−ｔｅｔｒａｋｉｓ−（ｐｅｎｔａｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）−ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ
＜チタン錯体の調製＞
実施例１
（配位子が２−ヒドロキシオクタン酸であるチタン錯体の調製）
５００ｍＬのビーカーに、３０体積％過酸化水素水１００ｍＬ（和光純薬工業社製）と、２５質量％アンモニア水（和光純薬工業社製）２５ｍＬとを氷冷下で混合した。そして、それらにチタン粒子（和光純薬工業社製）１．５ｇを加え、完全に溶解するまで氷冷下で３時間攪拌した。次に、エタノール５０ｍＬに溶解させた２−ヒドロキシオクタン酸１５．５ｇ（チタン粒子：２−ヒドロキシオクタン酸＝１：１．５（モル比））を加え攪拌した。全ての成分が溶解した後、攪拌を止め一昼夜静置した。その後、乾燥機において７５℃で３時間乾燥させることにより、水溶性のチタン錯体を得た。
得られた水溶性のチタン錯体について、ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ ＭＳ測定を、実施した。その結果、得られたチタン錯体が、下記化学式（１）および下記化学式（２）に示す２種類のチタン錯体混合物であることを同定した。
一般式（１）：
Figure 2011236203
一般式（２）：
Figure 2011236203
実施例２
（配位子が３−ヒドロキシデカン酸であるチタン錯体の調製）
２−ヒドロキシオクタン酸１５．５ｇに代えて、３−ヒドロキシデカン酸１８．２ｇ（チタン粒子：３−ヒドロキシデカン酸＝１：１．５（モル比））を加えた以外は、実施例１と同様に処理して、水溶性のチタン錯体を得た。
比較例１
（配位子がリンゴ酸であるチタン錯体の調製）
２−ヒドロキシオクタン酸１５．５ｇに代えて、リンゴ酸１３．０ｇ（チタン粒子：リンゴ酸＝１：１．５（モル比））を加えた以外は、実施例１と同様に処理して、水溶性のチタン錯体を得た。
比較例２
（配位子がグリコール酸であるチタン錯体の調製）
２−ヒドロキシオクタン酸１５．５ｇに代えて、グリコール酸７．２ｇ（チタン粒子：グリコール酸＝１：１．５（モル比））を加えた以外は、実施例１と同様に処理して、水溶性のチタン錯体を得た。
＜酸化チタン粒子の調製＞
実施例３
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、実施例１で調製したチタン錯体０．５ｇと水２．３ｇとを仕込んだ。次いで、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて、チタン錯体と水とを、４００℃、４０ＭＰａ下において１０分間処理した。その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで２０分間遠心分離して、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した（洗浄工程）。この洗浄操作を５回繰り返した。
その後、沈殿物中のエタノールを８０℃で加熱乾燥して、淡黄白色のルチル型の酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）を得た。
実施例４
実施例１で調製したチタン錯体に代えて、実施例２で調製したチタン錯体を用いた以外は、実施例３と同様にして、淡黄白色のルチル型の酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）を得た。
比較例３
実施例１で調製したチタン錯体に代えて、比較例１で調製したチタン錯体を用いた以外は、実施例３と同様にして、茶色の酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）を得た。
比較例４
実施例１で調製したチタン錯体に代えて、実施例４で調製したチタン錯体を用いた以外は、実施例３と同様にして、茶色の酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）を得た。
比較例５
実施例１で調製したチタン錯体に代えて、チタンぺロキソクエン酸アンモニウム四水和物（商品名：ＴＡＳ−ＦＩＮＥ、フルウチ化学株式会社）を用いた以外は、実施例３と同様にして、茶色の酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）を得た。

Claims (9)

  1. チタン原子を中心原子として含有し、
    総炭素数７以上のヒドロキシカルボン酸を配位子として含有することを特徴とする、チタン錯体。
  2. 前記ヒドロキシカルボン酸は、総炭素数７以上のヒドロキシアルカン酸であることを特徴とする、請求項１に記載のチタン錯体。
  3. 前記ヒドロキシアルカン酸は、直鎖状であることを特徴とする、請求項２に記載のチタン錯体。
  4. 前記ヒドロキシカルボン酸は、ヒドロキシモノカルボン酸であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のチタン錯体。
  5. 前記ヒドロキシカルボン酸は、モノヒドロキシカルボン酸であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のチタン錯体。
  6. 前記ヒドロキシカルボン酸の総炭素数が、１３以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のチタン錯体。
  7. 前記ヒドロキシカルボン酸が、２−ヒドロキシカルボン酸および／または３−ヒドロキシカルボン酸であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のチタン錯体。
  8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載のチタン錯体を、高温高圧の水中下において、処理することにより得られることを特徴とする、酸化チタン粒子。
  9. 請求項１〜７のいずれか一項に記載のチタン錯体を、高温高圧の水中下において、有処理することを特徴とする、酸化チタン粒子の製造方法。
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US15/097,400 US20160222194A1 (en) 2010-04-12 2016-04-13 Particles, particle dispersion, particle-dispersed resin composition, producing method therefor, resin molded article, producing method therefor, catalyst particles, catalyst solution, catalyst composition, catalyst molded article, titanium complex, titanium oxide particles and producing method therefor
US15/466,279 US10265693B2 (en) 2010-04-12 2017-03-22 Particles, particle dispersion, particle-dispersed resin composition, producing method therefor, resin molded article, producing method therefor, catalyst particles, catalyst solution, catalyst composition, catalyst molded article, titanium complex, titanium oxide particles and producing method therefor

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015131775A (ja) * 2014-01-10 2015-07-23 日立金属株式会社 高融点金属の非フッ酸系水溶液およびその製造方法

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2476724A1 (en) * 2011-01-17 2012-07-18 ETH Zurich Pourous polymer membranes
SG11201405484UA (en) * 2012-03-12 2014-10-30 Nanotheta Co Ltd Ultra-thin polymer film, and porous ultra-thin polymer film
US20160054485A1 (en) * 2013-04-10 2016-02-25 Nitto Denko Corporation Light-diffusing element and method for manufacturing light-diffusing element
US20160122550A1 (en) * 2013-05-30 2016-05-05 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Hydrophobic inorganic particles, resin composition for heat dissipation member, electronic component device and hydrophobic inorganic particle manufacturing method
CN103383996B (zh) * 2013-06-27 2015-07-22 江苏华东锂电技术研究院有限公司 聚酰亚胺微孔隔膜的制备方法
WO2015146143A1 (ja) * 2014-03-25 2015-10-01 日本板硝子株式会社 光拡散透過シート
CN104558687B (zh) * 2014-12-30 2017-12-12 江苏锡沂高新区科技发展有限公司 一种石头纸专用球形碳酸钙及其制备方法
CN104659066B (zh) * 2015-02-05 2018-02-13 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制作方法和显示装置
JP6441148B2 (ja) * 2015-03-31 2018-12-19 東京応化工業株式会社 多孔質ポリアミドイミド膜形成用ワニス、多孔質ポリアミドイミド膜並びにそれを用いたセパレータ及び二次電池
JP6919564B2 (ja) * 2015-06-12 2021-08-18 宇部興産株式会社 ポリイミド前駆体組成物、及びポリイミド組成物
JP6939768B2 (ja) * 2016-03-03 2021-09-22 大日本印刷株式会社 ポリイミドフィルム、ポリイミドフィルムの製造方法、及びポリイミド前駆体樹脂組成物
WO2017221837A1 (ja) * 2016-06-24 2017-12-28 住友化学株式会社 化合物、分散液組成物及び樹脂組成物
US10404340B2 (en) * 2016-10-11 2019-09-03 Qualcomm Incorporated Dynamic adjustment of transmission properties with continuous precoding
CN106750477B (zh) * 2016-11-18 2019-08-13 浙江理工大学 一种利用水热法制备聚酰亚胺-二氧化钛复合纳米膜的方法
TW201936508A (zh) * 2018-02-26 2019-09-16 日商丸善石油化學股份有限公司 表面修飾粒子及其製造方法
WO2020045151A1 (ja) 2018-08-28 2020-03-05 サカタインクス株式会社 プラズマ硬化用インキ組成物、及び、プラズマ硬化用インキ組成物のための添加剤
CN111069588B (zh) * 2018-10-22 2022-09-13 吉林大学 铝纳米粒子及其制备方法
GB2583893B (en) * 2019-03-29 2022-11-09 Salts Healthcare Ltd Polymeric films
CN110931804B (zh) * 2020-01-08 2020-12-08 济南大学 Pt-Ni-Cu三元合金担载CeO2复合材料制备及其甲酸催化性能研究
US11926716B2 (en) 2020-02-10 2024-03-12 Synmatter Llc Multifunctional smart particles
JP2022020286A (ja) * 2020-07-20 2022-02-01 株式会社ディスコ 保護部材形成装置で用いるシート、及び保護部材形成方法
CN111905770B (zh) * 2020-08-05 2022-04-19 合肥工业大学 一种SrTiO3/SrSO4/Pt双异质结纳米材料的制备方法
CN113105155B (zh) * 2021-04-25 2023-08-29 江西省交通设计研究院有限责任公司 一种耐压型公路混凝土路面防水材料及其制备方法
JP7147109B1 (ja) * 2022-04-21 2022-10-05 株式会社スーパーナノデザイン 有機修飾無機微粒子の製造方法及び有機修飾無機微粒子
CN115521644B (zh) * 2022-10-14 2023-06-23 潮州市索力德机电设备有限公司 一种可降解氮氧化合物涂层及其制备方法和应用

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6440490A (en) * 1987-07-25 1989-02-10 Tioxide Group Plc Titanium chelate and manufacture
JP2000351787A (ja) * 1999-06-07 2000-12-19 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 水溶性チタン錯体水溶液の保存法
JP2002331244A (ja) * 2001-03-07 2002-11-19 Daicel Chem Ind Ltd 担持型二酸化チタン触媒及び該触媒を用いた芳香族化合物の酸化方法
JP2003513011A (ja) * 1999-07-16 2003-04-08 サノフィ−サンテラボ チタン誘導化合物、その製造法およびその使用
JP2003292497A (ja) * 2002-04-01 2003-10-15 Daiso Co Ltd チタン塩、その製造法、およびこれを用いるエポキシドの製造法
JP2004018477A (ja) * 2002-06-18 2004-01-22 Idemitsu Kosan Co Ltd 水溶性チタン化合物及びその製造方法
JP2006506416A (ja) * 2002-11-13 2006-02-23 ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニー 触媒とプロセス

Family Cites Families (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4192792A (en) * 1978-07-20 1980-03-11 Kenrich Petrochemicals, Inc. Atactic polypropylene
JPS63278944A (ja) * 1987-05-11 1988-11-16 Mitsubishi Rayon Co Ltd 多孔質膜
JP2899903B2 (ja) * 1989-01-12 1999-06-02 旭化成工業株式会社 ポリフツ化ビニリデン多孔膜及びその製造方法
US5022990A (en) 1989-01-12 1991-06-11 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polyvinylidene fluoride porous membrane and a method for producing the same
JPH0531341A (ja) * 1991-07-26 1993-02-09 Nippon Steel Corp ポリイミドガス分離膜
JPH07232044A (ja) * 1993-01-28 1995-09-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 多孔質膜及びその製造方法
TW336899B (en) 1994-01-26 1998-07-21 Mitsubishi Rayon Co Microporous membrane made of non-crystalline polymers and method of producing the same
JPH0952438A (ja) * 1995-08-11 1997-02-25 Fujicopian Co Ltd 感圧転写性磁気記録媒体
JPH0967405A (ja) * 1995-08-31 1997-03-11 Olympus Optical Co Ltd 多孔性高分子ゲル材料の製造方法、及び多孔性高分子ゲル材料製造用の配合組成物
JP4528370B2 (ja) * 1995-10-26 2010-08-18 ゾルファイ バリウム ストロンチウム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 微粒子状のアルカリ土類金属炭酸塩の製造方法、該方法により得られるアルカリ土類金属炭酸塩および酸化物含有セラミック材料の製造方法
JPH10330482A (ja) * 1997-04-04 1998-12-15 Nitto Denko Corp ポリイミドとその製造方法及びこれを用いた気体分離膜とその製造方法
US5969087A (en) 1997-04-04 1999-10-19 Nitto Denko Corporation Polyimide, a method for manufacturing the same, a gas separation membrane using the polyimide and a method for manufacturing the same
JP3530085B2 (ja) * 1998-10-14 2004-05-24 株式会社日本触媒 金属酸化物系粒子、その製造方法および用途
US6683023B2 (en) * 2000-04-21 2004-01-27 Showa Denko K.K. Photocatalytic powder and polymer composition
JP4540921B2 (ja) 2001-06-05 2010-09-08 戸田工業株式会社 インクジェット用インクの着色材及びインクジェット用インク並びに水性顔料分散体、有機無機複合粒子粉末
US7022752B2 (en) 2000-09-01 2006-04-04 Toda Kogyo Corporation Composite particles, process for producing the same, and pigment, paint and resin composition using the same
US7094814B2 (en) 2000-09-01 2006-08-22 Toda Kogyo Corporation Coloring composition for color filter containing colorant and color filter using the same
US7169327B2 (en) 2001-01-29 2007-01-30 Jsr Corporation Composite particle for dielectrics, ultramicroparticulate composite resin particle, composition for forming dielectrics and use thereof
JP4896309B2 (ja) 2001-07-13 2012-03-14 日東電工株式会社 多孔質ポリイミド樹脂の製造方法
KR100820930B1 (ko) 2001-08-18 2008-04-11 재단법인서울대학교산학협력재단 나노 크기의 유-무기 복합체의 제조방법
JP4102872B2 (ja) * 2002-03-08 2008-06-18 独立行政法人産業技術総合研究所 高結晶性チタン酸バリウム超微粒子とその製造方法
US6986943B1 (en) 2002-06-12 2006-01-17 Tda Research, Inc. Surface modified particles by multi-step addition and process for the preparation thereof
JP4140884B2 (ja) * 2002-07-04 2008-08-27 独立行政法人科学技術振興機構 炭酸ストロンチウムの製造方法、非複屈折性光学樹脂材料並びに光学素子
DE10247359A1 (de) 2002-10-10 2004-04-29 Basf Coatings Ag Nanopartikel, Verfahren zur Modifizierung ihrer Oberfläche, Dispersion der Nanopartikel, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JP3960958B2 (ja) * 2003-09-10 2007-08-15 株式会社白石中央研究所 多孔質樹脂シートの製造方法
JP4510437B2 (ja) 2003-12-12 2010-07-21 株式会社Ａｄｅｋａ 金属酸化物粒子及びその製造方法
JP3925932B2 (ja) * 2004-01-08 2007-06-06 株式会社 東北テクノアーチ 有機修飾金属酸化物ナノ粒子の製造法
US7803347B2 (en) 2005-07-01 2010-09-28 Tohoku Techno Arch Co., Ltd. Organically modified fine particles
US20070072815A1 (en) 2004-05-04 2007-03-29 Kmiec Eric B Methods and kits to increase the efficiency of oligonucleotide-directed nucleic acid sequence alteration
JP2006021988A (ja) * 2004-06-08 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 炭酸塩の製造方法
WO2006022272A1 (ja) * 2004-08-25 2006-03-02 Fujifilm Corporation 炭酸塩の製造方法
JP4948805B2 (ja) * 2004-09-13 2012-06-06 日東電工株式会社 反射防止シート用の多孔質体の製造方法、反射防止シート用の多孔質体、反射防止膜、反射防止シートの製造方法及び反射防止シート
US20060083962A1 (en) 2004-10-20 2006-04-20 Nissan Motor Co., Ltd. Proton-conductive composite electrolyte membrane and producing method thereof
JP4800671B2 (ja) * 2004-12-15 2011-10-26 富士フイルム株式会社 炭酸塩結晶及びその製造方法、並びに透明光学用樹脂組成物
EP1838618A1 (en) * 2004-12-15 2007-10-03 FUJIFILM Corporation Method for producing carbonates
JP3925936B2 (ja) * 2005-01-17 2007-06-06 株式会社 東北テクノアーチ 金属酸化物ナノ粒子の回収又は収集法
CN101120419B (zh) 2005-02-15 2011-02-16 东丽株式会社 高分子电解质成型体的制造方法、高分子电解质材料、高分子电解质膜和高分子电解质型燃料电池
JP4747241B2 (ja) 2005-02-25 2011-08-17 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 機能性膜、燃料電池用電解質膜の製造方法、及び燃料電池用電解質膜
JP4716776B2 (ja) * 2005-04-18 2011-07-06 旭化成ケミカルズ株式会社 光触媒体
WO2006118168A1 (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Konica Minolta Opto, Inc. 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置
CN101297377A (zh) 2005-08-19 2008-10-29 国立大学法人东京大学 质子导电性杂化材料和使用其的用于燃料电池的催化剂层
KR100815028B1 (ko) 2005-10-05 2008-03-18 삼성전자주식회사 탄소나노튜브용 분산제 및 이를 포함하는 조성물
JP4946006B2 (ja) * 2005-11-04 2012-06-06 東レ株式会社 複合多孔質膜及びその製造方法
JP2007206061A (ja) 2006-01-06 2007-08-16 Hitachi Chem Co Ltd 光学センサ
KR101324266B1 (ko) 2006-01-17 2013-11-01 가오 가부시키가이샤 수경성 조성물용 분산제
JP5030694B2 (ja) 2006-07-18 2012-09-19 株式会社日本触媒 酸化ジルコニウムナノ粒子
WO2008010533A1 (en) * 2006-07-18 2008-01-24 Nippon Shokubai Co., Ltd. Metal oxide nanoparticle and method for producing the same
JP2009268943A (ja) * 2006-08-10 2009-11-19 Mitsui Chemicals Inc 光触媒、該光触媒を含有する光触媒分散液、及び光触媒塗料組成物
KR100858078B1 (ko) 2006-10-04 2008-09-10 삼성에스디아이 주식회사 프로톤 전도성기가 결합된 무기 나노입자 및 고체산을포함하는 고분자 전해질막 및 그 제조방법
JP4315195B2 (ja) 2006-12-21 2009-08-19 ソニー株式会社 硬化性樹脂材料−微粒子複合材料及びその製造方法、光学材料、並びに発光装置
JP5242934B2 (ja) * 2007-04-03 2013-07-24 富士フイルム株式会社 炭酸塩及びその製造方法
JP5012230B2 (ja) 2007-06-07 2012-08-29 住友大阪セメント株式会社 ジルコニア含有シリコーン樹脂組成物
JP5096865B2 (ja) 2007-09-07 2012-12-12 日東電工株式会社 光学フィルム、およびその製造方法
JP5385520B2 (ja) 2007-09-14 2014-01-08 株式会社日本触媒 樹脂組成物
JP2009073994A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Hitachi Maxell Ltd 無機材料分散ポリマーにおける無機材料抽出方法、複合体の製造方法、ポリマー成形体、及び反射板
JP2009073699A (ja) 2007-09-21 2009-04-09 Kaneka Corp 表面修飾金属酸化物微粒子の製造方法。
JP2009149713A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Panasonic Corp 樹脂成形体
JP2009167315A (ja) * 2008-01-17 2009-07-30 Nitto Denko Corp 多孔質体の製造方法
JP2009191167A (ja) 2008-02-14 2009-08-27 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 高屈折率金属酸化物透明分散液及び透明樹脂複合体並びに光学レンズ
JP2009242486A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 有機無機複合組成物とその製造方法、成形体、および光学部品
CN102037083B (zh) 2008-03-28 2014-02-05 3M创新有限公司 用于粒子表面改性的方法
EP2271707A4 (en) * 2008-04-15 2017-05-17 Tenasitech Pty Ltd Polymer composites having particles with mixed organic modifications
JP2009298945A (ja) 2008-06-13 2009-12-24 Fujifilm Corp 無機粉体、有機無機複合組成物とその製造方法、成形体、および光学部品
JP5404069B2 (ja) * 2008-06-20 2014-01-29 丸尾カルシウム株式会社 多孔質濾過膜用樹脂組成物及び多孔質濾過膜の製造方法
JP5350106B2 (ja) 2008-07-28 2013-11-27 キヤノン株式会社 ナノ粒子−分散剤複合体、ナノ粒子分散液およびナノ粒子−マトリックス材料複合体

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6440490A (en) * 1987-07-25 1989-02-10 Tioxide Group Plc Titanium chelate and manufacture
JP2000351787A (ja) * 1999-06-07 2000-12-19 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 水溶性チタン錯体水溶液の保存法
JP2003513011A (ja) * 1999-07-16 2003-04-08 サノフィ−サンテラボ チタン誘導化合物、その製造法およびその使用
JP2002331244A (ja) * 2001-03-07 2002-11-19 Daicel Chem Ind Ltd 担持型二酸化チタン触媒及び該触媒を用いた芳香族化合物の酸化方法
JP2003292497A (ja) * 2002-04-01 2003-10-15 Daiso Co Ltd チタン塩、その製造法、およびこれを用いるエポキシドの製造法
JP2004018477A (ja) * 2002-06-18 2004-01-22 Idemitsu Kosan Co Ltd 水溶性チタン化合物及びその製造方法
JP2006506416A (ja) * 2002-11-13 2006-02-23 ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニー 触媒とプロセス

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6015003475; Ｋｏｊｉ　Ｔｏｍｉｔａ，　Ｖａｌｅｒｙ　Ｐｅｔｒｙｋｉｎ，　Ｍａｋｏｔｏ　Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，　Ｍｏｔｏｏ　Ｓｈｉｒｏ，　Ｍａｓａｈｉｒｏ　Ｙｏｓｈｉｍｕｒａ，　ａｎｄ　Ｍａｓａｔｏ　Ｋａｋｉｈａｒａ: 'Ａ　Ｗａｔｅｒ-Ｓｏｌｕｂｌｅ　Ｔｉｔａｎｉｕｍ　ｃｏｍｐｌｅｘ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ　ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｏｆ　Ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ　Ｂｒｏｏｋｉｔｅ，　ｒｕｔｉｌｅ　ａｎｄ' Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ　Ｃｈｅｍｉｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｄｉｔｉｏｎ Ｖｏｌｕｍｅ　４５，　 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015131775A (ja) * 2014-01-10 2015-07-23 日立金属株式会社 高融点金属の非フッ酸系水溶液およびその製造方法

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