JP2011228500A - 現像処理方法及び現像処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光処理がされたフォトマスク用基板1の現像処理方法であって、基板1が水平面に対して0度を超え90度に達しない角度で傾き、基板1の現像中にその傾く方向が基板1の中心を通る垂直軸回り方向に360度変化する制御を基板1の現像中に連続して行なう。現像液の供給は、平板状のノズル保持体6に複数のノズル7を配設してなるノズル装置5を用い、そのノズル装置5の各ノズル7から現像液を供給して基板上に現像液パドルを形成する。この際、ノズル7からの現像液の供給量を個別に制御する。
【選択図】 図4
Description
2…基板保持部
3…支柱
4…ピン
5…ノズル装置
6…ノズル保持体
7…ノズル
Claims (4)
- 露光処理がされたフォトマスク用基板の現像処理方法であって、基板が水平面に対して0度を超え90度に達しない角度で傾き、基板の現像中にその傾く方向が基板の中心を通る垂直軸回り方向に360度変化する制御を連続的に行ないながら現像することを特徴とする現像処理方法。
- 請求項1の現像処理方法であって、平板状のノズル保持体に複数のノズルを配設してなるノズル装置を基板の上方に配置し、そのノズル装置の各ノズルから現像液を供給して基板上に現像液パドルを形成し、前記ノズルからの現像液の供給量を個別に制御することを特徴とする現像処理方法。
- 請求項2の現像処理方法であって、前記ノズル装置の複数のノズルの位置がノズルの配設間隔以内の距離で常に変動することを特徴とする現像処理方法。
- 露光処理がされたフォトマスク用基板の現像処理を行なう現像処理装置であって、基板を保持する基板保持部を備え、この基板保持部が水平面に対して0度を超え90度に達しない角度で傾き、かつその傾く方向が基板保持部の中心を通る垂直軸回り方向に360度変化する動作が可能で、前記基板保持部で基板を保持し、その基板の現像中に基板を基板保持部の動作で水平面に対して傾け、かつその傾き方向が基板の中心を通る垂直軸回り方向に360度変化させることを特徴とする現像処理装置。
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