JP2011198578A - Apparatus and method for manufacturing light emitting device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for manufacturing a light emitting device, capable of effectively suppressing the mixture of contaminations during forming a fine structure such as an organic EL element.SOLUTION: A controller 301 of a printing device 300 controls a head 303 to discharge ink 340 as a material for an organic layer toward an anilox roll 310 in accordance with an ink resupply pattern previously stored in a memory 302. At this point, the controller 301 controls it to selectively discharge the ink into a region on the anilox roll 310 corresponding to the ink resupply pattern, namely, into an area where an ink film 341 is removed during transfer to a plate cylinder 320 to form a resupplied ink film 341a. The resupplied ink film 341a is integrated with the residing ink film 341 to become the ink film 341 uniform over the whole periphery of the anilox roll 310.

Description

本発明は、発光装置の製造装置及び製造方法に関する。   The present invention relates to a light emitting device manufacturing apparatus and a manufacturing method.

有機エレクトロルミネッセンス(electroluminescence)素子(有機EL素子)或いは有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode)素子と呼称される自発光素子は、電場を加えることによって発光する蛍光性の有機化合物によって形成されたものであり、この素子を各画素に有してなる表示パネルを備えた表示装置は次世代ディスプレイデバイスとして注目されている。   A self-luminous element called an organic electroluminescence element (organic EL element) or an organic light emitting diode element is formed of a fluorescent organic compound that emits light when an electric field is applied. A display device including a display panel having this element in each pixel has attracted attention as a next-generation display device.

有機EL素子は、アノード電極とカソード電極とのこれらの一対の電極間に形成され、例えば発光層、正孔注入層等を有する有機EL層(有機層)を備える。有機EL素子は、発光層において正孔と電子とが再結合することによって発生するエネルギーによって発光する。   The organic EL element is formed between a pair of electrodes of an anode electrode and a cathode electrode, and includes an organic EL layer (organic layer) having, for example, a light emitting layer, a hole injection layer, and the like. The organic EL element emits light by energy generated by recombination of holes and electrons in the light emitting layer.

このような有機層を形成するため、所定の高分子材料をインクとして凸版の一種であるフレキソ版を用いた印刷(以下、フレキソ印刷という)により基板上に形成することが従来から行われている(例えば、特許文献1)。フレキソ印刷は、低粘度インクを用いることで、基板上に形成される等発光層等を薄膜とすることが可能である。また、フレキソ印刷では、例えばローラー状に形成される版胴とアニロックスロールとをダイレクトドライブモーター等によって駆動することで、精密な印刷が可能となる。これらの理由により、フレキソ印刷を有機ELの有機層のパターニングに好適に用いることができる。   In order to form such an organic layer, it has been conventionally performed to form a predetermined polymer material on a substrate by printing using a flexographic printing plate, which is a type of relief printing, as an ink (hereinafter referred to as flexographic printing). (For example, patent document 1). In flexographic printing, by using a low-viscosity ink, it is possible to make a thin light-emitting layer or the like formed on a substrate. In flexographic printing, for example, a printing cylinder formed in a roller shape and an anilox roll are driven by a direct drive motor or the like, thereby enabling precise printing. For these reasons, flexographic printing can be suitably used for patterning the organic EL organic layer.

特開2007−299616号公報JP 2007-299616 A

しかしながら、従来のフレキソ印刷法には以下に示すような問題点がある。ディスペンサ(特許文献1ではインキチャンバー)からアニロックスロール表面全体に広がるように供給されたインクは、版胴に巻かれた印刷パターンが形成されたフレキソ版に転写される。フレキソ版と印刷対象となる基板が接触することで、基板上にインクが印刷される。その際、アニロックスロール上に残った余分なインクはスクレーパ(ドクター)によって除去されることとなる。このとき、アニロックスロールとスクレーパとが接触することによって発塵し、インクへの異物混入の原因となっていた。有機EL素子はカソード・アノード間が薄いため、異物が微小であっても、電極間ショートによるダークスポット等不良の原因となってしまう。   However, the conventional flexographic printing method has the following problems. The ink supplied from the dispenser (ink chamber in Patent Document 1) so as to spread over the entire surface of the anilox roll is transferred to a flexographic plate on which a printing pattern wound around a plate cylinder is formed. When the flexographic plate comes into contact with the substrate to be printed, ink is printed on the substrate. At this time, excess ink remaining on the anilox roll is removed by a scraper (doctor). At this time, the anilox roll and the scraper come into contact with each other to generate dust and cause foreign matter to be mixed into the ink. Since the organic EL element is thin between the cathode and the anode, even if the foreign matter is minute, it causes a defect such as a dark spot due to a short circuit between the electrodes.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、有機EL素子のような微細な構造の形成の際における異物の混入を効果的に抑制することが可能な発光装置の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and a light emitting device manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of effectively suppressing contamination of foreign matters when forming a fine structure such as an organic EL element. The purpose is to provide.

上記目的を達成するため、本発明の第1の観点に係る発光装置の製造装置は、
基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する中間転写体と、
前記中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記転写により前記中間転写体から前記インクが移動される領域をインク補充パターンとして記憶する記憶部と、
前記中間転写体の表面の前記インク補充パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、を備える、
ことを特徴とする。
この場合、前記ヘッド部を前記インク補充パターンに対向する位置に移動させるヘッド駆動部を更に備える、
こととしてもよい。
前記ヘッド部は、インクジェット方式で前記中間転写体に前記インクを吐出する、
こととしてもよい。
前記ヘッド部は、互いに位置が固定され各々が前記インクを吐出する複数のノズルを備え、
前記複数のノズルは、前記インクを液滴としてインクジェット方式で吐出するピエゾ素子をそれぞれ備え、
前記記憶部は、各前記ピエゾ素子の動作波形を記憶し、
前記制御部は、前記動作波形に基づいて各前記ピエゾ素子からの前記インクの吐出量が均一となるよう制御する、
こととしてもよい。
前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、
前記インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層となる材料を含む、
こととしてもよい。
前記中間転写体は、回転式のアニロックスロールである、
こととしてもよい。
前記中間転写体は、板状のアニロックス板である、
こととしてもよい。
前記転写の際に前記アニロックス板と前記版胴とが互いに反対方向に進行する、
こととしてもよい。
前記ヘッド部は、前記有機層の材料成分の濃度が互いに異なる前記インク又は溶媒をそれぞれ吐出する複数個のヘッドを備える、
こととしてもよい。
In order to achieve the above object, a light-emitting device manufacturing apparatus according to the first aspect of the present invention provides:
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
An intermediate transfer member that contacts the flexographic plate and transfers the ink;
A head portion for supplying the ink to the intermediate transfer member;
A storage unit for storing, as an ink replenishment pattern, a region in which the ink is moved from the intermediate transfer member by the transfer;
A control unit that supplies the ink from the head unit in the region of the ink replenishment pattern on the surface of the intermediate transfer member,
It is characterized by that.
In this case, the apparatus further includes a head drive unit that moves the head unit to a position facing the ink replenishment pattern.
It is good as well.
The head portion discharges the ink to the intermediate transfer member by an ink jet method.
It is good as well.
The head portion includes a plurality of nozzles that are fixed in position and each ejects the ink,
Each of the plurality of nozzles includes a piezo element that discharges the ink as a droplet by an inkjet method,
The storage unit stores operation waveforms of the piezo elements,
The control unit controls the ejection amount of the ink from each of the piezoelectric elements to be uniform based on the operation waveform;
It is good as well.
The light emitting element is an organic electroluminescence element,
The ink includes a material that becomes an organic layer of an organic electroluminescence element.
It is good as well.
The intermediate transfer member is a rotating anilox roll,
It is good as well.
The intermediate transfer member is a plate-shaped anilox plate,
It is good as well.
The anilox plate and the plate cylinder advance in opposite directions during the transfer,
It is good as well.
The head unit includes a plurality of heads that respectively discharge the ink or the solvent having different concentrations of material components of the organic layer,
It is good as well.

また、本発明の第2の観点に係る発光装置の製造装置は、
基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する第1及び第2の中間転写体と、
前記第1及び第2の中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記転写により前記中間転写体から前記インクが移動される領域をインク補充パターンとして記憶する記憶部と、
前記中間転写体の表面の前記インク補充パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、
前記第1及び第2の中間転写体を、一方が前記転写に供する位置で他方がメンテナンスに供する位置であるように交互に移動させる中間転写体移動装置と、
前記メンテナンスに供する位置にある前記第1の中間転写体又は前記第2の中間転写体を洗浄する洗浄装置と、を備える、
ことを特徴とする。
上記目的を達成するため、本発明の第3の観点に係る発光装置の製造方法は、
上述の発光装置の製造装置を用いて前記基板上に1又は複数層の前記有機層を形成する、
ことを特徴とする。
In addition, the light emitting device manufacturing apparatus according to the second aspect of the present invention includes:
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
First and second intermediate transfer members that contact the flexographic plate and transfer the ink;
A head portion for supplying the ink to the first and second intermediate transfer members;
A storage unit for storing, as an ink replenishment pattern, a region in which the ink is moved from the intermediate transfer member by the transfer;
A control unit for supplying the ink from the head unit into the region of the ink replenishment pattern on the surface of the intermediate transfer member;
An intermediate transfer body moving device that alternately moves the first and second intermediate transfer bodies so that one is a position used for the transfer and the other is a position used for maintenance;
A cleaning device for cleaning the first intermediate transfer member or the second intermediate transfer member in a position for maintenance.
It is characterized by that.
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a light emitting device according to the third aspect of the present invention includes:
Forming one or a plurality of the organic layers on the substrate using the above-described light emitting device manufacturing apparatus;
It is characterized by that.

また、本発明の第4の観点に係る発光装置の製造方法は、
インクジェット方式により、発光素子の有機層の材料を含むインクを中間転写体に供給し、前記中間転写体の表面の全面にインク膜を形成する工程と、
前記中間転写体から版胴のフレキソ版に前記インク膜を転写する工程と、
前記フレキソ版に転写された前記インク膜を基板上に印刷する工程と、
前記転写により前記中間転写体から前記インクが移動された領域に前記インクを補充して、前記中間転写体の表面の全面に前記インク膜を再形成する工程と、を備える、
ことを特徴とする。
この場合、前記インク膜を再形成する工程の後、前記インクよりも前記有機層の材料の濃度が低い低濃度インク又は溶媒を、前記中間転写体の表面の一部又は全部に供給する工程をさらに備える、
こととしてもよい。
A method for manufacturing a light emitting device according to the fourth aspect of the present invention includes:
Supplying an ink containing an organic layer material of a light emitting element to an intermediate transfer body by an inkjet method, and forming an ink film on the entire surface of the intermediate transfer body;
Transferring the ink film from the intermediate transfer member to a flexographic plate of a plate cylinder;
Printing the ink film transferred to the flexographic plate on a substrate;
Replenishing the ink in a region where the ink has been moved from the intermediate transfer body by the transfer, and re-forming the ink film on the entire surface of the intermediate transfer body.
It is characterized by that.
In this case, after the step of re-forming the ink film, a step of supplying a low concentration ink or a solvent having a lower concentration of the organic layer material than the ink to a part or all of the surface of the intermediate transfer member. In addition,
It is good as well.

本発明によれば、有機EL素子のような微細な構造の形成の際における異物の混入を効果的に抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, mixing of the foreign material at the time of formation of a fine structure like an organic EL element can be suppressed effectively.

本発明の実施形態1に係る印刷装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the printing apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 印刷装置の主要な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the main structures of a printing apparatus. アニロックスロールから版胴へのインクの転写動作を示す図である。It is a figure which shows the transfer operation | movement of the ink from an anilox roll to a plate cylinder. 版胴から基板への印刷動作を示す図である。It is a figure which shows the printing operation from a printing cylinder to a board | substrate. 発光装置の構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the structural example of a light-emitting device. 画素の駆動回路の一例の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of an example of the drive circuit of a pixel. 画素の平面図である。It is a top view of a pixel. 図7に示すVIII−VIII線断面図である。It is the VIII-VIII sectional view taken on the line shown in FIG. (a)〜(c)は、発光装置の製造方法を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device. (a)〜(c)は、図9に続き、発光装置の製造方法を示す図である。(A)-(c) is a figure which shows the manufacturing method of a light-emitting device following FIG. 本発明の実施形態2に係る印刷装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the printing apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施形態3に係る印刷装置の構成及び動作を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure and operation | movement of a printing apparatus which concern on Embodiment 3 of this invention. 図12に続き、印刷装置の動作を示す図である。FIG. 13 is a diagram illustrating the operation of the printing apparatus following FIG. 12. 本発明の実施形態4に係る印刷装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the printing apparatus which concerns on Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施形態5に係る印刷装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the printing apparatus which concerns on Embodiment 5 of this invention. (a)及び(b)は、発光装置が用いられる電子機器を示す図である。(A) And (b) is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. 発光装置が用いられる電子機器を示す図である。It is a figure which shows the electronic device with which a light-emitting device is used. (a)及び(b)は、ヘッドの構成例を示す模式図である。(A) And (b) is a schematic diagram which shows the structural example of a head.

以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

(実施形態1)
図1に示すように、実施形態1の印刷装置300は、制御部301と、記憶部302と、ヘッド303と、インク340が収容されたインク収容部304と、アニロックスロール310と、版胴320と、印刷ステージ330と、を備えている。
(Embodiment 1)
As illustrated in FIG. 1, the printing apparatus 300 according to the first embodiment includes a control unit 301, a storage unit 302, a head 303, an ink storage unit 304 that stores ink 340, an anilox roll 310, and a plate cylinder 320. And a printing stage 330.

制御部301は、CPU(Central Processing Unit)等を備えており、後述するヘッド303からのインクの吐出並びにアニロックスロール310及び版胴320の駆動等、印刷装置300の機能全体を制御する。   The control unit 301 includes a CPU (Central Processing Unit) and the like, and controls the overall functions of the printing apparatus 300, such as ejection of ink from a head 303, which will be described later, and driving of an anilox roll 310 and a plate cylinder 320.

記憶部302は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等から構成された記憶装置である。記憶部302には、例えば制御部301が実行するプログラム、及び、版胴320上の版による印刷パターンに関するデータ等が格納されている。また、記憶部302は、例えば、制御部301がプログラムを実行する際のワークメモリとして動作する。   The storage unit 302 is a storage device including a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), and the like. The storage unit 302 stores, for example, a program executed by the control unit 301, data related to a printing pattern by a plate on the plate cylinder 320, and the like. The storage unit 302 operates as a work memory when the control unit 301 executes a program, for example.

ヘッド303は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303からインク340をアニロックスロール310に向けて吐出する。本実施形態では、ヘッド303はピエゾ素子(図示せず)を備えており、いわゆるインクジェット方式によりインク340を吐出する。また、ヘッド303は、アニロックスロール310の長さに合わせて図のX軸方向に走査しながらインク340を吐出することが可能となるように構成されている。インク収容部304は、その内部にインク340を収容しており、ヘッド303にインク340を供給する。本実施形態におけるインク340は、有機ELの例えば、発光層等の材料となる所定の高分子材料の溶液である。   The head 303 discharges ink 340 from the head 303 toward the anilox roll 310 based on an instruction from the control unit 301. In this embodiment, the head 303 includes a piezo element (not shown), and ejects the ink 340 by a so-called inkjet method. Further, the head 303 is configured to be able to eject ink 340 while scanning in the X-axis direction in the figure in accordance with the length of the anilox roll 310. The ink storage unit 304 stores ink 340 therein and supplies the ink 340 to the head 303. The ink 340 in the present embodiment is a solution of a predetermined polymer material that is a material of an organic EL, for example, a light emitting layer.

アニロックスロール310は、図のX軸方向を軸として回転可能に支持されており、X軸方向に所定の長さを有する。アニロックスロール310の外周面、即ちインク340を受ける面には浅い凹部である多数のセル311が形成されている。本明細書ではセル311を簡略化して表示しているが、セル311は、印刷条件に応じて所定の深さ、パターン等を有するように設けられている。なお、ヘッド303が、アニロックスロール310のX軸方向に所定の長さに応じて、インク340を任意に吐出する吐出口を、X軸に沿って複数配置された構造であれば、ヘッド303をX軸方向に走査することなしに、アニロックスロール310の任意のセル311内にインク340を吐出することができる。   The anilox roll 310 is supported so as to be rotatable about the X-axis direction in the figure, and has a predetermined length in the X-axis direction. A large number of cells 311 that are shallow concave portions are formed on the outer peripheral surface of the anilox roll 310, that is, the surface that receives the ink 340. In this specification, the cells 311 are displayed in a simplified manner, but the cells 311 are provided to have a predetermined depth, pattern, and the like according to printing conditions. In addition, if the head 303 has a structure in which a plurality of ejection openings for arbitrarily ejecting the ink 340 are arranged along the X axis according to a predetermined length in the X axis direction of the anilox roll 310, the head 303 is arranged. The ink 340 can be ejected into any cell 311 of the anilox roll 310 without scanning in the X-axis direction.

版胴320は、図のX軸方向を軸として回転可能に支持されており、X軸方向に所定の長さを有する。後述するように、版胴320はX軸方向に回転する他に、印刷ステージ330に載置される基板31の印刷面の面方向における図のX軸方向に直交するY軸方向に移動可能であるとともに、X軸方向及びY軸方向に直交する、つまり、基板31の印刷面に対する法線方向のZ軸方向に移動可能となるように構成されている。版胴320の外周面には、フレキソ版の1又は複数個の版の凸部321が形成されている。版の凸部321は、印刷される発光層等に応じて所定のパターンとなるように形成されており、アニロックスロール310からのインク340を受けるとともに印刷対象物の基板31にインク340を転写する。版胴320上の版の凸部321を含むフレキソ版の部分は、樹脂及びゴム等、フレキソ印刷に適した材料から形成されている。なお、基板31は、本実施形態では印刷ステージ330上に固定される。   The plate cylinder 320 is supported so as to be rotatable about the X-axis direction in the figure, and has a predetermined length in the X-axis direction. As will be described later, in addition to rotating in the X-axis direction, the plate cylinder 320 is movable in the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction in the drawing in the surface direction of the printing surface of the substrate 31 placed on the printing stage 330. In addition, it is configured to be movable in the Z-axis direction perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction, that is, in the normal direction to the printing surface of the substrate 31. On the outer peripheral surface of the plate cylinder 320, one or a plurality of plate convex portions 321 of the flexographic plate are formed. The convex part 321 of the plate is formed to have a predetermined pattern according to the light emitting layer to be printed, etc., and receives the ink 340 from the anilox roll 310 and transfers the ink 340 to the substrate 31 to be printed. . A portion of the flexographic plate including the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is formed of a material suitable for flexographic printing, such as resin and rubber. Note that the substrate 31 is fixed on the printing stage 330 in this embodiment.

印刷ステージ330は、印刷装置300の印刷対象物である基板31を図のXY平面上に載置するステージである。なお、印刷ステージ330は例えば基板31を固定するための機構を備えているが、本明細書ではその詳細な説明は省略する。   The printing stage 330 is a stage on which the substrate 31 that is a printing object of the printing apparatus 300 is placed on the XY plane in the drawing. The printing stage 330 includes a mechanism for fixing the substrate 31, for example, but detailed description thereof is omitted in this specification.

図2に、制御部301に関連するより詳細な構成をブロック図で示す。印刷装置300は、図1に示す構成物以外に、ヘッド駆動部305と、駆動部312と、角度検出部313と、駆動部322と、角度検出部323と、を備えている。   FIG. 2 is a block diagram showing a more detailed configuration related to the control unit 301. The printing apparatus 300 includes a head drive unit 305, a drive unit 312, an angle detection unit 313, a drive unit 322, and an angle detection unit 323 in addition to the components illustrated in FIG.

ヘッド駆動部305は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303が内蔵するピエゾ素子を駆動してインク340を吐出させる。また、ヘッド駆動部305は駆動用モータ(図示せず)及びレール等の機構を備えており、ヘッド303を図のX軸方向に走査させる。   The head driving unit 305 drives a piezo element built in the head 303 based on an instruction from the control unit 301 to discharge the ink 340. The head driving unit 305 includes a mechanism such as a driving motor (not shown) and a rail, and scans the head 303 in the X-axis direction in the drawing.

駆動部312は、ダイレクトドライブ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、アニロックスロール310の所定の位置に、ヘッド303から吐出するインク340が到達するようにアニロックスロール310を回転させる。   The drive unit 312 includes a direct drive type drive motor (not shown), and the ink 340 discharged from the head 303 reaches a predetermined position of the anilox roll 310 based on an instruction from the control unit 301. In this way, the anilox roll 310 is rotated.

角度検出部313は、アニロックスロール310又は駆動用モータの回転軸に設けられている角度センサである。角度検出部313は、直接的又は間接的にアニロックスロール310の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。   The angle detection unit 313 is an angle sensor provided on the rotation shaft of the anilox roll 310 or the drive motor. The angle detection unit 313 detects the position of the anilox roll 310 directly or indirectly, and transmits a signal indicating the position to the control unit 301.

駆動部322は、ダイレクトドライブ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、版胴320上の版の所定の位置に、アニロックスロール310に吐出されたインク340が転写されるように版胴320を回転させる。また、駆動部322は、後述するように、版胴320を図のY軸方向及びZ軸方向に移動させる。   The drive unit 322 includes a direct drive type drive motor (not shown), and is discharged to the anilox roll 310 at a predetermined position on the plate cylinder 320 based on an instruction from the control unit 301. The plate cylinder 320 is rotated so that the ink 340 is transferred. Further, the drive unit 322 moves the plate cylinder 320 in the Y-axis direction and the Z-axis direction in the drawing, as will be described later.

角度検出部323は、版胴320又は駆動用モータの回転軸に設けられている角度センサである。角度検出部323は、直接的又は間接的に版胴320の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。   The angle detection unit 323 is an angle sensor provided on the plate cylinder 320 or the rotation shaft of the drive motor. The angle detection unit 323 detects the position of the plate cylinder 320 directly or indirectly, and transmits a signal indicating the position to the control unit 301.

次に、本実施形態に係る印刷装置300の動作について、図3及び図4を参照して説明する。なお、以下に示す印刷装置300の動作は、特に断りがない限り、制御部301の指示に基づいて行われる。また、以下の説明において、アニロックスロール310の表面とはセル311の範囲を含むアニロックスロール310の外周面を指す。   Next, the operation of the printing apparatus 300 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. Note that the following operation of the printing apparatus 300 is performed based on an instruction from the control unit 301 unless otherwise specified. In the following description, the surface of the anilox roll 310 refers to the outer peripheral surface of the anilox roll 310 including the range of the cell 311.

図3に示すように、ヘッド303は、先ずアニロックスロール310に向けてインク340を吐出する。アニロックスロール310から版胴320へのインクの転写を考慮しなければ、この工程でアニロックスロール310の表面の全周に均一なインク膜341が形成される。また、ヘッド303は、図のX軸方向に走査することでアニロックスロール310の長さ範囲をカバーしてインク340を吐出する。   As shown in FIG. 3, the head 303 first ejects ink 340 toward the anilox roll 310. If the transfer of ink from the anilox roll 310 to the plate cylinder 320 is not considered, a uniform ink film 341 is formed on the entire circumference of the surface of the anilox roll 310 in this step. Further, the head 303 discharges ink 340 while covering the length range of the anilox roll 310 by scanning in the X-axis direction in the figure.

上記のインク膜341の形成工程に合わせて、中間転写体であるアニロックスロール310は版胴320へインクを転写する。このとき、アニロックスロール310は矢印R1の方向に回転し、版胴320は矢印C1の方向に回転する。制御部301は、角度検出部313によりアニロックスロール310の位置を検出するとともに角度検出部323により版胴320の位置を検出する。そして、制御部301は、インクの転写が正確に行われるように駆動部312を制御してアニロックスロール310を回転させるとともに駆動部322を制御して版胴320を回転させる。なお、各実施形態の説明において、アニロックスロール310及び版胴320の一方又は双方が図示と反対方向に回転することとしてもよい。   The anilox roll 310 that is an intermediate transfer member transfers ink to the plate cylinder 320 in accordance with the above-described forming process of the ink film 341. At this time, the anilox roll 310 rotates in the direction of arrow R1, and the plate cylinder 320 rotates in the direction of arrow C1. The control unit 301 detects the position of the anilox roll 310 with the angle detection unit 313 and detects the position of the plate cylinder 320 with the angle detection unit 323. Then, the control unit 301 controls the drive unit 312 to rotate the anilox roll 310 and controls the drive unit 322 to rotate the plate cylinder 320 so that the ink is transferred accurately. In the description of each embodiment, one or both of the anilox roll 310 and the plate cylinder 320 may rotate in the direction opposite to that illustrated.

また、ヘッド303は、アニロックスロール310の回りを1周するまでインク340を引き続き吐出する。なお、図3の例ではヘッド303からアニロックスロール310へのインク340の吐出とアニロックスロール310から版胴320への転写動作を並行して行っているが、インク340の吐出、即ちインク膜341の形成が完了後に版胴320へインク340を転写することとしてもよい。   Further, the head 303 continuously discharges the ink 340 until it makes one turn around the anilox roll 310. In the example of FIG. 3, the discharge of the ink 340 from the head 303 to the anilox roll 310 and the transfer operation from the anilox roll 310 to the plate cylinder 320 are performed in parallel, but the discharge of the ink 340, that is, the ink film 341 is discharged. The ink 340 may be transferred to the plate cylinder 320 after the formation is completed.

図3の例のように、インクが転写された版胴320上の版の表面にはインク膜342が形成されている。これに対応するアニロックスロール310の表面はインク膜341が移動され、除去された状態となっている。   As in the example of FIG. 3, an ink film 342 is formed on the surface of the plate on the plate cylinder 320 to which the ink has been transferred. The ink film 341 is moved and removed on the surface of the anilox roll 310 corresponding to this.

版胴320上の版へのインクの転写、即ちインク膜342の形成が完了すると、図4に示すように、版胴320は基板31上の所定の位置に移動し、その位置から基板31への印刷を開始する。このとき、版胴320は版胴320上に設けられた版を基板31に当接しながら矢印C1の方向に回転することで、矢印C2の方向に移動する。そして、基板31の表面には例えば有機EL素子の有機層となるインク膜343が形成される。   When the transfer of ink onto the plate on the plate cylinder 320, that is, the formation of the ink film 342 is completed, the plate cylinder 320 moves to a predetermined position on the substrate 31, and from that position to the substrate 31, as shown in FIG. Start printing. At this time, the plate cylinder 320 moves in the direction of the arrow C2 by rotating in the direction of the arrow C1 while the plate provided on the plate cylinder 320 is in contact with the substrate 31. Then, an ink film 343 serving as an organic layer of the organic EL element is formed on the surface of the substrate 31, for example.

ヘッド303は、上述のように一部のインク膜341が転写によりアニロックスロール310の表面のうちインク340が移動して除去された箇所、即ちインク補充箇所344に対して、アニロックスロール310の表面全周に再度インク膜341が均一に形成されるように、インク340を吐出する。この工程でインク340が吐出されるパターン(インク補充パターン)は、予め記憶部302に記憶されている。制御部301は、角度検出部313から得られるアニロックスロール310の位置とインク補充パターンとに基づいて、アニロックスロール310のインク補充箇所344が正確にヘッド303に対向するように駆動部312を制御する。ヘッド303からのインク340の吐出によってインク補充箇所344に形成された補充インク膜341aは、残留しているインク膜341と一体化し、全周にわたって均一なインク膜341として形成される。その後は、図3に示したように再度版胴320上の版へのインクの転写及び基板31への印刷が可能である。   As described above, the head 303 is configured such that a part of the ink film 341 is transferred and removed from the surface of the anilox roll 310 by the transfer, that is, the entire surface of the anilox roll 310 with respect to the ink replenishment portion 344. Ink 340 is ejected so that the ink film 341 is formed uniformly around the periphery. A pattern (ink replenishment pattern) in which the ink 340 is ejected in this step is stored in the storage unit 302 in advance. Based on the position of the anilox roll 310 and the ink replenishment pattern obtained from the angle detection unit 313, the control unit 301 controls the drive unit 312 so that the ink replenishment point 344 of the anilox roll 310 accurately faces the head 303. . The replenishment ink film 341 a formed at the ink replenishment portion 344 by the ejection of the ink 340 from the head 303 is integrated with the remaining ink film 341 and formed as a uniform ink film 341 over the entire circumference. Thereafter, as shown in FIG. 3, the ink can be transferred to the plate on the plate cylinder 320 and printed onto the substrate 31 again.

次に、前述した印刷装置300を用いて製造される発光装置の製造方法について説明する。なお、以下の説明では、有機EL素子により発生した光を有機EL素子が形成された基板を介して外部に出射するボトムエミッション型の有機EL素子を用いたアクティブ駆動方式の発光装置を例に挙げて説明する。また、本明細書における発光装置は表示装置としても用いられる。   Next, a method for manufacturing a light emitting device manufactured using the printing apparatus 300 described above will be described. In the following description, an active drive type light emitting device using a bottom emission type organic EL element that emits light generated by the organic EL element to the outside through a substrate on which the organic EL element is formed is taken as an example. I will explain. The light-emitting device in this specification is also used as a display device.

図5に示す発光装置10は、前述の基板31上に形成される。発光装置10がカラー表示を行うものである場合、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の何れかの発光色で発光する発光素子を有する3つの画素30(30R、30G、30B)を一組として、この組が行方向(図5の左右方向)に繰り返し複数個、例えばm個配列されるとともに、列方向(図5の上下方向)に同一色の発光色の発光素子を有する画素が複数個、例えばn個配列されている。換言すれば、画素自体は行方向に3m個配列されており、RGBの各色を発光する画素はマトリクス状に、3m×n個配列される。   The light emitting device 10 shown in FIG. 5 is formed on the substrate 31 described above. When the light emitting device 10 performs color display, three pixels 30 (30R) each having a light emitting element that emits light in any one of three colors of red (R), green (G), and blue (B). , 30G, 30B) as a set, a plurality of sets, for example, m, are repeatedly arranged in the row direction (left-right direction in FIG. 5), and the same emission color in the column direction (up-down direction in FIG. 5). A plurality of, for example, n pixels each having the light emitting element are arranged. In other words, 3m pixels are arranged in the row direction, and 3m × n pixels emitting each color of RGB are arranged in a matrix.

以下、発光装置10を構成する画素30について説明する。なお、本実施形態において、画素30R,30G,30Bの構成は、後述する発光層がそれぞれ発光層45R,45G,45Bであることを除いて同一である。従って、以下で個別の画素としては画素30Gを例に挙げて説明する。   Hereinafter, the pixels 30 constituting the light emitting device 10 will be described. In the present embodiment, the configuration of the pixels 30R, 30G, and 30B is the same except that the light emitting layers described later are the light emitting layers 45R, 45G, and 45B, respectively. Accordingly, the pixel 30G will be described below as an example of the individual pixel.

画素30Gは、図6に示すように、画素回路DSを有して構成されている。画素回路DSは、例えば図6に示すように、選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12、キャパシタCs、有機EL素子(発光素子)OELと、を備える。   As shown in FIG. 6, the pixel 30G includes a pixel circuit DS. For example, as illustrated in FIG. 6, the pixel circuit DS includes a selection transistor Tr11, a drive transistor Tr12, a capacitor Cs, and an organic EL element (light emitting element) OEL.

図6に示すように、選択トランジスタTr11は、ゲート端子が走査ラインLsに、ドレイン端子がデータラインLdに、ソース端子が接点N11にそれぞれ接続される。また、駆動トランジスタTr12は、ゲート端子が接点N11に接続されており、ドレイン端子がアノードラインLaに、ソース端子が接点N12にそれぞれ接続されている。キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート端子及びソース端子に接続されている。なお、キャパシタCsは、駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間に付加的に設けられた補助容量、もしくは駆動トランジスタTr12のゲート−ソース間の寄生容量と補助容量からなる容量成分である。また、有機EL素子OELは、アノード電極(画素電極42)が接点N12に接続され、カソード電極(対向電極46)に基準電圧Vssが印加されている。   As shown in FIG. 6, the selection transistor Tr11 has a gate terminal connected to the scanning line Ls, a drain terminal connected to the data line Ld, and a source terminal connected to the contact N11. The drive transistor Tr12 has a gate terminal connected to the contact N11, a drain terminal connected to the anode line La, and a source terminal connected to the contact N12. The capacitor Cs is connected to the gate terminal and the source terminal of the drive transistor Tr12. Note that the capacitor Cs is an auxiliary capacitance additionally provided between the gate and the source of the driving transistor Tr12 or a capacitance component including a parasitic capacitance and an auxiliary capacitance between the gate and the source of the driving transistor Tr12. In the organic EL element OEL, the anode electrode (pixel electrode 42) is connected to the contact N12, and the reference voltage Vss is applied to the cathode electrode (counter electrode 46).

走査ラインLsは、画素基板の周縁部に配置された走査ドライバ(図示せず)に接続されており、所定タイミングで行方向に配列された複数の画素30を選択状態に設定するための選択電圧信号(走査信号)が印加される。また、データラインLdは、画素基板の周縁部に配置されたデータドライバ(図示せず)に接続され、上記画素30の選択状態に同期するタイミングで発光データに応じたデータ電圧(階調信号)が印加される。行方向に配列された複数の駆動トランジスタTr12が、当該駆動トランジスタTr12に接続された有機EL素子OELの画素電極42(例えばアノード電極)に発光データに応じた駆動電流を流す状態に設定するように、アノードラインLa(供給電圧ライン)は、所定の高電位電源に直接又は間接的に接続されている。つまり、アノードラインLaは、有機EL素子OELの対向電極46に印加される基準電圧Vssより十分電位の高い所定の高電位(供給電圧Vdd)が印加される。また、対向電極46は、例えば、所定の低電位電源に直接又は間接的に接続され、基板31上にアレイ状に配列された全ての画素30に対して単一の電極層により形成されており、所定の低電圧(基準電圧Vss、例えば接地電位GND)が共通に印加されるように設定されている。   The scanning line Ls is connected to a scanning driver (not shown) arranged on the peripheral edge of the pixel substrate, and a selection voltage for setting a plurality of pixels 30 arranged in the row direction at a predetermined timing to a selected state. A signal (scanning signal) is applied. The data line Ld is connected to a data driver (not shown) arranged at the peripheral edge of the pixel substrate, and a data voltage (grayscale signal) corresponding to light emission data at a timing synchronized with the selection state of the pixel 30. Is applied. A plurality of drive transistors Tr12 arranged in the row direction are set to a state in which a drive current corresponding to light emission data flows through the pixel electrode 42 (for example, an anode electrode) of the organic EL element OEL connected to the drive transistor Tr12. The anode line La (supply voltage line) is directly or indirectly connected to a predetermined high potential power source. In other words, the anode line La is applied with a predetermined high potential (supply voltage Vdd) sufficiently higher than the reference voltage Vss applied to the counter electrode 46 of the organic EL element OEL. The counter electrode 46 is directly or indirectly connected to, for example, a predetermined low potential power source, and is formed of a single electrode layer for all the pixels 30 arranged in an array on the substrate 31. The predetermined low voltage (reference voltage Vss, for example, ground potential GND) is set to be applied in common.

また、アノードラインLaと走査ラインLsとは、各トランジスタTr11、Tr12のソース電極、ドレイン電極とを形成するソース−ドレイン導電層を用いてこれらソース電極、ドレイン電極とともに形成される。データラインLdは、各トランジスタTr11、Tr12のゲート電極となるゲート導電層を用いてゲート電極とともに形成される。データラインLdとドレイン電極Tr11dとの間の絶縁膜32には、図7に示すように、コンタクトホール61が形成され、データラインLdとドレイン電極Tr11dとはコンタクトホール61を介して導通している。走査ラインLsとゲート電極Tr11gの両端との間の絶縁膜32には、それぞれコンタクトホール62、63が形成され、走査ラインLsとゲート電極Tr11gとはコンタクトホール62、63を介して導通している。ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとの間の絶縁膜32には、コンタクトホール64が形成され、ソース電極Tr11sとゲート電極Tr12gとはコンタクトホール64を介して導通している。なお、絶縁膜32は、絶縁性材料、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等から形成され、データラインLd、ゲート電極Tr11g及びゲート電極Tr12gを覆うように基板31上に形成される。   The anode line La and the scanning line Ls are formed together with the source electrode and the drain electrode by using a source-drain conductive layer that forms the source electrode and the drain electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. The data line Ld is formed together with the gate electrode using a gate conductive layer that becomes a gate electrode of each of the transistors Tr11 and Tr12. As shown in FIG. 7, a contact hole 61 is formed in the insulating film 32 between the data line Ld and the drain electrode Tr11d, and the data line Ld and the drain electrode Tr11d are conducted through the contact hole 61. . Contact holes 62 and 63 are respectively formed in the insulating film 32 between the scanning line Ls and both ends of the gate electrode Tr11g, and the scanning line Ls and the gate electrode Tr11g are electrically connected through the contact holes 62 and 63. . A contact hole 64 is formed in the insulating film 32 between the source electrode Tr11s and the gate electrode Tr12g, and the source electrode Tr11s and the gate electrode Tr12g are electrically connected via the contact hole 64. The insulating film 32 is formed of an insulating material, such as a silicon oxide film or a silicon nitride film, and is formed on the substrate 31 so as to cover the data line Ld, the gate electrode Tr11g, and the gate electrode Tr12g.

次に、有機EL素子OELは、図8に示すように、画素電極42と、正孔注入層43と、インターレイヤ層44と、発光層45Gと、対向電極46と、を備える。なお、図8では、説明の便宜上、発光に寄与する発光機能層として正孔注入層43と発光層45Gとを備える構成を例に挙げている。この他に、発光機能層は、発光層45Gのみであってもよく、正孔注入層43と発光層45Gとを備えていてもよい。   Next, as shown in FIG. 8, the organic EL element OEL includes a pixel electrode 42, a hole injection layer 43, an interlayer layer 44, a light emitting layer 45 </ b> G, and a counter electrode 46. In FIG. 8, for convenience of explanation, a configuration including a hole injection layer 43 and a light emitting layer 45G as a light emitting functional layer contributing to light emission is taken as an example. In addition, the light emitting functional layer may be only the light emitting layer 45G or may include the hole injection layer 43 and the light emitting layer 45G.

各画素の基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなる選択トランジスタTr11、駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr11g、Tr12gが形成されている。各画素に隣接した基板31上には、ゲート導電層をパターニングしてなり、列方向に沿って延びるデータラインLdが形成されている。   On the substrate 31 of each pixel, a selection transistor Tr11 obtained by patterning a gate conductive layer and gate electrodes Tr11g and Tr12g of the drive transistor Tr12 are formed. On the substrate 31 adjacent to each pixel, a data line Ld extending in the column direction is formed by patterning the gate conductive layer.

画素電極(アノード電極)42は、透光性を備える導電材料、例えばITO(Indium Tin Oxide)、ZnO等から構成される。各画素電極42は隣接する他の画素30の画素電極42と層間絶縁膜47によって絶縁されている。   The pixel electrode (anode electrode) 42 is made of a conductive material having translucency, for example, ITO (Indium Tin Oxide), ZnO, or the like. Each pixel electrode 42 is insulated from the pixel electrode 42 of another adjacent pixel 30 by an interlayer insulating film 47.

層間絶縁膜47は、絶縁性材料、例えばシリコン窒化膜から形成されている。層間絶縁膜47は、画素電極42間に形成され、トランジスタTr11、Tr12や走査ラインLs、アノードラインLaを絶縁保護する。層間絶縁膜47には略方形の開口部47aが形成されており、この開口部47aによって画素30Gの発光領域が画される。更に層間絶縁膜47上には隔壁48が形成されている。隔壁48には列方向(図7の上下方向)に延びる溝状の開口部48aが複数の画素30にわたって形成されている。ここで、層間絶縁膜47及びその上に形成される隔壁48は、行方向に隣接して配列される各画素30の発光領域間の間隙領域を形成している。   The interlayer insulating film 47 is made of an insulating material such as a silicon nitride film. The interlayer insulating film 47 is formed between the pixel electrodes 42 and insulates and protects the transistors Tr11 and Tr12, the scanning line Ls, and the anode line La. A substantially rectangular opening 47a is formed in the interlayer insulating film 47, and the light emitting region of the pixel 30G is defined by the opening 47a. Further, a partition wall 48 is formed on the interlayer insulating film 47. The partition wall 48 is formed with a groove-shaped opening 48 a extending in the column direction (vertical direction in FIG. 7) over the plurality of pixels 30. Here, the interlayer insulating film 47 and the partition wall 48 formed thereon form a gap region between the light emitting regions of the pixels 30 arranged adjacent to each other in the row direction.

隔壁48は、絶縁材料、例えばポリイミド等の感光性樹脂を硬化してなり、層間絶縁膜47上に形成される。隔壁48は、図7に示すように列方向に沿った複数の画素の画素電極42をまとめて開口するようにストライプ状に形成されている。なお、隔壁48の平面形状は、これに限られず各画素電極42毎に開口部をもった格子状であってもよい。また、隔壁48の上面は、発光層45R,45G,45Bの中央の平坦部の上面より高くなるように形成される。   The partition wall 48 is formed by curing an insulating material, for example, a photosensitive resin such as polyimide, and is formed on the interlayer insulating film 47. As shown in FIG. 7, the partition wall 48 is formed in a stripe shape so as to open the pixel electrodes 42 of a plurality of pixels along the column direction. The planar shape of the partition wall 48 is not limited to this, and may be a lattice shape having an opening for each pixel electrode 42. The upper surface of the partition wall 48 is formed to be higher than the upper surface of the flat portion at the center of the light emitting layers 45R, 45G, and 45B.

なお、隔壁48の表面、層間絶縁膜47の表面に撥液処理を施してもよい。ここで撥液とは、水系の溶媒、有機系溶媒のいずれをも弾く性質を示す。   Note that the surface of the partition wall 48 and the surface of the interlayer insulating film 47 may be subjected to a liquid repellent treatment. Here, the liquid repellency indicates the property of repelling both aqueous solvents and organic solvents.

正孔注入層43は、画素電極42上に形成されている。正孔注入層43は発光層45に正孔を供給する機能を有する。正孔注入層43は正孔(ホール)注入・輸送が可能な有機高分子系の材料、例えばPEDOT:PSS(導電性ポリマーであるポリエチレンジオキシチオフェンとドーパントであるポリスチレンスルホン酸との混合物)から構成される。   The hole injection layer 43 is formed on the pixel electrode 42. The hole injection layer 43 has a function of supplying holes to the light emitting layer 45. The hole injection layer 43 is made of an organic polymer material capable of hole injection / transport, such as PEDOT: PSS (a mixture of polyethylenedioxythiophene as a conductive polymer and polystyrenesulfonic acid as a dopant). Composed.

インターレイヤ層44は、正孔注入層43上に形成されている。インターレイヤ層44は、電子をブロックして発光層45G内において電子と正孔とを再結合させやすくする機能を有し、発光層45Gの発光効率を高める。   The interlayer layer 44 is formed on the hole injection layer 43. The interlayer layer 44 has a function of blocking electrons to facilitate recombination of electrons and holes in the light emitting layer 45G, and increases the light emission efficiency of the light emitting layer 45G.

発光層45Gは、正孔注入層43上に形成されている。発光層45G(及びR,B)は、アノード電極42とカソード電極46との間に電圧を印加することにより各画素の発光色の光を発生する機能を有する。発光層45Gは、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料、例えばポリパラフェニレンビニレン系やポリフルオレン系等の共役二重結合ポリマーを含む発光材料から構成される。また、これらの発光材料は、適宜水系溶媒あるいはテトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン等の有機溶媒に溶解(又は分散)した溶液(分散液)を塗布し、溶媒を揮発させることによって形成する。   The light emitting layer 45G is formed on the hole injection layer 43. The light emitting layer 45G (and R, B) has a function of generating light of the emission color of each pixel by applying a voltage between the anode electrode 42 and the cathode electrode 46. The light emitting layer 45G is made of a known polymer light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence, for example, a light emitting material containing a conjugated double bond polymer such as polyparaphenylene vinylene or polyfluorene. These luminescent materials are formed by applying a solution (dispersion) dissolved (or dispersed) in an aqueous solvent or an organic solvent such as tetralin, tetramethylbenzene, mesitylene, and xylene as appropriate, and volatilizing the solvent.

対向電極(カソード電極)46は、ボトムエミッション型の場合、発光層45G側に設けられ、導電材料、例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる電子注入性の下層と、Al等の光反射性導電金属からなる上層を有する積層構造である。本実施形態では、対向電極46は複数の画素30に跨って形成される単一の電極層から構成され、例えば接地電位である基準電圧Vssが印加されている。なお、有機EL素子OELをトップエミッション型とする場合、対向電極46は、発光層45G側に設けられ、10nm程度の膜厚の極薄い例えばLi、Mg、Ca、Ba等の仕事関数の低い材料からなる低仕事関数層と、100nm〜200nm程度の膜厚のITO等の光透過性導電層を有する透明積層構造とする。   In the case of the bottom emission type, the counter electrode (cathode electrode) 46 is provided on the light emitting layer 45G side, and an electron-injecting lower layer made of a conductive material, for example, a material having a low work function such as Li, Mg, Ca, Ba, It is a laminated structure having an upper layer made of a light-reflective conductive metal such as Al. In the present embodiment, the counter electrode 46 is composed of a single electrode layer formed across a plurality of pixels 30, and for example, a reference voltage Vss which is a ground potential is applied. When the organic EL element OEL is a top emission type, the counter electrode 46 is provided on the light emitting layer 45G side and is an extremely thin material having a film thickness of about 10 nm, such as Li, Mg, Ca, Ba, or the like, which has a low work function. And a transparent laminated structure having a light transmissive conductive layer such as ITO having a thickness of about 100 nm to 200 nm.

対向電極46の上には、パッシベーション膜49が設けられる。パッシベーション膜49の上に接着層50が設けられる。そして、接着層50の上に封止基板51が設けられている。   A passivation film 49 is provided on the counter electrode 46. An adhesive layer 50 is provided on the passivation film 49. A sealing substrate 51 is provided on the adhesive layer 50.

次に、本実施形態に係る発光装置の製造方法を、図9(a)〜(c)及び図10(a)〜(c)を用いて説明する。なお、選択トランジスタTr11は駆動トランジスタTr12と同一工程によって形成されるので、選択トランジスタTr11の形成の説明を一部省略する。   Next, a method for manufacturing the light emitting device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 9 (a) to 9 (c) and FIGS. 10 (a) to 10 (c). Since the selection transistor Tr11 is formed in the same process as the driving transistor Tr12, a part of the description of the formation of the selection transistor Tr11 is omitted.

図9(a)に示すように、まず、ガラス基板等からなる基板31を用意する。次に、この基板31上に、スパッタ法、真空蒸着法等により例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、AlNi合金膜、MoNb合金膜等からなるゲート導電膜を形成し、これを図9(a)に示すように駆動トランジスタTr12のゲート電極Tr12gの形状にパターニングする。この際、図示はしていないが、選択トランジスタTr11のゲート電極Tr11g、及びデータラインLdも形成する。続いて、図9(b)に示すように、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等によりゲート電極Tr12g及びデータラインLd上に絶縁膜32を形成する。   As shown in FIG. 9A, first, a substrate 31 made of a glass substrate or the like is prepared. Next, on the substrate 31, for example, a Mo film, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film or an AlNdTi alloy film, an AlNi alloy film, a MoNb alloy film, etc. A gate conductive film is formed and patterned into the shape of the gate electrode Tr12g of the drive transistor Tr12 as shown in FIG. At this time, although not shown, the gate electrode Tr11g of the selection transistor Tr11 and the data line Ld are also formed. Subsequently, as shown in FIG. 9B, an insulating film 32 is formed on the gate electrode Tr12g and the data line Ld by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or the like.

次に、絶縁膜32上に、CVD法等により、アモルファスシリコン等からなる半導体層を形成する。次に、半導体層上に、CVD法等により、例えばSiN等からなる絶縁膜を形成する。続いて、絶縁膜をフォトリソグラフィ等によりパターニングし、ストッパ膜115を形成する。更に、半導体層及びストッパ膜115上に、CVD法等により、n型不純物が含まれたアモルファスシリコン等からなる膜を形成し、この膜と半導体層とをフォトリソグラフィ等によりパターニングすることで、図9(b)に示すように、半導体層114とオーミックコンタクト層116,117とを形成する。   Next, a semiconductor layer made of amorphous silicon or the like is formed on the insulating film 32 by a CVD method or the like. Next, an insulating film made of, for example, SiN is formed on the semiconductor layer by a CVD method or the like. Subsequently, the insulating film is patterned by photolithography or the like to form the stopper film 115. Further, a film made of amorphous silicon or the like containing n-type impurities is formed on the semiconductor layer and the stopper film 115 by a CVD method or the like, and this film and the semiconductor layer are patterned by photolithography or the like. As shown in FIG. 9B, the semiconductor layer 114 and the ohmic contact layers 116 and 117 are formed.

次に、スパッタ法、真空蒸着法等により絶縁膜32上に、ITO等の透明導電膜、或いは光反射性導電膜及びITO等の透明導電膜を被膜後、フォトリソグラフィによってパターニングして画素電極42を形成する。   Next, a transparent conductive film such as ITO or a light-reflective conductive film and a transparent conductive film such as ITO are coated on the insulating film 32 by sputtering, vacuum deposition, or the like, and then patterned by photolithography to be pixel electrodes 42. Form.

続いて、絶縁膜32に貫通孔であるコンタクトホール61〜64を形成してから、例えば、Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlNdTi合金膜、AlNi合金膜、MoNb合金膜等からなるソース−ドレイン導電膜をスパッタ法、真空蒸着法等により被膜して、フォトリソグラフィによってパターニングして図9(b)に示すようにドレイン電極Tr12d及びソース電極Tr12sを形成する。これと同時に、アノードラインLaを形成する。このとき、駆動トランジスタTr12のソース電極Tr12sはそれぞれ画素電極42の一部と重なるように形成される。   Subsequently, after forming contact holes 61 to 64 as through holes in the insulating film 32, for example, a Mo film, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film, an AlNdTi alloy film, or an AlNi alloy film. Then, a source-drain conductive film made of a MoNb alloy film or the like is coated by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like, and patterned by photolithography to form a drain electrode Tr12d and a source electrode Tr12s as shown in FIG. 9B. . At the same time, the anode line La is formed. At this time, the source electrode Tr12s of the drive transistor Tr12 is formed so as to overlap with a part of the pixel electrode 42, respectively.

続いて、図9(c)に示すように、駆動トランジスタTr12等を覆うようにシリコン窒化膜からなる層間絶縁膜47をCVD法等により形成後、フォトリソグラフィにより、開口部47aを形成する。次に、感光性ポリイミドを、層間絶縁膜47を覆うように塗布し、隔壁48の形状に対応するマスクを介して露光、現像することによってパターニングし、図9(c)に示すように開口部48aを有する隔壁48を形成する。   Subsequently, as shown in FIG. 9C, an interlayer insulating film 47 made of a silicon nitride film is formed by a CVD method or the like so as to cover the driving transistor Tr12 and the like, and then an opening 47a is formed by photolithography. Next, a photosensitive polyimide is applied so as to cover the interlayer insulating film 47, and is patterned by exposure and development through a mask corresponding to the shape of the partition wall 48. As shown in FIG. A partition wall 48 having 48a is formed.

次に、図10(a)に示すように、発光層45Gを形成する。ここでは、正孔注入層となるPEDOT:PSSの溶液をインク340として、前述の印刷装置300により開口部47aで囲まれた画素電極42上に選択的に印刷する。インク340は、PEDOT:PSSに粘度及び表面張力を調整するためのアルコール、非イオン系界面活性剤、エチレングリコール等を添加して、PEDOT:PSSインクとして調整する。続いて、基板31を大気雰囲気下で150℃〜250℃で5〜30分間乾燥を行う。これにより、有機化合物含有液の溶媒を揮発させて、正孔注入層43を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。なお、フレキソ版である版胴320上の版の凸部321のパターンは、印刷される各層のパターンに応じて、フォトリソグラフィ法を用いて予め所定のパターンで形成される。また、正孔注入層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版は画素電極42上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。   Next, as shown in FIG. 10A, a light emitting layer 45G is formed. Here, a PEDOT: PSS solution to be used as a hole injection layer is selectively printed as ink 340 on the pixel electrode 42 surrounded by the opening 47a by the printing apparatus 300 described above. Ink 340 is prepared as PEDOT: PSS ink by adding alcohol, nonionic surfactant, ethylene glycol or the like for adjusting viscosity and surface tension to PEDOT: PSS. Subsequently, the substrate 31 is dried at 150 ° C. to 250 ° C. for 5 to 30 minutes in an air atmosphere. Thereby, the hole injection layer 43 is formed by volatilizing the solvent of the organic compound-containing liquid. The organic compound-containing liquid may be applied in a heated atmosphere. Note that the pattern of the convex portions 321 of the plate on the plate cylinder 320 which is a flexographic plate is formed in advance in a predetermined pattern using a photolithography method in accordance with the pattern of each layer to be printed. In the printing apparatus 300 for the hole injection layer, the thickness of the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is sufficiently higher than the sum of the thickness of the interlayer insulating film 47 and the thickness of the partition wall 48. The plate on 320 can easily protrude the ink 340 of the ink film 342 onto the pixel electrode 42.

次に、図10(b)に示すように、インターレイヤ層44を形成する。ここでは、インターレイヤ層44となる材料を含有する有機化合物含有液をインク340として、印刷装置300により開口部47aで囲まれた正孔注入層43上に印刷する。続いて、窒素またはアルゴン等の不活性雰囲気中の加熱乾燥、或いは真空中での加熱乾燥を行い、残留溶媒の除去を行ってインターレイヤ層44を形成する。有機化合物含有液は加熱雰囲気で塗布されてもよい。なお、正孔注入層43及びインターレイヤ層44は、本実施形態のように複数色の発光層45を備える場合であっても、共通した材料から形成することができる。また、インターレイヤ層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版は正孔注入層43上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。   Next, as shown in FIG. 10B, an interlayer layer 44 is formed. Here, an organic compound-containing liquid containing a material for forming the interlayer layer 44 is printed as ink 340 on the hole injection layer 43 surrounded by the opening 47 a by the printing apparatus 300. Subsequently, heat drying in an inert atmosphere such as nitrogen or argon, or heat drying in a vacuum is performed, and the residual solvent is removed to form the interlayer layer 44. The organic compound-containing liquid may be applied in a heated atmosphere. The hole injection layer 43 and the interlayer layer 44 can be formed of a common material even when the light emitting layer 45 of a plurality of colors is provided as in the present embodiment. In the printing apparatus 300 for the interlayer layer, the thickness of the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is sufficiently higher than the sum of the thickness of the interlayer insulating film 47 and the thickness of the partition wall 48. The upper plate can easily protrude the ink 340 of the ink film 342 on the hole injection layer 43.

次に、発光層45Gを形成する。ここでは、発光ポリマー材料(R、G、B)を含有する有機化合物含有液をインク340として、印刷装置300により開口部47aで囲まれたインターレイヤ層44上に印刷する。インク340は、ポリフルオレン系の高分子発光材料をトルエン、キシレン、メチシレン、テトラメチルベンゼン等の溶媒に溶解させ、所定の濃度に調整する。溶媒は前記の混合溶媒でもよい。続いて、露点−70℃以下の乾燥雰囲気又は真空中で80〜150℃、但し発光層のガラス転移温度以下で10〜30分間加熱し、膜中の溶媒を除去する。また、発光層用の印刷装置300では、版胴320上の版の凸部321の厚さが、層間絶縁膜47の厚さ及び隔壁48の厚さの和より十分高いので、版胴320上の版はインターレイヤ層44上にインク膜342のインク340を容易に突出することができる。   Next, the light emitting layer 45G is formed. Here, the organic compound-containing liquid containing the light emitting polymer material (R, G, B) is printed as the ink 340 on the interlayer layer 44 surrounded by the opening 47a by the printing apparatus 300. The ink 340 is adjusted to a predetermined concentration by dissolving a polyfluorene-based polymer light-emitting material in a solvent such as toluene, xylene, methicylene, or tetramethylbenzene. The solvent may be the above mixed solvent. Subsequently, the film is heated at 80 to 150 ° C. in a dry atmosphere or a vacuum with a dew point of −70 ° C. or lower, but below the glass transition temperature of the light emitting layer for 10 to 30 minutes to remove the solvent in the film. In the printing device 300 for the light emitting layer, the thickness of the convex portion 321 of the plate on the plate cylinder 320 is sufficiently higher than the sum of the thickness of the interlayer insulating film 47 and the thickness of the partition wall 48. In this plate, the ink 340 of the ink film 342 can easily protrude on the interlayer layer 44.

次に、図10(c)に示すように、対向電極46を形成する。ここでは、乾燥雰囲気を保ったまま冷却後、発光層45Gまで形成した基板31に真空蒸着や電子ビーム蒸着法で、Li,Mg,LiF,Ca,Ba等、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はそれらの化合物を蒸着法で形成する。続いて、Al等の光反射性導電層を蒸着法又は電子ビーム蒸着法で形成する。これにより、2層構造の対向電極46が形成される。   Next, as shown in FIG. 10C, the counter electrode 46 is formed. Here, after cooling in a dry atmosphere, the substrate 31 formed up to the light emitting layer 45G is vacuum-deposited or electron-beam-deposited, such as Li, Mg, LiF, Ca, Ba, alkali metal, alkaline earth metal, or Those compounds are formed by vapor deposition. Subsequently, a light-reflective conductive layer such as Al is formed by vapor deposition or electron beam vapor deposition. Thereby, the counter electrode 46 having a two-layer structure is formed.

次に、図8に示したように、対向電極46上にSiNやSiON等を電子ビーム蒸着法、スパッタ法又はCVD法にて成層することにより、パッシベーション膜49を形成する。続いて、パッシベーション膜49上に紫外線硬化樹脂、又は熱硬化樹脂からなる接着層50を塗布し、ガラス又は金属キャップから形成された封止基板51を塗布面に貼り合わせる。続いて、紫外線又は熱によって接着層50を硬化させて、基板31と封止基板51とを接合する。以上により、発光装置10が製造される。   Next, as shown in FIG. 8, a passivation film 49 is formed on the counter electrode 46 by depositing SiN, SiON or the like by electron beam evaporation, sputtering, or CVD. Subsequently, an adhesive layer 50 made of an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin is applied on the passivation film 49, and a sealing substrate 51 formed of glass or a metal cap is bonded to the application surface. Subsequently, the adhesive layer 50 is cured by ultraviolet rays or heat, and the substrate 31 and the sealing substrate 51 are bonded. Thus, the light emitting device 10 is manufactured.

以上説明したように、本実施形態では、フレキソ印刷において、アニロックスロール310上のインク膜341のうち版胴320上の版への転写でインク340が移動して除去された部分にのみ、インクジェット法でインク340を吐出し、均一なインク340を形成する。これにより、従来のフレキソ印刷のようにスクレーパでアニロックスロールの表面上を摺動させてインクを除去する必要がないため、異物の混入を抑制することができる。特に、有機EL素子のようにカソードとアノードとの間が数百nm程度の微細な構造に形成される有機層に本発明を適用する場合、電極間のショートによるダークスポット等の不良が発生する可能性を低減することができるので特に好適である。   As described above, in the present embodiment, in flexographic printing, the ink jet method is applied only to a portion of the ink film 341 on the anilox roll 310 where the ink 340 has been moved and removed by transfer to the plate on the plate cylinder 320. Ink 340 is ejected to form a uniform ink 340. Accordingly, it is not necessary to remove the ink by sliding on the surface of the anilox roll with a scraper as in the conventional flexographic printing, so that foreign matter can be prevented from being mixed. In particular, when the present invention is applied to an organic layer formed in a fine structure of about several hundred nm between the cathode and the anode like an organic EL element, a defect such as a dark spot due to a short between the electrodes occurs. This is particularly preferred because the possibility can be reduced.

(実施形態2)
図11に示すように、実施形態2の印刷装置400は、ヘッド303a,303bの2つのヘッドを備えており、1つのヘッド303を備える実施形態1の印刷装置300と異なっている。なお、以下の説明においては、既に説明した実施形態と同じ構成物には同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
(Embodiment 2)
As illustrated in FIG. 11, the printing apparatus 400 according to the second embodiment includes two heads 303 a and 303 b, and is different from the printing apparatus 300 according to the first embodiment including one head 303. In the following description, the same reference numerals are given to the same components as those of the embodiment described above, and detailed description thereof is omitted.

ヘッド303aにはインク収容部304aが接続されている。インク収容部304aには実施形態1と同じ所定の濃度のインク340が収容されている。ヘッド303aは、実施形態1と同様にインク340をアニロックスロール310に向けて吐出できるように配置されている。   An ink container 304a is connected to the head 303a. The ink storage unit 304a stores the ink 340 having the same predetermined density as that of the first embodiment. The head 303 a is arranged so that the ink 340 can be ejected toward the anilox roll 310 as in the first embodiment.

ヘッド303bにはインク収容部304bが接続されている。インク収容部304bにはインク340より薄い濃度のインクが収容されている。ヘッド303bは、ヘッド303aと同様に基板31の長さ方向(図のX軸方向)に走査しながらアニロックスロール310に向けてインクを吐出できるように配置されている。   An ink container 304b is connected to the head 303b. The ink storage portion 304b stores ink having a density lower than that of the ink 340. Similarly to the head 303a, the head 303b is arranged so that ink can be ejected toward the anilox roll 310 while scanning in the length direction of the substrate 31 (X-axis direction in the drawing).

次に、印刷装置400の動作について説明する。図11に示すように、本実施形態では、図4で説明したようなインクの補充を、ヘッド303a,303bの2つのヘッドで行う。   Next, the operation of the printing apparatus 400 will be described. As shown in FIG. 11, in this embodiment, ink replenishment as described in FIG. 4 is performed by two heads 303a and 303b.

先ず、アニロックスロール310表面のインク補充箇所344に対して、ヘッド303aから所定の濃度のインクを吐出し、補充インク膜341aを形成する。続いて、ヘッド303bから所定の濃度より薄いインクを吐出する。ヘッド303bからのインクの吐出は、アニロックスロール310が回転している間に蒸発した溶媒を補うために、インクが転写されなかった部分に対し吐出するか、またはアニロックスロール310全体に均一に吐出する。このように補充インク膜341aが、残ったインク膜341に接することにより、濃度が相対的に低いインクと、相対的に高いインク340がインク膜341内でインク濃度が均等になるように移動、拡散される。これらのヘッド303a,303bの動作は、実施形態1のヘッド303と同様に、角度検出部313にて検出されたアニロックスロール310の位置に基づいて、制御部301が制御することで行われる。   First, ink of a predetermined density is ejected from the head 303a to the ink replenishment portion 344 on the surface of the anilox roll 310 to form a replenishment ink film 341a. Subsequently, ink thinner than a predetermined density is ejected from the head 303b. Ink is discharged from the head 303b to a portion where the ink has not been transferred, or to the entire anilox roll 310 in order to compensate for the solvent evaporated while the anilox roll 310 is rotating. . In this way, the replenishment ink film 341a contacts the remaining ink film 341, so that the ink having a relatively low density and the ink 340 having a relatively high density move so that the ink density is uniform in the ink film 341. Diffused. The operations of the heads 303a and 303b are performed by the control unit 301 controlling based on the position of the anilox roll 310 detected by the angle detection unit 313, similarly to the head 303 of the first embodiment.

このように、複数種の濃度のインクを塗布することで、全周にわたって濃度及び膜厚の均一性がより高いインク膜341を形成することができる。従って、本実施形態によれば、基板31上に形成されるインク膜343も均一性を向上させることできるため好ましい。   In this way, by applying a plurality of types of inks, it is possible to form the ink film 341 having higher uniformity of density and film thickness over the entire circumference. Therefore, according to the present embodiment, the ink film 343 formed on the substrate 31 is also preferable because the uniformity can be improved.

なお、本実施形態において、印刷条件に応じて、薄い濃度のインクに代えて溶媒のみを使用してもよい。また、本実施形態ではインクジェットヘッドをヘッド303a,303bの2つ設けているが、3つ以上設けてもよく、それぞれのヘッドから濃度の異なるインク又は溶媒のみを吐出することとしてもよい。   In the present embodiment, only a solvent may be used in place of the low-density ink depending on the printing conditions. In this embodiment, two ink jet heads 303a and 303b are provided. However, three or more heads may be provided, and only inks or solvents having different concentrations may be ejected from each head.

(実施形態3)
図12に示すように、実施形態3の印刷装置500は、実施形態1のアニロックスロール310を平面状に展開したアニロックス板350を用いる点で、実施形態1の印刷装置300と異なっている。その他、前述していない構成物についても以下に説明する。
(Embodiment 3)
As illustrated in FIG. 12, the printing apparatus 500 according to the third embodiment is different from the printing apparatus 300 according to the first embodiment in that an anilox plate 350 in which the anilox roll 310 according to the first embodiment is developed in a planar shape is used. Other components not described above will be described below.

アニロックス板350は、本実施形態では矩形の板状体に形成されたインク受容部である。アニロックス板350の一方の主面、即ち版胴320に対向する側の面には、アニロックスロール310のセル311に相当する浅い凹部であるセル351が形成されている。セル351は、印刷条件等に応じて所定の深さ、パターン等を有するように設けられている。   In this embodiment, the anilox plate 350 is an ink receiving portion formed in a rectangular plate-like body. A cell 351 that is a shallow recess corresponding to the cell 311 of the anilox roll 310 is formed on one main surface of the anilox plate 350, that is, the surface facing the plate cylinder 320. The cells 351 are provided so as to have a predetermined depth, pattern, and the like according to printing conditions and the like.

アニロックス板ステージ360は、アニロックス板350を固定する台状の部材である。アニロックス板ステージ360は、少なくとも図のY軸方向に移動可能に構成されている。   The anilox plate stage 360 is a table-like member that fixes the anilox plate 350. The anilox plate stage 360 is configured to be movable at least in the Y-axis direction in the drawing.

駆動部361は、実施形態1の駆動部312に相当する。駆動部361は、リニアモータ方式の駆動用モータ(図示せず)を備えており、制御部301の指示に基づいて、アニロックス板ステージ360を所定の位置になるように異動させる。   The drive unit 361 corresponds to the drive unit 312 of the first embodiment. The drive unit 361 includes a linear motor drive motor (not shown), and moves the anilox plate stage 360 to a predetermined position based on an instruction from the control unit 301.

位置検出部362は、実施形態1の角度検出部313に相当する。位置検出部362は、アニロックス板350、アニロックス板ステージ360又は駆動用モータに設けられている位置センサである。位置検出部362は、直接的又は間接的にアニロックス板350の位置を検出し、その位置を示す信号を制御部301に送信する。   The position detection unit 362 corresponds to the angle detection unit 313 of the first embodiment. The position detection unit 362 is a position sensor provided in the anilox plate 350, the anilox plate stage 360, or the drive motor. The position detection unit 362 detects the position of the anilox plate 350 directly or indirectly, and transmits a signal indicating the position to the control unit 301.

ヘッド駆動部306は、ヘッド303を図のY軸方向に移動させヘッド303を図のX軸方向に走査させる。   The head driving unit 306 moves the head 303 in the Y-axis direction in the drawing and scans the head 303 in the X-axis direction in the drawing.

ヘッド駆動部306は、実施形態1のヘッド駆動部305に相当する。ヘッド駆動部306は、X軸方向及びY軸方向にわたるガイドレールを備えており(図12ではY軸方向のみ)、ヘッド303を図のX軸方向のみならずY軸方向に走査可能である点で、ヘッド駆動部305と異なっている。また、ヘッド駆動部306は、制御部301の指示に基づいて、ヘッド303が内蔵するピエゾ素子を駆動してインク340を吐出させる。   The head driving unit 306 corresponds to the head driving unit 305 of the first embodiment. The head driving unit 306 includes guide rails extending in the X-axis direction and the Y-axis direction (only the Y-axis direction in FIG. 12), and the head 303 can scan not only in the X-axis direction but also in the Y-axis direction. Therefore, the head driving unit 305 is different. Further, the head drive unit 306 drives a piezo element built in the head 303 based on an instruction from the control unit 301 to discharge the ink 340.

次に、本実施形態の印刷装置500の動作について図12及び図13を参照して説明する。   Next, the operation of the printing apparatus 500 of this embodiment will be described with reference to FIGS.

先ず、ヘッド303は、アニロックス板350の表面にインク340を吐出する。これにより、アニロックス板350の全面にインク膜341が形成される。このとき、版胴320は、インク340の吐出に干渉しない場所に待機している。   First, the head 303 ejects ink 340 onto the surface of the anilox plate 350. As a result, an ink film 341 is formed on the entire surface of the anilox plate 350. At this time, the plate cylinder 320 stands by in a place where it does not interfere with the ejection of the ink 340.

次に、図12に示すように、版胴320がアニロックス板350上の所定の位置に移動する。続いて、版胴320は版胴320上の版をアニロックス板350に当接しながら矢印C1の方向に回転するとともに矢印C2の方向に進行する。また、アニロックス板350を載置するアニロックス板ステージ360は矢印C2と反対方向の矢印R1の方向に移動する。これにより、インク膜341が版胴320上の版に転写され、版胴320上の版の表面には実施形態1の図3で示したようなインク膜342が形成される。なお、版胴320上の版へのインクの転写の際にアニロックス板350は停止していてもよいが、インク転写のための適当な押圧で剪断力を得るために、版胴320の進行方向と逆方向(矢印R1)に進行することが好ましい。   Next, as shown in FIG. 12, the plate cylinder 320 moves to a predetermined position on the anilox plate 350. Subsequently, the plate cylinder 320 rotates in the direction of the arrow C1 while moving the plate on the plate cylinder 320 in contact with the anilox plate 350 and advances in the direction of the arrow C2. Further, the anilox plate stage 360 on which the anilox plate 350 is placed moves in the direction of the arrow R1 opposite to the arrow C2. As a result, the ink film 341 is transferred to the plate on the plate cylinder 320, and the ink film 342 as shown in FIG. 3 of the first embodiment is formed on the surface of the plate on the plate cylinder 320. The anilox plate 350 may be stopped during the transfer of the ink onto the plate on the plate cylinder 320. However, in order to obtain a shearing force with an appropriate pressure for the ink transfer, the traveling direction of the plate cylinder 320 It is preferable to proceed in the opposite direction (arrow R1).

次に、図13に示すように、版胴320は実施形態1の図4と同様に基板31に印刷を行う。これにより、基板31上にインク膜343が形成される。また、ヘッド303は、アニロックス板350上のインク膜341のうちインク340が移動して除去された部分354にインク340を補充する。このとき、ヘッド駆動部306はヘッド303を矢印S1の方向に移動させ、駆動部361はアニロックス板ステージ360を矢印S1と反対方向の矢印R1の方向に移動させる。版胴320が基板31に転写している間に、ヘッド303がインク膜341のうちインク340が移動して除去された部分354にインク340を補充すれば、版胴320が基板31への転写完了後、再度アニロックス板350上のインク膜341に接することによって次の転写のためのインクが速やかに供給され、より製造効率を向上することができる。   Next, as shown in FIG. 13, the plate cylinder 320 performs printing on the substrate 31 as in FIG. 4 of the first embodiment. Thereby, an ink film 343 is formed on the substrate 31. Further, the head 303 replenishes the ink 340 to the portion 354 of the ink film 341 on the anilox plate 350 where the ink 340 has moved and removed. At this time, the head drive unit 306 moves the head 303 in the direction of the arrow S1, and the drive unit 361 moves the anilox plate stage 360 in the direction of the arrow R1 opposite to the arrow S1. While the plate cylinder 320 is transferred to the substrate 31, if the head 303 replenishes the ink 340 in the portion 354 where the ink 340 has moved and removed from the ink film 341, the plate cylinder 320 is transferred to the substrate 31. After completion, the ink for the next transfer is rapidly supplied by coming into contact with the ink film 341 on the anilox plate 350 again, and the manufacturing efficiency can be further improved.

本実施形態の印刷装置500のように、アニロックスロール310を平面化しアニロックス板350とすることで、メンテナンス性を向上させることができる。なお、ヘッド駆動部306に代えて、実施形態1と同様のヘッド駆動部305を使用することとしてもよい。この場合、ヘッド303の駆動機構を簡略化又は省略(後述のラインヘッド方式の場合)することが可能となり、アニロックス板ステージ360が動くことでアニロックス板340全体にインク340が塗布される。   As in the printing apparatus 500 of the present embodiment, the anilox roll 310 is planarized to form the anilox plate 350, so that maintainability can be improved. Instead of the head driving unit 306, a head driving unit 305 similar to that of the first embodiment may be used. In this case, the drive mechanism of the head 303 can be simplified or omitted (in the case of a line head system described later), and the ink 340 is applied to the entire anilox plate 340 by the movement of the anilox plate stage 360.

(実施形態4)
図14に示すように、実施形態4の印刷装置600は、ヘッド303を実施形態2と同様のヘッド303a,303bの2つとしている点で、実施形態3の印刷装置500と異なっている。
(Embodiment 4)
As illustrated in FIG. 14, the printing apparatus 600 according to the fourth embodiment is different from the printing apparatus 500 according to the third embodiment in that the head 303 includes two heads 303 a and 303 b similar to the second embodiment.

印刷装置600の動作は、基本的には印刷装置500と同様である。また、実施形態2と同様に、ヘッド303aは所定の濃度のインク340を吐出し、ヘッド303bはインク340より薄い濃度のインク又は溶媒のみを吐出する。ヘッド303bは、アニロックス板350の表面の一部又は全部にインク又は溶媒を塗布することが可能である。   The operation of the printing apparatus 600 is basically the same as that of the printing apparatus 500. Similarly to the second embodiment, the head 303 a ejects ink 340 having a predetermined density, and the head 303 b ejects only ink or solvent having a density lower than that of the ink 340. The head 303 b can apply ink or a solvent to part or all of the surface of the anilox plate 350.

(実施形態5)
図15に示すように、実施形態5の印刷装置700は、2つのアニロックス板350a,350bを備える点、及び、2つのクリーニングユニット371,372を備える点において、実施形態3の印刷装置500と異なっている。なお、簡略化のため図示は省略しているが、以下で説明する以外の構成は実施形態3と同様である。
(Embodiment 5)
As shown in FIG. 15, the printing apparatus 700 of the fifth embodiment is different from the printing apparatus 500 of the third embodiment in that it includes two anilox plates 350 a and 350 b and two cleaning units 371 and 372. ing. Although illustration is omitted for simplification, configurations other than those described below are the same as those in the third embodiment.

アニロックス板350a,350bは、それぞれ実施形態3のアニロックス板350と同様である。本実施形態では、アニロックス板350a,350bは共通のアニロックス板ステージ360上に載置されている。また、本実施形態では、制御部301の指示に基づいて、駆動部361はアニロックス板ステージ360を図のY軸方向のみならずX軸方向(矢印A1)に移動させることが可能である。   The anilox plates 350a and 350b are the same as the anilox plate 350 of the third embodiment, respectively. In this embodiment, the anilox plates 350a and 350b are placed on a common anilox plate stage 360. Further, in the present embodiment, based on an instruction from the control unit 301, the drive unit 361 can move the anilox plate stage 360 not only in the Y axis direction but also in the X axis direction (arrow A1).

また、アニロックス板ステージ360は、矢印A1の方向に移動する場合、主に2つの状態となることができるように構成されている。1つは、図15に示すように、アニロックス板350aがクリーニング位置Pc1に位置しアニロックス板350bがインク転写位置P0に位置する状態である。もう1つは、アニロックス板350aがインク転写位置P0に位置しアニロックス板350bがクリーニング位置Pc2に位置する状態である。なお、アニロックス板ステージ360をアニロックス板350aに対するものとアニロックス板350bに対するものとで分けてもよいが、本実施形態のように一体である場合には2つのアニロックス板の相対的な位置関係が変わらないというメリットがある。   Further, the anilox plate stage 360 is configured to be mainly in two states when moving in the direction of the arrow A1. One is a state where the anilox plate 350a is located at the cleaning position Pc1 and the anilox plate 350b is located at the ink transfer position P0 as shown in FIG. The other is a state in which the anilox plate 350a is positioned at the ink transfer position P0 and the anilox plate 350b is positioned at the cleaning position Pc2. The anilox plate stage 360 may be divided into those for the anilox plate 350a and those for the anilox plate 350b. However, when the anilox plate stage 360 is integrated as in this embodiment, the relative positional relationship between the two anilox plates changes. There is no merit.

クリーニングユニット371は、アニロックス板350aがクリーニング位置Pc1にあるときに,アニロックス板350a上を走査し、洗浄、ワイプ、大気圧プラズマクリーニング、UV(紫外線)照射等を行う洗浄装置である。これにより、クリーニングユニット371はアニロックス板350aのメンテナンスを行うことができる。   The cleaning unit 371 is a cleaning device that scans the anilox plate 350a and performs cleaning, wipe, atmospheric pressure plasma cleaning, UV (ultraviolet) irradiation, and the like when the anilox plate 350a is at the cleaning position Pc1. Accordingly, the cleaning unit 371 can perform maintenance on the anilox plate 350a.

クリーニングユニット372は、アニロックス板350bがクリーニング位置Pc2にあるときに,アニロックス板350b上を走査し、洗浄、ワイプ、大気圧プラズマクリーニング、UV(紫外線)照射等を行う洗浄装置である。これにより、クリーニングユニット372はアニロックス板350bのメンテナンスを行うことができる。なお、クリーニングユニット371,372は共に制御部301の指示に従って動作し、図のY軸方向(矢印H1)に移動可能である。   The cleaning unit 372 is a cleaning device that scans the anilox plate 350b and performs cleaning, wipe, atmospheric pressure plasma cleaning, UV (ultraviolet) irradiation, and the like when the anilox plate 350b is at the cleaning position Pc2. Accordingly, the cleaning unit 372 can perform maintenance on the anilox plate 350b. The cleaning units 371 and 372 operate according to instructions from the control unit 301 and can move in the Y-axis direction (arrow H1) in the figure.

次に印刷装置700の動作について説明する。アニロックス板350a又はアニロックス板350bへのインク340の塗布、及び版胴320上の版へのインク340の転写は、図15のインク転写位置P0にて行われる。これ以降、基板31への印刷までの動作は、実施形態3と同様である。版胴320は図のY軸方向(矢印C3)に往復し、上記の工程を繰り返す。   Next, the operation of the printing apparatus 700 will be described. Application of the ink 340 to the anilox plate 350a or the anilox plate 350b and transfer of the ink 340 to the plate on the plate cylinder 320 are performed at the ink transfer position P0 in FIG. Subsequent operations up to printing on the substrate 31 are the same as those in the third embodiment. The plate cylinder 320 reciprocates in the Y-axis direction (arrow C3) in the figure and repeats the above steps.

また、本実施形態では、2つのアニロックス板350a,350bを交互に使用する。例えば、アニロックス板350aを使用して前述の印刷を行った後、印刷回数が規定回数に達すると、駆動部361はアニロックス板350aがクリーニング位置Pc1になるように、アニロックス板ステージ360を移動させる。   In this embodiment, two anilox plates 350a and 350b are used alternately. For example, after performing the above-described printing using the anilox plate 350a, when the number of times of printing reaches a specified number, the drive unit 361 moves the anilox plate stage 360 so that the anilox plate 350a is at the cleaning position Pc1.

続いて、クリーニングユニット371は、アニロックス板350aの表面を上記の方法でクリーニングする。   Subsequently, the cleaning unit 371 cleans the surface of the anilox plate 350a by the above method.

アニロックス板350aがクリーニング位置Pc1でメンテナンス中、印刷に使用可能であるアニロックス板350bはインク転写位置P0に位置する。従って、アニロックス板350aのメンテナンスと並行して、アニロックス板350bを使用して印刷を続行することができる。アニロックス板350bを使用して規定回数の印刷が終了すると、駆動部361はアニロックス板350bがクリーニング位置Pc2になるように、アニロックス板ステージ360を移動させる。以降、同様にアニロックス板350aとアニロックス板350bの印刷への使用とメンテナンスとを交互に行う。   During the maintenance of the anilox plate 350a at the cleaning position Pc1, the anilox plate 350b that can be used for printing is located at the ink transfer position P0. Accordingly, printing can be continued using the anilox plate 350b in parallel with the maintenance of the anilox plate 350a. When the specified number of times of printing is completed using the anilox plate 350b, the driving unit 361 moves the anilox plate stage 360 so that the anilox plate 350b is at the cleaning position Pc2. Thereafter, similarly, the use of the anilox plate 350a and the anilox plate 350b for printing and maintenance are performed alternately.

以上説明したように、複数のインク受容部(アニロックス板350a,350b)を設けることで、印刷装置としての稼働率を向上させることができる。なお、本実施形態ではアニロックス板を使用する場合を記載しているが、実施形態1のようなアニロックスロールを2組用意し、印刷への使用とメンテナンスとを交互に行うこととしてもよい。また、本実施形態では図示の便宜上2つのクリーニングユニット371,372を使用しているが、一体の洗浄装置として構成してもよい。   As described above, by providing a plurality of ink receiving portions (anilox plates 350a and 350b), it is possible to improve the operation rate as a printing apparatus. In this embodiment, the case where an anilox plate is used is described. However, two sets of anilox rolls as in the first embodiment may be prepared and used for printing and maintenance alternately. In this embodiment, two cleaning units 371 and 372 are used for convenience of illustration, but they may be configured as an integrated cleaning device.

なお、実施形態1で説明した発光装置10の製造方法は、印刷装置300を使用した例で説明しているが、印刷装置400,500,600,700を使用することとしてもよい。また、発光装置10は、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、携帯電話等の電子機器の表示部(ディスプレイ)として用いられる。具体的には、カメラ200は、例えば図16(a)及び(b)に示すように、レンズ部201と、操作部202と、表示部203と、ファインダー204と、を備える。この表示部203として、発光装置10が用いられる。同様に、図17に示すパーソナルコンピュータ210は表示部211と操作部212とを備え、発光装置10は、表示部211として用いられる。また、図18に示す携帯電話220は表示部221と操作部222と受話部223と送話部224とを備え、発光装置10は表示部221として用いられる。また、図19に示す大画面テレビ230は、表示部231を備え、この表示部231に発光装置10が用いられる。   In addition, although the manufacturing method of the light-emitting device 10 demonstrated in Embodiment 1 is demonstrated in the example using the printing apparatus 300, it is good also as using the printing apparatus 400,500,600,700. The light emitting device 10 is used as a display unit (display) of an electronic device such as a digital camera, a personal computer, or a mobile phone. Specifically, the camera 200 includes a lens unit 201, an operation unit 202, a display unit 203, and a viewfinder 204, for example, as shown in FIGS. 16 (a) and 16 (b). The light emitting device 10 is used as the display unit 203. Similarly, the personal computer 210 illustrated in FIG. 17 includes a display unit 211 and an operation unit 212, and the light emitting device 10 is used as the display unit 211. 18 includes a display unit 221, an operation unit 222, a reception unit 223, and a transmission unit 224, and the light emitting device 10 is used as the display unit 221. Further, the large-screen television 230 illustrated in FIG. 19 includes a display unit 231, and the light emitting device 10 is used for the display unit 231.

以上、各実施形態について説明したが、発明は上述した実施形態、具体例に限定されず、種々の変形及び応用が可能である。   Although the embodiments have been described above, the invention is not limited to the above-described embodiments and specific examples, and various modifications and applications are possible.

例えば、上述した実施形態では、発光装置10がカラー表示を行うものであって、3色の発光素子を備える構成を例に挙げて説明したが、これに限られず2色又は4色以上であってもよい。また、発光装置10が単色表示を行うものである場合、1色の発光素子のみを備える。   For example, in the above-described embodiment, the light emitting device 10 performs color display and has been described by taking a configuration including light emitting elements of three colors as an example. However, the present invention is not limited to this, and there are two colors or four colors or more. May be. Moreover, when the light-emitting device 10 performs a monochromatic display, it has only one color light-emitting element.

また、上述した実施形態では、発光機能層は正孔注入層43、インターレイヤ層44及び発光層45(R,G,B)を備える構成を例に挙げているが、これに限られない。例えば、正孔注入層43と発光層45とから発光機能層を構成してもよく、発光層45のみを発光機能層としてもよい。   In the above-described embodiment, the light emitting functional layer has a configuration including the hole injection layer 43, the interlayer layer 44, and the light emitting layer 45 (R, G, B), but is not limited thereto. For example, the light emitting functional layer may be configured by the hole injection layer 43 and the light emitting layer 45, or only the light emitting layer 45 may be used as the light emitting functional layer.

また、上述した実施形態では、画素回路DSは2つのトランジスタを備える構成を例に挙げているが、3つ以上のトランジスタを備えるものであってもよい。   In the above-described embodiment, the pixel circuit DS has a configuration including two transistors as an example. However, the pixel circuit DS may include three or more transistors.

また、上述した実施形態では、ボトムエミッション型の有機EL素子を中心に説明したが、これに限られず有機EL素子OELにより発生した光を、対向電極を介して外部に出射するトップエミッション型の有機EL素子に用いることも可能である。   In the above-described embodiment, the description is centered on the bottom emission type organic EL element. However, the present invention is not limited to this, and the top emission type organic EL element that emits light generated by the organic EL element OEL to the outside through the counter electrode is used. It can also be used for EL elements.

また、上述した実施形態では、発光装置を表示装置として利用する構成を例に挙げて説明しているが、プリンタの感光ドラムに光を照射するプリンタヘッド等の露光装置としても利用することができる。   In the above-described embodiment, the configuration in which the light emitting device is used as a display device has been described as an example. However, it can also be used as an exposure device such as a printer head that irradiates light to a photosensitive drum of a printer. .

また、上述した実施形態ではヘッド303が図のX軸方向に走査するいわゆるシリアルヘッド方式として説明している。シリアルヘッド方式では、例えば図20(a)に示すガイドレール307に沿ってヘッド303が走査する。これ以外に、例えば複数の吐出口(ノズル)を備えるいわゆるラインヘッド方式のヘッドを使用することとしてもよい。この場合、ヘッドは1本でもよいが、図20(b)に示すように例えば3本のヘッド308a,308b,308cをZ軸方向から見て千鳥状に配置することとしてもよい。これにより、ヘッド駆動部305又はヘッド駆動部306のうちヘッド303を走査するための構成を省略又は簡略化することができる。また、ラインヘッド方式を採用することにより、広い範囲に一度に印刷されるため工程を短縮することができ好ましい。なお、この場合、各ノズルの吐出量のバラツキに基づいて、各ノズルが有するピエゾ素子についての動作波形を予め設定して記憶部302に記憶させておくことにより、各ノズルからの吐出量を一定とすることが望ましい。   Further, in the above-described embodiment, the head 303 is described as a so-called serial head system in which scanning is performed in the X-axis direction in the figure. In the serial head system, for example, the head 303 scans along the guide rail 307 shown in FIG. In addition to this, for example, a so-called line head type head having a plurality of discharge ports (nozzles) may be used. In this case, the number of heads may be one, but as shown in FIG. 20B, for example, the three heads 308a, 308b, and 308c may be arranged in a staggered manner when viewed from the Z-axis direction. Accordingly, the configuration for scanning the head 303 in the head driving unit 305 or the head driving unit 306 can be omitted or simplified. In addition, it is preferable to employ a line head system because the process can be shortened because printing is performed at once in a wide range. In this case, based on the variation in the discharge amount of each nozzle, the operation waveform for the piezo element of each nozzle is preset and stored in the storage unit 302, so that the discharge amount from each nozzle is constant. Is desirable.

また、上述した各実施形態及び変形例の構成を適宜組み合わせてもよいことは勿論である。   Needless to say, the configurations of the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate.

10・・・発光装置、30,30R,30G,30B・・・画素、31・・・基板、32・・・絶縁膜、42・・・画素電極(アノード電極)、43・・・正孔注入層、44・・・インターレイヤ層、45R,45G,45B・・・発光層、46・・・対向電極(カソード電極)、47・・・層間絶縁膜、48・・・隔壁、49・・・パッシベーション膜、50・・・接着層、51・・・封止基板、114・・・半導体層、115・・・ストッパ膜、116,117・・・オーミックコンタクト層、300,400,500,600,700…印刷装置、301…制御部、302…記憶部、303,303a,303b,308a〜c…ヘッド、304,304a,304b…インク収容部、305,306…ヘッド駆動部、307…ガイドレール、310…アニロックスロール、311,351…セル、312,322,361…駆動部、313,323…角度検出部、320…版胴、321…版の凸部、330…印刷ステージ、340…インク、341〜343…インク膜、341a…補充インク膜、344…インク補充箇所、350,350a,350b…アニロックス板、354…除去された部分、360…アニロックス板ステージ、362…位置検出部、Tr11d,Tr12d・・・ドレイン電極、Tr11g,Tr12g・・・ゲート電極、Tr11s,Tr12s・・・ソース電極、La・・・アノードライン、Ls・・・走査ライン、Ld・・・データライン、Tr11・・・選択トランジスタ、Tr12・・・駆動トランジスタ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Light-emitting device, 30, 30R, 30G, 30B ... Pixel, 31 ... Substrate, 32 ... Insulating film, 42 ... Pixel electrode (anode electrode), 43 ... Hole injection Layer, 44 ... interlayer layer, 45R, 45G, 45B ... light emitting layer, 46 ... counter electrode (cathode electrode), 47 ... interlayer insulating film, 48 ... partition wall, 49 ... Passivation film, 50 ... adhesive layer, 51 ... sealing substrate, 114 ... semiconductor layer, 115 ... stopper film, 116,117 ... ohmic contact layer, 300,400,500,600, 700 ... Printing device 301 ... Control unit 302 ... Storage unit 303, 303a, 303b, 308a-c ... Head, 304, 304a, 304b ... Ink storage unit, 305,306 ... Head drive unit, 307 ... Guide 310, anilox roll, 311, 351 ... cell, 312, 322, 361 ... drive unit, 313, 323 ... angle detection unit, 320 ... plate cylinder, 321 ... convex portion of plate, 330 ... printing stage, 340 ... Ink, 341 to 343 ... Ink film, 341a ... Replenished ink film, 344 ... Ink replenishment location, 350, 350a, 350b ... Anilox plate, 354 ... Removed portion, 360 ... Anilox plate stage, 362 ... Position detector, Tr11d Tr12d ... Drain electrode, Tr11g, Tr12g ... Gate electrode, Tr11s, Tr12s ... Source electrode, La ... Anode line, Ls ... Scan line, Ld ... Data line, Tr11 ... .Selection transistor, Tr12 ... Drive transistor

Claims (13)

基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する中間転写体と、
前記中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記転写により前記中間転写体から前記インクが移動される領域をインク補充パターンとして記憶する記憶部と、
前記中間転写体の表面の前記インク補充パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造装置。
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
An intermediate transfer member that contacts the flexographic plate and transfers the ink;
A head portion for supplying the ink to the intermediate transfer member;
A storage unit for storing, as an ink replenishment pattern, a region in which the ink is moved from the intermediate transfer member by the transfer;
A control unit that supplies the ink from the head unit in the region of the ink replenishment pattern on the surface of the intermediate transfer member,
An apparatus for manufacturing a light-emitting device.
前記ヘッド部を前記インク補充パターンに対向する位置に移動させるヘッド駆動部を更に備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置の製造装置。
A head driving unit that moves the head unit to a position facing the ink replenishment pattern;
The apparatus for manufacturing a light emitting device according to claim 1.
前記ヘッド部は、インクジェット方式で前記中間転写体に前記インクを吐出する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の発光装置の製造装置。
The head portion discharges the ink to the intermediate transfer member by an ink jet method.
The light-emitting device manufacturing apparatus according to claim 1 or 2.
前記ヘッド部は、互いに位置が固定され各々が前記インクを吐出する複数のノズルを備え、
前記複数のノズルは、前記インクを液滴としてインクジェット方式で吐出するピエゾ素子をそれぞれ備え、
前記記憶部は、各前記ピエゾ素子の動作波形を記憶し、
前記制御部は、前記動作波形に基づいて各前記ピエゾ素子からの前記インクの吐出量が均一となるよう制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The head portion includes a plurality of nozzles that are fixed in position and each ejects the ink,
Each of the plurality of nozzles includes a piezo element that discharges the ink as a droplet by an inkjet method,
The storage unit stores operation waveforms of the piezo elements,
The control unit controls the ejection amount of the ink from each of the piezoelectric elements to be uniform based on the operation waveform;
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であり、
前記インクは、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層となる材料を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The light emitting element is an organic electroluminescence element,
The ink includes a material that becomes an organic layer of an organic electroluminescence element.
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記中間転写体は、回転式のアニロックスロールである、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The intermediate transfer member is a rotating anilox roll,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記中間転写体は、板状のアニロックス板である、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The intermediate transfer member is a plate-shaped anilox plate,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
前記転写の際に前記アニロックス板と前記版胴とが互いに反対方向に進行する、
ことを特徴とする請求項7に記載の発光装置の製造装置。
The anilox plate and the plate cylinder advance in opposite directions during the transfer,
The light-emitting device manufacturing apparatus according to claim 7.
前記ヘッド部は、前記有機層の材料成分の濃度が互いに異なる前記インク又は溶媒をそれぞれ吐出する複数個のヘッドを備える、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置。
The head unit includes a plurality of heads that respectively discharge the ink or the solvent having different concentrations of material components of the organic layer,
The light emitting device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the light emitting device manufacturing apparatus is a light emitting device.
基板上に配列された複数の発光素子を備える発光装置の製造装置であって、
前記基板上に前記発光素子の有機層を形成するインクを印刷するためのフレキソ版を備える回転式の版胴と、
前記フレキソ版に当接して前記インクを転写する第1及び第2の中間転写体と、
前記第1及び第2の中間転写体に前記インクを供給するヘッド部と、
前記転写により前記中間転写体から前記インクが移動される領域をインク補充パターンとして記憶する記憶部と、
前記中間転写体の表面の前記インク補充パターンの領域内に前記ヘッド部から前記インクを供給する制御部と、
前記第1及び第2の中間転写体を、一方が前記転写に供する位置で他方がメンテナンスに供する位置であるように交互に移動させる中間転写体移動装置と、
前記メンテナンスに供する位置にある前記第1の中間転写体又は前記第2の中間転写体を洗浄する洗浄装置と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造装置。
A light-emitting device manufacturing apparatus comprising a plurality of light-emitting elements arranged on a substrate,
A rotary plate cylinder provided with a flexographic plate for printing an ink for forming an organic layer of the light emitting element on the substrate;
First and second intermediate transfer members that contact the flexographic plate and transfer the ink;
A head portion for supplying the ink to the first and second intermediate transfer members;
A storage unit for storing, as an ink replenishment pattern, a region in which the ink is moved from the intermediate transfer member by the transfer;
A control unit for supplying the ink from the head unit into the region of the ink replenishment pattern on the surface of the intermediate transfer member;
An intermediate transfer body moving device that alternately moves the first and second intermediate transfer bodies so that one is a position used for the transfer and the other is a position used for maintenance;
A cleaning device for cleaning the first intermediate transfer member or the second intermediate transfer member in a position for maintenance.
An apparatus for manufacturing a light-emitting device.
請求項1乃至10のいずれか1項に記載の発光装置の製造装置を用いて前記基板上に1又は複数層の前記有機層を形成する、
ことを特徴とする発光装置の製造方法。
Forming one or a plurality of the organic layers on the substrate using the light emitting device manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 10.
A method for manufacturing a light-emitting device.
インクジェット方式により、発光素子の有機層の材料を含むインクを中間転写体に供給し、前記中間転写体の表面の全面にインク膜を形成する工程と、
前記中間転写体から版胴のフレキソ版に前記インク膜を転写する工程と、
前記フレキソ版に転写された前記インク膜を基板上に印刷する工程と、
前記転写により前記中間転写体から前記インクが移動された領域に前記インクを補充して、前記中間転写体の表面の全面に前記インク膜を再形成する工程と、を備える、
ことを特徴とする発光装置の製造方法。
Supplying an ink containing an organic layer material of a light emitting element to an intermediate transfer body by an inkjet method, and forming an ink film on the entire surface of the intermediate transfer body;
Transferring the ink film from the intermediate transfer member to a flexographic plate of a plate cylinder;
Printing the ink film transferred to the flexographic plate on a substrate;
Replenishing the ink in a region where the ink has been moved from the intermediate transfer body by the transfer, and re-forming the ink film on the entire surface of the intermediate transfer body.
A method for manufacturing a light-emitting device.
前記インク膜を再形成する工程の後、前記インクよりも前記有機層の材料の濃度が低い低濃度インク又は溶媒を、前記中間転写体の表面の一部又は全部に供給する工程をさらに備える、
ことを特徴とする請求項12に記載の発光装置の製造方法。
After the step of re-forming the ink film, the method further comprises a step of supplying a low concentration ink or solvent having a lower concentration of the organic layer material than the ink to a part or all of the surface of the intermediate transfer member.
The method of manufacturing a light emitting device according to claim 12.
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