JP2011184897A - シールドルーフ工法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数のルーフシールドトンネル4を2群に区分して交互に配列し、第1群のルーフシールドトンネル4a内からのみ凍結工程を実施し、凍結工程と同時並行作業により第2群のルーフシールドトンネル4b内において覆工壁6を先行施工する。その後、第1群のルーフシールドトンネル内からその周囲地盤を掘削し、第1群のルーフシールドトンネルと第2群のルーフシールドトンネル間および第1群のルーフシールドトンネル内に覆工壁を後行施工して覆工壁6の全体を完成させる。第1群のルーフシールドトンネルにおけるセグメント10aを鋼製のスチールセグメントとし、第2群のルーフシールドトンネルにおけるセグメント10bを鉄筋コンクリート製のRCセグメントとする。第2群のルーフシールドトンネルの径を第1群のルーフシールドトンネルの径よりも小径とする。
【選択図】図2
Description
このようにして、最終的には図7に示した従来工法と同様に全てのルーフシールドトンネル4(4a、4b)を連続する一連の覆工壁6の全体を完成させ、しかる後にその内側を掘削して地中空洞3を構築すれば良い。
また、従来工法においては凍結工程が完了するまでは全てのルーフシールドトンネル4内における覆工壁の施工に着手できないが、本実施形態では第2群のルーフシールドトンネル4bは凍結工程に関与しないことからそこでは覆工壁6の早期着手が可能となり、以上のことから、本実施形態の工法によれば従来工法に比べて全体工費の削減と全体工期の短縮を充分に図ることができる。
勿論、第1群のルーフシールドトンネル4aはセグメント10a内に貼り付け凍結管7を設けてその周囲地盤をセグメント10aを介して凍結させる必要があるが、第2群のルーフシールドトンネル4bにはその必要はないので、この点においても第1群のルーフシールドトンネル4aのセグメント10aをスチールセグメントとし、第2群のルーフシールドトンネル4bのセグメント10bをRCセグメントとすることは合理的である。
但し、この場合は、後段でのセグメント10bの解体を容易とするべく、セグメント10bの内面に予め縁切りシート14を取り付けておいて覆工壁6をセグメント10bに対して縁切りした状態で施工すると良い。
2 ランプトンネル
3 地中空洞(分岐合流部)
4 ルーフシールドトンネル
4a 第1群のルーフシールドトンネル
4b 第2群のルーフシールドトンネル
5 凍土
6 覆工壁
7 貼り付け凍結管
8 放射凍結管
10 セグメント
10a セグメント(第1群のルーフシールドトンネルのセグメント)
10b セグメント(第2群のルーフシールドトンネルのセグメント)
11 支保工
12 鉄筋
13 仕切壁
14 縁切りシート
Claims (3)
- 地中を掘削して地中空洞を構築するに際して、構築するべき地中空洞の輪郭に沿って先受工となる複数のルーフシールドトンネルを所定間隔で配列した状態で予め施工し、該ルーフシールドトンネルの周囲地盤を凍結工法により凍結したうえで掘削して隣り合うルーフシールドトンネルどうしを連結する一連の覆工壁を施工した後、該覆工壁の内側を掘削して地中空洞を構築するシールドルーフ工法であって、
前記複数のルーフシールドトンネルを2群に区分して、第1群のルーフシールドトンネルと第2群のルーフシールドトンネルを交互に配列し、
前記覆工壁を施工するに際しては、第1群のルーフシールドトンネル内にその周囲地盤を凍結するための貼り付け凍結管を設けるとともに、該第1群のルーフシールドトンネルから隣り合っている第2群のルーフシールドトンネルの周囲地盤を凍結するための放射凍結管を施工して、それら凍結管を用いて前記覆工壁の施工範囲の地盤を凍結して凍土を造成する凍結工程を実施するとともに、
前記凍結工程と同時並行作業により前記第2群のルーフシールドトンネル内において前記覆工壁を先行施工する工程を実施し、
次いで、第1群のルーフシールドトンネル内からその周囲地盤を掘削して、隣り合っている第2群のルーフシールドトンネルとの間および当該第1群のルーフシールドトンネル内に、前記第2群のルーフシールドトンネル内に先行施工した覆工壁と一体に覆工壁を後行施工して覆工壁の全体を完成させることを特徴とするシールドルーフ工法。 - 請求項1記載のシールドルーフ工法であって、
前記第1群のルーフシールドトンネルにおけるセグメントを鋼製のスチールセグメントとし、前記第2群のルーフシールドトンネルにおけるセグメントを鉄筋コンクリート製のRCセグメントとすることを特徴とするシールドルーフ工法。 - 請求項1または2記載のシールドルーフ工法であって、
前記第2群のルーフシールドトンネルの径を前記第1群のルーフシールドトンネルの径よりも小径とすることを特徴とするシールドルーフ工法。
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