JP2011163824A - 干渉測定装置および測定方法 - Google Patents
干渉測定装置および測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011163824A JP2011163824A JP2010024491A JP2010024491A JP2011163824A JP 2011163824 A JP2011163824 A JP 2011163824A JP 2010024491 A JP2010024491 A JP 2010024491A JP 2010024491 A JP2010024491 A JP 2010024491A JP 2011163824 A JP2011163824 A JP 2011163824A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- interference
- measurement
- measurement object
- compensation element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 181
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 104
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 25
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02023—Indirect probing of object, e.g. via influence on cavity or fibre
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02058—Passive reduction of errors by particular optical compensation or alignment elements, e.g. dispersion compensation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K11/00—Measuring temperature based upon physical or chemical changes not covered by groups G01K3/00, G01K5/00, G01K7/00 or G01K9/00
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Abstract
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光(SC光)を放射する光源10と、SC光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ11と、分散補償素子12と、分散補償素子12を移動させる駆動装置13と、測定光と参照光との干渉波形を測定する受光手段14と、によって構成されている。測定対象である測定物15は、厚さ800μmのSi基板である。分散補償素子12は、厚さ780μmのSi基板である。つまり、分散補償素子12は、測定物15と同一の材料であり、測定物15よりも20μm薄い。測定物15裏面と分散補償素子12裏面での反射による干渉は、波長分散がほぼ打ち消されるためピーク幅が狭く、ピーク位置の測定精度が向上する。その結果、温度等の測定精度が向上する。
【選択図】図1
Description
11:光ファイバカプラ
12:分散補償素子
13:駆動装置
14:受光手段
15:測定物
Claims (7)
- 測定物に照射した測定光と、参照光との干渉を測定する干渉測定装置において、
スーパーコンティニューム光を放射する光源と、
前記スーパーコンティニューム光を、前記測定物に照射する前記測定光と、前記参照光とに分割する分割手段と、
前記測定物と同一の分散特性を有した材料からなり、前記測定物との厚さの差が、前記スーパーコンティニューム光のコヒーレンス長以上である分散補償素子と、
前記測定光または前記参照光の一方の光路長を変化させる光路長変化手段と、
前記分散補償素子により反射された前記参照光と、前記測定物によって反射された前記測定光との干渉を測定する受光手段と、
を備えていることを特徴とする干渉測定装置。 - 前記分散補償素子は、前記測定物と同一の材料からなることを特徴とする請求項1に記載の干渉測定装置。
- 前記分散補償素子と前記測定物との厚さの差は、前記スーパーコンティニューム光のコヒーレンス長の1〜100倍であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の干渉測定装置。
- 前記スーパーコンティニューム光のコヒーレンス長は、0.5〜10μmであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の干渉測定装置。
- 前記測定物は、Si基板であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の干渉測定装置。
- 前記受光手段は、前記測定物表面と前記分散補償素子表面での反射による干渉と、前記測定物裏面と前記分散補償素子裏面での反射による干渉と、を測定することによって前記測定物の温度または厚さを測定する手段である、ことを特徴とする請求項1または請求項5のいずれか1項に記載の干渉測定装置。
- 測定物に照射した測定光と、参照光との干渉を測定する干渉測定方法において、
スーパーコンティニューム光を測定光と参照光に分割し、
前記測定光を前記測定物に照射し、
前記参照光を、前記測定物と同一の分散特性を有した材料からなり、前記測定物との厚さの差が、前記スーパーコンティニューム光のコヒーレンス長以上である分散補償素子に照射し、
前記測定光または前記参照光の一方の光路長を変化させ、
前記分散補償素子により反射された前記参照光と、前記測定物によって反射された前記測定光との干渉を測定する、
ことを特徴とする干渉測定方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010024491A JP5397817B2 (ja) | 2010-02-05 | 2010-02-05 | 干渉測定装置および測定方法 |
PCT/JP2011/000561 WO2011096200A1 (ja) | 2010-02-05 | 2011-02-02 | 干渉測定装置および測定方法 |
US13/577,044 US9041937B2 (en) | 2010-02-05 | 2011-02-02 | Interference measurement device and measurement method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010024491A JP5397817B2 (ja) | 2010-02-05 | 2010-02-05 | 干渉測定装置および測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011163824A true JP2011163824A (ja) | 2011-08-25 |
JP5397817B2 JP5397817B2 (ja) | 2014-01-22 |
Family
ID=44355217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010024491A Active JP5397817B2 (ja) | 2010-02-05 | 2010-02-05 | 干渉測定装置および測定方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9041937B2 (ja) |
JP (1) | JP5397817B2 (ja) |
WO (1) | WO2011096200A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112925363A (zh) * | 2019-12-05 | 2021-06-08 | 上海北分科技股份有限公司 | 在线温度补偿方法及其***、控制器和在线温度补偿装置 |
CN113375592A (zh) * | 2021-06-04 | 2021-09-10 | 哈尔滨工程大学 | 一种基于光纤模式色散的弯曲测量装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101532633B1 (ko) | 2012-12-13 | 2015-06-30 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 광파이버 부품의 연마량 측정 방법 및 장치 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07243818A (ja) * | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Gunze Ltd | 多層膜厚測定装置 |
JPH102855A (ja) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Rikagaku Kenkyusho | 積層構造体の層厚および屈折率の測定方法およびその測定装置 |
JP2001091223A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Olympus Optical Co Ltd | 面間隔測定方法及び装置 |
JP2005283155A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Shimizu Kimiya | 光干渉断層像撮像法における分散補正装置 |
JP2006194679A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Tokyo Electron Ltd | 温度/厚さ測定装置,温度/厚さ測定方法,温度/厚さ測定システム,制御システム,制御方法 |
WO2006100544A1 (en) * | 2005-03-21 | 2006-09-28 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Phase sensitive fourier domain optical coherence tomography |
JP2007504475A (ja) * | 2003-05-27 | 2007-03-01 | イマラックス・コーポレーション | 対象物を研究するための光学デバイス |
JP2007531887A (ja) * | 2004-04-05 | 2007-11-08 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 特殊光学系の使用のための干渉システム |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10142001A1 (de) * | 2001-08-28 | 2003-03-20 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Optische Multiplex Kurzkohärenz-Interferometrie am Auge |
JP2003307458A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-10-31 | Akifumi Ito | 基材の温度測定方法および温度測定装置 |
AU2003218590A1 (en) | 2002-04-18 | 2003-10-27 | Haag-Streit Ag | Measurement of optical properties |
US20050140981A1 (en) | 2002-04-18 | 2005-06-30 | Rudolf Waelti | Measurement of optical properties |
AU2003241356A1 (en) * | 2002-05-02 | 2003-11-17 | Zygo Corporation | Phase gap analysis for scanning interferometry |
US6927860B2 (en) * | 2003-05-19 | 2005-08-09 | Oti Ophthalmic Technologies Inc. | Optical mapping apparatus with optimized OCT configuration |
US7446877B2 (en) * | 2004-08-27 | 2008-11-04 | Bwt Property Inc. | All-fiber spectroscopic optical sensor |
US7446881B2 (en) | 2005-01-12 | 2008-11-04 | Tokyo Electron Limited | System, apparatus, and method for determining temperature/thickness of an object using light interference measurements |
DE102005005816A1 (de) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Carl Zeiss Meditec Ag | Vorrichtung zur Positionsbestimmung voneinander distanzierter Bereiche in transparenten und/oder diffusen Objekten |
TWI418762B (zh) * | 2010-03-29 | 2013-12-11 | Univ Nat Taiwan | 低同調干涉光學成像裝置 |
-
2010
- 2010-02-05 JP JP2010024491A patent/JP5397817B2/ja active Active
-
2011
- 2011-02-02 US US13/577,044 patent/US9041937B2/en active Active
- 2011-02-02 WO PCT/JP2011/000561 patent/WO2011096200A1/ja active Application Filing
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07243818A (ja) * | 1994-03-07 | 1995-09-19 | Gunze Ltd | 多層膜厚測定装置 |
JPH102855A (ja) * | 1996-06-17 | 1998-01-06 | Rikagaku Kenkyusho | 積層構造体の層厚および屈折率の測定方法およびその測定装置 |
JP2001091223A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-04-06 | Olympus Optical Co Ltd | 面間隔測定方法及び装置 |
JP2007504475A (ja) * | 2003-05-27 | 2007-03-01 | イマラックス・コーポレーション | 対象物を研究するための光学デバイス |
JP2005283155A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Shimizu Kimiya | 光干渉断層像撮像法における分散補正装置 |
JP2007531887A (ja) * | 2004-04-05 | 2007-11-08 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 特殊光学系の使用のための干渉システム |
JP2006194679A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Tokyo Electron Ltd | 温度/厚さ測定装置,温度/厚さ測定方法,温度/厚さ測定システム,制御システム,制御方法 |
WO2006100544A1 (en) * | 2005-03-21 | 2006-09-28 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Phase sensitive fourier domain optical coherence tomography |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112925363A (zh) * | 2019-12-05 | 2021-06-08 | 上海北分科技股份有限公司 | 在线温度补偿方法及其***、控制器和在线温度补偿装置 |
CN113375592A (zh) * | 2021-06-04 | 2021-09-10 | 哈尔滨工程大学 | 一种基于光纤模式色散的弯曲测量装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5397817B2 (ja) | 2014-01-22 |
US20120300218A1 (en) | 2012-11-29 |
WO2011096200A1 (ja) | 2011-08-11 |
US9041937B2 (en) | 2015-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7446881B2 (en) | System, apparatus, and method for determining temperature/thickness of an object using light interference measurements | |
US9500537B2 (en) | Temperature measurement apparatus and method | |
JP4761774B2 (ja) | 温度/厚さ測定装置,温度/厚さ測定方法,温度/厚さ測定システム,制御システム,制御方法 | |
JP5575600B2 (ja) | 温度測定方法、記憶媒体、プログラム | |
US20050259716A1 (en) | Method and apparatus for measuring temperature of substrate | |
JP5805498B2 (ja) | 温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法 | |
KR20100089034A (ko) | 플라즈마 처리 장치와 온도 측정 방법 및 장치 | |
US9046417B2 (en) | Temperature measuring system, substrate processing apparatus and temperature measuring method | |
JP5214513B2 (ja) | プラズマ処理装置及び温度測定方法並びに温度測定装置 | |
TW201502491A (zh) | 用於測量折射指數之方法,折射指數測量裝置,及用於製造光學元件之方法 | |
JP2011209223A (ja) | 厚さ又は温度の干渉測定装置 | |
JP5397817B2 (ja) | 干渉測定装置および測定方法 | |
JP2012202692A (ja) | 温度測定装置及び温度測定方法 | |
KR20210041512A (ko) | 온도 계측 시스템 및 온도 계측 방법 | |
JP4756845B2 (ja) | 温度測定装置,温度測定方法,温度測定システム,制御システム,制御方法 | |
JP6157241B2 (ja) | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 | |
JP5901305B2 (ja) | 光干渉システム、基板処理装置及び測定方法 | |
US8144335B2 (en) | Vibration-insensitive interferometer using high-speed camera and continuous phase scanning method | |
JP2011163825A (ja) | 表面分析装置および表面分析方法 | |
JP5911012B2 (ja) | 温度計測装置、および温度計則方法 | |
JPH03137550A (ja) | 光波干渉型微小熱変位測定装置 | |
Kadlec et al. | Terahertz spectroscopy with focused beams: Gouy shift correction for highly accurate refractive index retrieval | |
JP2013185881A (ja) | 測定装置、干渉計及び調整方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130917 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131011 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5397817 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |