JP2011146281A - ストライプ状の開口部を備えた金属部材とそれを用いた金属マスク - Google Patents
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- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 60
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 49
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】金属薄板1の第一面に多数のストライプ状に形成された小孔パターン3aを有し、前記第一面の他面には、前記第一面の小孔パターンと対向して位置合わせ形成されたストライプ状の第一大孔パターン3bを有し、前記ストライプ状の大孔パターン端部の外側には延長して形成された非貫通の大孔パターンを備えており、前記小孔パターンと第一大孔パターンは貫通したストライプ状の開口部Kを形成している。
【選択図】図4
Description
このフォトエッチング法の一般的な製造工程は、金属薄板にフォトレジスト膜を被覆し、続いて露光用原版を重ねて紫外線の照射を行う。この際のフォトレジストとしては紫外線照射により不溶性となるタイプのネガ型フォトレジストを用いることが多い。
このエッチング製品では鋼(炭素鋼、ステンレス鋼など)、あるいは鉄−ニッケル合金が被加工材として多用されている。また、エッチング液としては塩化第二鉄液が用いられている。
次いで、2次エッチング工程で大孔側面のエッチングを行い、小孔側面のハーフエッチングされた部分と貫通した開口部を形成する。
図2(a)に示すように、まず、金属薄板(1)の両面に、例えば、ポリビニールアルコール又はカゼイン等を主成分とするフォトレジストを塗布、乾燥してフォトレジスト膜(2)を形成する。
次に、所定の遮光パターンを有する露光用マスクを金属薄板(1)の片面のフォトレジスト膜(2)に位置合わせ、密着してパターン露光を行う。
の片面に小孔パターン(3a)を有する小孔側レジスト膜(2a)を形成する。図3(a)は、この小孔パターン(3a)と小孔側レジスト膜(2a)の平面図である。図3(a)のF−F’線での断面が図2(b)の片面に相当する。
この小孔(5a)内のエッチング耐蝕樹脂によって、小孔(5a)が2次エッチングによる影響を受けることがなくなり、小孔(5a)の形状は保持される。
次に、エッチング耐蝕樹脂層(6)、及び小孔側レジスト膜(2a)と大孔側レジスト膜(2b)をアルカリ水溶液を用いて剥離して、図2(f)に示すように、金属薄板(1)に小孔(5a)と大孔(5b)が貫通した開口部(K)が形成されたエッチング製品とす。
図4(a)は、本発明によるエッチング製品の製造方法の一例において、金属薄板(1)の片面に小孔パターン(3a)を有する小孔側レジスト膜(2a)が形成された状態を示す部分平面図である。図4(a)に示すように、この小孔側レジスト膜(2a)には、ストライプ状の開口部を形成するための、小孔パターン(3a)が図4(a)中、Y軸方向に、その長手方向を平行にして等ピッチ(P)に多数設けられたものである。
前記図3(a)と対比して明らかなように、説明上、図3(a)に示す小孔パターン(3a)を有する小孔側レジスト膜(2a)と同一のものとした例である。
図4(a)に示すXa軸・Ya軸に、図4(b)に示すXb軸・Yb軸を合致させて、小孔側レジスト膜(2a)が金属薄板(1)の片面に形成され、大孔側レジスト膜(12b)が金属薄板(1)の他面に形成されている。
前記図3(b)に示す大孔パターン(3b)と対比して明らかなように、第二大孔パターン(13b)は、大孔パターン(3b)に大孔パターン延長部(E)が付加されたものである。
図5は前記図2(d)に対応した段階である。図5(a)は図4におけるA−A’線での断面を表しており、図5(b)は図4におけるB−B’線での断面を表しており、また、図5(c)は図4におけるC−C’線での断面を表している。
一方、図5(c)に示すように、C−C’線での断面では小孔パターン(3a)が設けられていないので、小孔(5a)は形成されていない。
図6は前記図2(e)に対応した段階である。図6(a)は図4におけるA−A’線での断面を表しており、図6(b)は図4におけるB−B’線での断面を表しており、また、図6(c)は図4におけるC−C’線での断面を表している。
一方、図6(c)に示すように、C−C線での断面では大孔パターン(5b’)は形成されているが、前記小孔(5a)と大孔(5b)とが貫通した開口部は形成されず非貫通である。
C’線での断面を表している。
図8に示すように、ストライプ状の中央部の開口部(K3)の幅(W1)と、端部(H)近傍の開口部(K4)の幅(W3)は、略同一の寸法となっている。なお、図8(d)は、図7におけるD−Dでの断面を表している。
例えば、低分子有機EL素子の製造においては、正孔輸送層、発光層(R、G、B)、電子輸送層などの有機層の成膜、或いは電子注入層などの成膜には真空蒸着が広く用いられている。
2・・・フォトレジスト膜
3a・・・小孔パターン
3b・・・大孔パターン
2a・・・小孔側レジスト膜
2b・・・大孔側レジスト膜
5a・・・小孔
5b・・・大孔
5b’・・・C−C’線での断面では大孔パターン
6・・・エッチング耐蝕樹脂層
12b・・・大孔側レジスト膜
13b・・・大孔パターン
E・・・大孔パターン延長部
H・・・ストライプ状の大孔パターンの端部
K・・・開口部
K2・・・ストライプ状の端部近傍の開口部
K3・・・本発明におけるストライプ状の中央部の開口部
K4・・・本発明におけるストライプ状の端部近傍の開口部
L・・・大孔パターン延長部の長さ
P・・・ストライプのピッチ
W1・・・ストライプ状の中央部の開口部の幅
W2・・・ストライプ状の端部近傍の開口部の幅
Claims (4)
- 金属薄板の第一面に多数のストライプ状に形成された小孔パターンを有し、前記第一面の他面には、前記第一面の小孔パターンと対向して位置合わせ形成されたストライプ状の第一大孔パターンを有し、前記ストライプ状の第一大孔パターン端部の外側には延長して形成された非貫通の第二大孔パターンを備えており、前記小孔パターンと第一大孔パターンは貫通したストライプ状の開口部を形成していることを特徴とする金属部材。
- 前記小孔パターンと第一大孔パターンとで形成されるストライプ状の開口部の幅が30μmから50μmであって、前記第二大孔パターン部の長さが200μm以上であることを特徴とする請求項1記載の金属部材。
- 前記ストライプ状の開口部端部近傍の幅が、前記ストライプ状の開口部の中央部分における幅を超えてないことを特徴とする請求項1または2記載の金属部材。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載の金属部材を用いたことを特徴とする金属マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010006789A JP2011146281A (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | ストライプ状の開口部を備えた金属部材とそれを用いた金属マスク |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010006789A JP2011146281A (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | ストライプ状の開口部を備えた金属部材とそれを用いた金属マスク |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011146281A true JP2011146281A (ja) | 2011-07-28 |
Family
ID=44460956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010006789A Pending JP2011146281A (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | ストライプ状の開口部を備えた金属部材とそれを用いた金属マスク |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2011146281A (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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