JP2011123255A

JP2011123255A - 光学機器用遮光部材

Info

Publication number: JP2011123255A
Application number: JP2009280363A
Authority: JP
Inventors: Junko Takahashi; 順子高橋; Masahiro Harada; 正裕原田
Original assignee: Kimoto Co Ltd
Current assignee: Kimoto Co Ltd
Priority date: 2009-12-10
Filing date: 2009-12-10
Publication date: 2011-06-23

Abstract

【課題】高い摺動性を有しつつ、遮光性、艶消し性等の遮光膜の物性を保持するとともに、耐熱性や耐久性にも優れた光学機器用遮光部材を提供する。
【解決手段】光学機器用遮光部材１は、フィルム基材２と、この基材の少なくとも片面に形成された遮光膜３とを有する。遮光膜３は、バインダー樹脂、カーボンブラック３１、粒子状の滑剤３２及び微粒子３３を含有する。バインダー樹脂及び粒子状の滑剤の含有率は、それぞれ７０重量％以上、５〜１５重量％である。粒子状の滑剤３２として、その密度が微粒子３３の密度よりも大きいものを用いる。
【選択図】図１

Description

この発明は、各種光学機器のシャッターや絞り部材などに使用可能な光学機器用遮光部材に関する。

近年、高性能一眼レフカメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ等の各種光学機器に対する小型化、軽量化の要求により、金属材料により形成されていた光学機器のシャッターや絞り部材がプラスチック材料へと代わりつつある。このようなプラスチック材料の絞りとしては、カーボンブラック、滑剤、微粒子及びバインダー樹脂を含有する遮光膜をフィルム基材の上に形成した遮光性フィルムが知られている（特許文献１，２）。

特開平９−２７４２１８号公報ＷＯ２００６／０１６５５５号公報

上述した従来手法による遮光性フィルムでは、摺動性を高めるために、遮光膜中に多量の滑剤を含有させなければならなかった。その結果、多量の滑剤により遮光膜の耐摩耗性が低下する傾向にあった。また遮光膜に多量の滑剤を含有させる必要があったため、遮光膜中のバインダー樹脂の含有率が低下し、遮光膜とフィルム基材との間で接着性が十分でなかった。

発明が解決しようとする課題は、高い摺動性を有しつつ、遮光性、艶消し性等の遮光膜の物性を保持するとともに、耐摩耗性や接着性にも優れた光学機器用遮光部材を提供することである。

本発明者らは、微粒子と粒子状の滑剤の密度に着目し、微粒子の密度より大きい密度を持つ滑剤（特定の滑剤）を用いることにより、遮光膜表面の滑剤量を少なくでき、その結果、遮光膜の耐摩耗性が向上することを見出した。

また、特定の滑剤を用いることで、少量の配合で高い摺動性を発現させることができることを見出した。本発明者らが見出した特定の滑剤を用いれば、少量の配合で高い摺動性が得られるため、遮光膜中での滑剤配合量を少量にでき、その相対的効果として、遮光膜中のバインダー樹脂量を増加させることもできる。その結果、フィルム基材に対する遮光膜の接着性の向上が期待できる。

すなわち、この発明は、以下の解決手段によって上記課題を解決する。なお、以下の解決手段では、発明の実施形態を示す図面に対応する符号を付して説明するが、この符号は発明の理解を容易にするためだけのものであって発明を限定する趣旨ではない。

発明に係る光学機器用遮光部材（１）は、フィルム基材（２）と、この基材の少なくとも片面に形成された遮光膜（３）とを有する。遮光膜（３）は、バインダー樹脂、カーボンブラック（３１）、粒子状の滑剤（３２）、及び微粒子（３３）を含有する。バインダー樹脂及び粒子状の滑剤（３２）の含有率は、それぞれ７０重量％以上、５〜１５重量％である。粒子状の滑剤（３２）として、その密度が微粒子（３３）の密度よりも大きいものを用いる。

上記発明において、遮光膜（３）中での滑剤（３２）の含有率を１０重量％以下とすることができる。また、滑剤の密度を２．０（ｇ／ｃｍ^３）以上とすることができる。また、滑剤（３２）として、平均粒径が５〜１０μｍのものを用いることができる。また、滑剤としてフッ素樹脂粒子を用いることができる。また、遮光膜（３）中でのカーボンブラック及び微粒子（３３）の含有率を、それぞれ５〜２０重量％、１〜１０重量％とすることができる。また、バインダー樹脂を熱硬化性樹脂で構成することができる。また、フィルム基材（２）をポリイミドフィルムで構成することができる。また、微粒子（３３）として、吸油量が２５０（ｇ／１００ｇ）以上のものを用いることができる。

上記発明によれば、遮光膜中に、特定の粒子状の滑剤、即ち微粒子よりも密度の大きい粒子状の滑剤を含有させることにより、少量の配合でも高い摺動性を有しつつ、遮光膜の耐摩耗性が向上した光学機器用遮光部材を得ることができる。

また、遮光膜中での滑剤の配合量を少量にできる相対的効果として、遮光膜中のバインダー樹脂（特に熱硬化性樹脂）の配合量を増加させることができ、その結果、遮光膜の接着性を向上させることができるとともに、遮光膜の耐摩耗性がより一層向上することも期待できる。

従って、上記発明による光学機器用遮光部材は、高性能一眼レフカメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ、携帯電話、プロジェクタ等に好適に用いることができる。

なお、近年、携帯電話のカメラ等にレンズを搭載する場合、当該レンズを基板に実装するに際してリフロー半田による装着が注目されている。リフロー半田とは、クリーム状の半田を基板に塗布した後に高温のリフロー炉に通し、半田を溶かして接着させる装着方法のことである。このリフロー半田によるレンズの装着方法によれば、従来の装着手法と比較して、カメラ付き携帯電話の格段の生産性向上を図ることができる。上記発明による光学機器用遮光部材は、このようなリフロー半田によるレンズ装着が求められているカメラ付き携帯電話に用いることもできる。

図１は本実施形態に係る光学機器用遮光部材を示す断面図である。

以下、上記発明の一実施形態に係る光学機器用遮光部材を説明する。
《光学機器用遮光部材》
図１に示すように、本実施形態に係る光学機器用遮光部材１は、基材２を有する。基材２の少なくとも片面には、遮光膜３が形成されている。

使用可能な基材２としては、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等の合成樹脂フィルムが挙げられる。中でもポリエステルフィルムが好適に用いられ、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステルフィルムが機械的強度、寸法安定性に優れる点で特に好ましい。また、耐熱用途への使用には、ポリイミドフィルムが好適に用いられる。近年、携帯電話のカメラ等にレンズを搭載する場合、当該レンズを基板に実装するに際してリフロー半田による装着が注目されていることは上述した通りである。

また、基材２として、透明なものはもちろん、発泡ポリエステルフィルムや、カーボンブラック等の黒色顔料や他の顔料を含有させた合成樹脂フィルムを使用することもできる。この場合、上述の基材２は、それぞれの用途により適切なものを選択することができる。例えば、遮光部材１として使用する際に、部材断面の合成樹脂フィルム部分においてレンズ等で集光された光が反射し悪影響を及ぼすため、高い遮光性が必要な場合には、カーボンブラック等の黒色顔料含有の合成樹脂フィルムを使用することができ、他の場合においては、透明若しくは発泡した合成樹脂フィルムを使用することができる。

本実施形態においては、遮光膜３自体で遮光部材１としての充分な遮光性が得られることから、合成樹脂フィルムに黒色顔料を含有させる場合には、合成樹脂フィルムが目視で黒色に見える程度、即ち光学濃度が３程度となるように含有すれば良い。したがって、従来のように合成樹脂フィルム中に基材２としての物性が損なわれる限界まで黒色顔料を含有させるものではないため、合成樹脂フィルムの物性を変化させることなく、安価に得ることができる。

基材２の厚みは、用いる用途により異なるが、軽量な遮光部材１としての強度や剛性等の観点から、一般的に２５μｍ〜２５０μｍとすることが好ましい。

また、基材２には、遮光膜３との接着性を向上させる観点から、必要に応じアンカー処理またはコロナ処理を行うこともできる。

《遮光膜》
基材２の少なくとも片面に形成される遮光膜３は、バインダー樹脂、カーボンブラック、粒子状の滑剤３２及び艶消し剤３３を含有してなるものである。なお、図１では、バインダー樹脂及びカーボンブラックをまとめて、符号「３１」で示すものとする。

《バインダー樹脂》
遮光膜３に含有されるバインダー樹脂としては、ポリ（メタ）アクリル酸系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール樹脂、セルロース系樹脂、ポリスチレン／ポリブタジエン樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシエステル樹脂、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリエーテルアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂等の熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が挙げられ、これらの１種又は２種以上を混合して用いることもできる。特に耐熱用途に用いる場合には、熱硬化性樹脂が好適に用いられる。

バインダー樹脂の含有率は、遮光膜３中、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上とする。バインダー樹脂の含有率を遮光膜３中、５０重量％以上とすることにより、基材２と遮光膜３との接着性が低下するのを防止することができる。一方、バインダー樹脂の含有率は、遮光膜３中、好ましくは８５重量％以下、より好ましくは８０重量％以下、さらに好ましくは７５重量％以下とする。バインダー樹脂の含有率を遮光膜３中、８５重量％以下とすることにより、遮光性、摺動性、艶消し性等の遮光膜の物性が低下するのを防止することができる。特に本実施形態では、後述するように滑剤３２として特定の滑剤（後述）を選択することで、遮光膜３中での滑剤３２の含有量を低く抑えても高い摺動性を確保することができるとの相対的効果として、バインダー樹脂の含有量を従来技術（例えば６５重量％）よりも増加（例えば７０重量％以上）させることも可能である。その結果、遮光膜３の接着性や耐摩耗性の向上にも寄与しうる。

《カーボンブラック》
遮光膜３に含有されるカーボンブラックは、バインダー樹脂を黒色に着色させ遮光性を付与させると共に、導電性を付与させて静電気による帯電を防止させるためのものである。

カーボンブラックの平均粒径は、充分な遮光性を得るため１μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下とすることがより好ましい。なお、本明細書における平均粒径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置（例えば、島津製作所社：ＳＡＬＤ−７０００など）で測定されるメディアン径（Ｄ５０）を指している。滑剤、微粒子なども同様である。

カーボンブラックの含有率は、遮光膜３中、５重量％〜２０重量％が好ましく、１０重量％〜２０重量％とすることがより好ましい。遮光膜３中、５重量％以上とすることにより、遮光性及び導電性が低下するのを防止することができ、２０重量％以下とすることにより、接着性や耐擦傷性が向上し、また塗膜強度の低下およびコスト高となるのを防止することができる。

《微粒子》
遮光膜３に含有される微粒子３３は、表面に微細な凹凸を形成させることで入射光の反射を少なくし表面の光沢度（鏡面光沢度）を低下させ、遮光部材１とした際の艶消し性を向上させるためのものである。

微粒子３３は、遮光部材１とした際の表面の艶消し性を付与させるために不可欠であるが、遮光膜３に含有できる割合には次のような制限がある。まず樹脂とそれ以外の成分の割合を変えることなく微粒子３３の含有率を増加させた場合、それに応じてカーボンブラック３１、滑剤３２等の含有率が低下するため、遮光部材１としての遮光性、摺動性等の物性の低下をもたらす。また、遮光性等の物性を保持させるため、遮光膜中のカーボンブラック、滑剤の含有率は維持しつつ、バインダー樹脂の含有率を低下させ微粒子３３の含有率を増加させた場合には、基材２と遮光膜３との接着性に欠け、耐擦傷性が劣化する。即ち、十分な艶消し性を与える量の微粒子３３を遮光膜３中に含有させた場合には、遮光性、摺動性等の物性を保持することができないか、耐擦傷性が劣ることになる。

本実施形態においては、吸油量の多い微粒子を用いることができる。具体的には、吸油量が好ましくは２５０（ｇ／１００ｇ）以上、より好ましくは吸油量３００（ｇ／１００ｇ）以上の微粒子３３を用いることができる。吸油量の多い微粒子３３を用いると、少量で表面の艶消し性が得られ、遮光膜３中のカーボンブラック３１、滑剤３２等の含有率を増加させることが可能となる。その結果、遮光膜３に艶消し性を有しつつ、遮光膜３による遮光性、摺動性等の物性を十分に発揮し得ることとなる。なお、上述した吸油量は、ＩＳＯ７８７／Ｖ−１９６８に準拠したもので、１００ｇの微粒子３３にアマニ油を湿潤混合して固いペースト状にするのに必要な油の量（ｇ）である。

このような微粒子３３としては、架橋アクリル樹脂ビーズ（１．１９）などの有機系や、シリカ（１．９）、メタケイ酸アルミン酸マグネシウム（２．０〜２．２）、マグネシウム（１．７）などの無機系のいずれのものも用いることができるが無機系のものが好ましく、その中でも、微粒子の分散性・低コスト等の観点からシリカを用いることが好ましい。また、これらの１種又は２種以上を混合して用いることもできる。なお、括弧内の数字は、その物質の密度を示している（単位は「ｇ／ｃｍ^３」）。

微粒子３３の平均粒径は、１μｍ〜１０μｍが好ましく、１μｍ〜６μｍとすることがより好ましい。このような範囲とすることにより、遮光部材１の表面に微細な凹凸が形成され、艶消し性が得られるからである。

微粒子３３の含有率は、遮光膜３中、１重量％〜１０重量％が好ましく、１重量％〜５重量％とすることがより好ましい。遮光膜３中、１重量％以上とすることにより、表面の光沢度（鏡面光沢度）が増加して艶消し性が低下するのを防止することができ、１０重量％以下とすることにより、遮光部材１の摺動による微粒子３３の脱落が生じたり、摺動性の低下を招くことを防止することができる。

特に高い遮光性や摺動性が求められる場合には、微粒子３３の含有率は、上述の範囲からさらに遮光膜３中、３重量％以下とすることが好ましい。本実施形態で用いる微粒子３３は、前述のように少量でも高い艶消し性を得ることができるので、３重量％以下とすることにより、十分な艶消し性が得られ、しかも相対的にカーボンブラック３１、滑剤３２の含有率を増加させることが可能となり、遮光性、摺動性等の物性を向上させることができる。

《滑剤》
遮光膜３に含有される粒子状の滑剤３２は、遮光部材１の表面の摺動性を向上させ、絞り部材などに加工した際、作動時の摩擦抵抗を小さくすると共に、表面の耐擦傷性を向上させるためのものである。

本実施形態では、粒子状の滑剤３２として、その密度が、上述した微粒子の密度よりも大きいもの（特定の滑剤）を用いる。本発明者らは、遮光膜３中に含有させる粒子状の滑剤３２として、特定の滑剤を選択して用いることにより、遮光膜３表面の滑剤３２の量を少なくでき、その結果、遮光膜３の耐摩耗性が向上することを見出した。なお、特定の滑剤を使用すると、相対的に微粒子が塗膜表面にくるため、微粒子含有量が少量でも良好な艶消し性を得やすい。

すなわち密度の大きな滑剤３２は、その大部分が遮光膜３の表面付近に滞在せず膜内部に存在することとなり、結果的に摺動性が著しく低下するのではないかと思われるが、実験により確認したところ、比較的高い摺動性を発現させることができることを見出した。その理由は必ずしも明らかではないが、配合された少量の滑剤のすべてが遮光膜３の内部に存在するのではなく、その一部が微粒子３３に覆われずに遮光膜３の表面に滞在していることによるものと推測される。

本実施形態で使用可能な特定の滑剤としては、好ましくは密度が２．０以上のもの、例えばフッ素樹脂粒子（２．２）などが好適に用いられる。中でもフッ素樹脂粒子を用いることが好ましい。なお、フッ素樹脂粒子にはフッ素樹脂を含む粒子が含まれる。なお、微粒子の項と同様、括弧内の数字は、その物質の密度を示している（単位は「ｇ／ｃｍ^３」）。

フッ素樹脂粒子としては、例えば、ポリ四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、ポリ三フッ化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリエチレン四フッ化エチレン共重合体（ＦＴＦＥ）、ポリ四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）などが挙げられる。

ポリ四フッ化エチレンとしては、例えば、シャムロックテクノロジー社（米国）やヘキストジャパン社などから市販されて樹脂ワックスを用いることができる。具体的には、例えば、シャムロックテクノロジー社の市販品「シャムロックワックス」のＳＳＴシリーズや、ヘキストジャパン社の市販品「ホスタフロン」のＴＦシリーズなどがある。ＳＳＴシリーズとしては、例えば、「ＳＳＴ−１ＭＧ」（粒径約１〜２μｍ）、「ＳＳＴ−２」（粒径約１２．５μｍ）、「ＳＳＴ−２Ｐ」（粒径約１２．５μｍ）、「ＳＳＴ−２Ｄ」（粒径約９μｍ）、「ＳＳＴ−３」（粒径約５μｍ）、「ＳＳＴ−３Ｄ」（粒径約５μｍ）、「ＳＳＴ−３Ｐ」（粒径約５μｍ）、「ＳＳＴ−３Ｈ」（粒径約５μｍ）、「ＳＳＴ−４」（粒径約４μｍ）、「ＳＳＴ−４ＭＧ」（粒径約２〜４μｍ）などが挙げられる。ＴＦシリーズとしては、例えば、「ＴＦ９２０２」（粒径約２．５μｍ）、「ＴＦ９２０５」（粒径約５μｍ）などが挙げられる。

ポリ四フッ化エチレンを含むものとしては、例えば、上記「シャムロックワックス」のＦＬＵＯＲＯＳＬＩＰシリーズなどがあり、具体的にはこのシリーズの「２２５（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約１２．５μｍ）」、「２３１（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約６μｍ）」、「２４５（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約１２．５μｍ）」、「２８５（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約１２．５μｍ）」、「４２１Ｔ（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約６μｍ）」、「４２５（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約１２．５μｍ）」、「５１１（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約６μｍ）」、「７２２ＭＧ（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約５μｍ）」、「７３１ＭＧ（ＰＴＦＥ／ＰＥ、粒径約３〜４μｍ）」などが挙げられる。上記各粒径は平均粒径を示す。

なお、上述した特定の滑剤以外の、公知の粒子状滑剤として知られている有機系滑剤や無機系滑剤を、上記特定の滑剤に適量で配合して用いることもできる。この場合、特定の滑剤１００部に対して、重量比で、１００部以下程度となるように配合することができる。特定の滑剤以外の他の滑剤成分の配合量が多くなると、本実施形態で特定の滑剤を用いる場合の効果が損なわれるおそれもある。

特定の滑剤粒子の平均粒径は、１〜２０μｍが好ましく、より好ましくは３〜１５μｍ、さらに好ましくは５〜１０μｍである。この範囲の平均粒径を特定の滑剤を用いることにより、表面に適切な凹凸が形成され、摺動性能がより一層向上（例えば動摩擦係数がより低下）する。

本実施形態では、微粒子３３の平均粒径より大きい平均粒径を持つ特定の滑剤を用いることが特に好ましい。滑剤の平均粒径を微粒子３３の平均粒径よりも大きくすることで、遮光膜３中で滑剤が微粒子３３に覆われにくくなり、その結果遮光膜３の表面に存在しやすくなって摺動性が向上することに加え、遮光膜３表面の艶消し性の向上にも寄与しうる。

特定の滑剤の含有率は、遮光膜３中、５重量％以上が好ましく、より好ましくは１０重量％以上である。遮光膜３中、５重量％以上とすることにより、表面に適切な凹凸が形成され摺動性を得ることができる。本実施形態では、特定の滑剤の含有率を、遮光膜３中、好ましくは１５重量％以下、より好ましくは１３重量％以下、さらに好ましくは１０重量％以下としても、高い摺動性を得ることができる。本実施形態で滑剤３２として用いる特定の滑剤は、前述のように少量でも高い摺動性を得ることができるので、１５重量％以下とすることにより、十分な摺動性が得られ、しかも相対的にカーボンブラック、微粒子３３、バインダー樹脂の含有率を増加させることが可能となり、遮光性、艶消し性等の他、遮光膜３の耐摩耗性や接着性の向上にも寄与できる。

本実施形態では、遮光膜３中での滑剤３２とカーボンブラック３１の重量比率（滑剤３２／カーボンブラック３１）を、好ましくは０．９０以下（０を除く）、より好ましくは０．８５以下（０を除く）、さらに好ましくは０．８０以下（０を除く）と、最も好ましくは０．７５以下（０を除く）と、従来技術（例えば１．００以上）よりも小さい値となるように調整することができる。

遮光膜３中での滑剤３２とカーボンブラック３１の重量比率を、滑剤３２／カーボンブラック３１で前述の所定範囲に調整することにより、遮光性、摺動性及び艶消し性を高いレベルで維持した上で、遮光膜３の耐摩耗性や接着性の向上が期待される。こうした向上が期待できるのは、遮光膜３に含める滑剤３２として特定の滑剤を選択し、かつその遮光膜３での含有量を少なくするとの相対的効果として、遮光膜３中でのバインダー樹脂の含有量を増加させることが可能となったことによる。遮光膜３中のバインダー樹脂の含有量を増加させることによって、遮光膜３の基材２への接着性が向上し、これにより遮光膜３の耐摩耗性がより一層、向上するものと考えられる。特にバインダー樹脂として熱硬化性樹脂を用いることで、遮光膜３の耐摩耗性や耐熱性が向上する。

遮光膜３には、本発明の機能を損なわない場合であれば、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤等の種々の添加剤を含有させることができる。

遮光膜３の厚みは、５μｍ〜３０μｍが好ましく、５μｍ〜２０μｍとすることがより好ましい。５μｍ以上とすることにより、遮光膜３にピンホール等が生ずるのを防止することができ、充分な遮光性を得ることができる。また、３０μｍ以下とすることにより、遮光膜３に割れが生ずることを防止することができる。

本実施形態の光学機器用遮光部材１は、基材２の片面または両面に、上述のようなバインダー樹脂、カーボンブラック３１、粒子状の滑剤３２及び微粒子３３を含む遮光膜用塗布液をディップコート、ロールコート、バーコート、ダイコート、ブレードコート、エアナイフコート等の従来公知の塗布方法により塗布し、乾燥させた後、必要に応じて加熱・加圧等することにより得ることができる。塗布液の溶媒は、水や有機溶剤、水と有機溶剤との混合物等を用いることができる。

以上のように、本実施形態の光学機器用遮光部材１は、基材２の少なくとも片面に特定の遮光膜３を有することから、艶消し性を有しつつ、遮光性、摺動性等の遮光膜の物性を保持したものであるため、高性能一眼レフカメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ、携帯電話、プロジェクタ等の光学機器のシャッター、絞り部材として好適に用いることができる。特に、本実施形態の遮光膜３は、滑剤３２として、少量でも高い摺動性を発現できるフッ素樹脂粒子を含有するため、遮光膜３中のバインダー樹脂の含有率を増加させることができ、結果的に耐摩耗性や接着性に優れた遮光膜とすることができる。その結果、近年、リフロー半田によるレンズ装着が求められているカメラ付き携帯電話のシャッター、絞り部材などに用いて好適なものとなる。

以下、実施例により本発明を更に説明する。なお、「部」、「％」は特に示さない限り、重量基準とする。

１．光学機器用遮光部材の作製
［実験例１〜１１］
基材として、厚み５０μｍのポリイミドフィルム（カプトン２００Ｈ：東レ・デュポン社）を使用し、その両面に下記処方の遮光膜用塗布液ａ〜ｋをそれぞれバーコート法により乾燥時の厚みが１０μｍとなるように塗布し、乾燥を行って遮光膜Ａ〜Ｋを形成し、各実験例の光学機器用遮光部材を作製した。なお、下記処方の遮光膜用塗布液のアクリルポリオール等の含有量（部）を表１に示す。また、形成した遮光膜のアクリルポリオール等の含有率（％）を表２に示す。

＜遮光膜用塗布液ａ〜ｋの処方＞
・アクリルポリオール（固形分５０％）（表１記載の部）
（アクリディックＡ８０４：大日本インキ化学工業社）
・イソシアネート（固形分７５％）（表１記載の部）
（バーノックＤＮ９８０：大日本インキ化学工業社）
・カーボンブラック（表１記載の部）
（バルカンＸＣ−７２Ｒ：キャボット社）
・表１記載の滑剤（表１記載の部）
・表１記載の微粒子（表１記載の部）
・メチルエチルケトン６０部
・トルエン４０部

なお、表１，２中、滑剤Ｐは、シャムロックＳＳＴ−３Ｄ（シャムロックテクノロジー社、フッ素樹脂粒子、密度２．２、平均粒径５μｍ）を示す。滑剤Ｑは、シャムロックＳＳＴ−２Ｄ（シャムロックテクノロジー社、フッ素樹脂粒子、密度２．２、平均粒径９μｍ）を示す。滑剤Ｒは、シャムロックＳＳＴ−２（シャムロックテクノロジー社、フッ素樹脂粒子、密度２．２、平均粒径１２．５μｍ）を示す。滑剤Ｓは、セリダスト３６２０（ヘキスト社、ポリエチレンワックス、密度０．９６、平均粒径８．５μｍ）を示す。また、微粒子Ｘは、ＴＳ１００（デグサ社、シリカ、密度１．９、平均粒径４μｍ、吸油量３９０（ｇ／１００ｇ））を示す。微粒子Ｙは、サイリシア４７０（富士シリシア社、シリカ、密度２．１５平均粒径１４．１μｍ、吸油量１８０（ｇ／１００ｇ））を示す。微粒子Ｚは、ＭＸ−５００（綜研化学社、架橋アクリル樹脂ビーズ、密度１．１９平均粒径５μｍ、吸油量不明）を示す。

２．評価
以上のようにして各実験例で得られた光学機器用遮光部材について、下記の方法で物性の評価をした。結果を表３に示す。ただし、下記（１）遮光性の評価については、厚み５０μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルム（ルミラーＴ６０：東レ社）の片面に、上記各実験例の処方の各遮光膜を厚み１０μｍに形成したサンプルを用いて行った。

（１）遮光性の評価
各実験例のサンプルの光学濃度を、ＪＩＳ−Ｋ７６５１：１９８８に基づき光学濃度計（ＴＤ−９０４：グレタグマクベス社）を用いて測定し、４．０を超え、測定不能領域の濃度のものを「○」とし、４．０以下のものを「×」とした。なお、測定はＵＶフィルターを用いた。

（２）摺動性の評価
各実験例で得られた光学機器用遮光部材の静摩擦係数（μｓ）と動摩擦係数（μｋ）を、ＪＩＳ−Ｋ７１２５：１９９９に基づき荷重２００（ｇ）、速度１００（ｍｍ／ｍｉｎ）の条件で測定した。静摩擦係数（μｓ）が０．３０未満のものを「◎」、０．３０以上０．３５以下のものを「○」、０．３５以上のものを「×」とした。また、動摩擦係数（μｋ）が０．３０以下のものを「○」、０．３０以上のものを「×」とした。

（３）艶消し性の評価
各実験例で得られた光学機器用遮光部材の遮光膜表面の光沢度（鏡面光沢度）（％）を、ＪＩＳ−Ｚ８７４１：１９９７に基づきを測定した。光沢度が低いほど、艶消し性に優れることが認められる。

（４）導電性の評価
各実験例で得られた光学機器用遮光部材の表面抵抗率（Ω）を、ＪＩＳＫ６９１１：１９９５に基づき測定した。表面抵抗率が１．０×１０^５Ω未満のものを「○」、１．０×１０^５Ω以上１．０×１０^８Ω未満のものを「△」、１．０×１０^８Ω以上ものを「×」とした。

（５）接着性の評価
各実験例で得られた光学機器用遮光部材の接着性を、ＪＩＳ−Ｋ５４００：１９９０における碁盤目テープ法に基づき測定して評価した。碁盤目部分の面績が１０％以上剥離したものを「×」、５％以上１０％未満のものを「△」、５％未満のものを「○」とした。

（６）耐摩耗性の評価
各実験例で得られた光学機器用遮光部材の遮光層表面について、磨耗試験機（ＮＵＳ−ＩＳＯ−１）を使用して、可動部と固定部にサンプル片を設置し、荷重５００ｇ、１００往復の条件で磨耗試験を行い、その磨耗試験前後の固定部に設置したサンプル片表面の光沢度（鏡面光沢度）を測定し、その差を評価した。その結果、「磨耗試験後（光沢度）−磨耗試験前（光沢度）」の値が、１．０未満のものを「○」、１．０以上１．５未満のものを「△」、１．５以上のものを「×」とした。

（７）耐熱性の評価
各実験例で得られた光学機器用遮光部材の耐熱性を次のようにして評価した。まず、各遮光部材に対して２７０℃で５秒間、熱処理を施す。次に熱処理後の各遮光部材の遮光膜表面の光沢度を、上記（３）と同様に、ＪＩＳ−Ｚ８７４１：１９９７に基づきを測定する。その結果、光沢度が、熱処理前後で変化なし若しくは低下したものを耐熱性ありと判断し「○」、熱処理後の光沢度が熱処理前の光沢度より増加したものを耐熱性なしと判断し「×」とした。

３．考察
表２及び表３から以下のことが理解できる。

まず、光学機器用遮光部材の遮光膜に要求される一般的な物性（遮光性、摺動性、艶消し性、導電性）についてであるが、一部の実験例（実験例４，１０）を除き満足できる結果が得られている。

摺動性に関し、実験例４が劣ったのは、特定の滑剤を用いなかった上に、その配合量が少なすぎた（９．５重量％）ことによる。実験例１０が劣ったのは、滑剤を何ら配合しなかったことによる。なお、実験例８では、特定の滑剤を用いなかったが、その配合量が十分（１６．３重量％）であったため、実験例４と比較して十分な摺動性が得られたものと思われる。

次に、遮光膜の接着性、耐摩耗性、耐熱性についてであるが、一部の実験例（実験例４，８，９，１０）を除き満足できる結果が得られている。

接着性に関し、実験例８，９が若干劣るのは、特定の滑剤を使用しておらず、かつ滑剤含有量を少量にできなかった（１６．３０重量％）ため、バインダー樹脂の含有量を十分に高くできなかった（６４．８重量％）ためであると思われる。実験例１０で接着性が優れていたのは、バインダー樹脂の配合量が十分に高かったことによるものと思われる。

なお、実験例８，９の場合でも、基材にＰＥＴフィルムを用いた場合には、良好な接着性が得られることが確認されている。

耐摩耗性に関し、実験例４が劣ったのは、特定の滑剤を用いず、密度が微粒子よりも小さい滑剤を用いたことにより、塗膜表面に滑剤が多く存在することになり、塗膜表面が柔らかく傷付き易くなったことによる。実験例８についても同様である。実験例９が若干劣ったのは、滑剤含有量が多く（１６．３０重量％）、その反面バインダー樹脂の含有量が少ない（６４．８重量％）ためであると思われる。

なお、上述した遮光性、摺動性、艶消し性、導電性の場合と異なり、実験例４よりも滑剤配合量の多かった実験例８が、実験例４と同様、耐摩耗性に劣ったのは、遮光膜への滑剤配合量を多くした（１６．３０重量％）ことによる相対的効果として、バインダー樹脂の含有率を十分に高くできていない（６４．８重量％）ことによる。実験例１０が劣ったのは、そもそも滑剤を配合しなかったことによる。

耐熱性に関し、実験例４が劣ったのは、特定の滑剤を用いなかったことによる。実験例８についても同様である。

なお、遮光膜の接着性、耐摩耗性、耐熱性に関し、滑剤との間で所定の密度関係を満足するものであれば、配合する微粒子の種類（無機系、有機系の別）を問わず同様の性能（接着性、耐摩耗性、耐熱性）を得ることができることも確認できた（実験例１，５，１１参照）。

１…光学機器用遮光部材、２…基材、３…遮光膜、３１…バインダー樹脂及びカーボンブラック、３２…滑剤、３３…微粒子

Claims

フィルム基材と、前記基材の少なくとも片面に形成された遮光膜とを有する光学機器用遮光部材であって、
前記遮光膜は、バインダー樹脂、カーボンブラック、粒子状の滑剤、及び微粒子を含有し、
前記バインダー樹脂及び前記滑剤の含有率が、それぞれ７０重量％以上、５〜１５重量％であり、
前記滑剤は、密度が前記微粒子よりも大きいことを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１記載の光学機器用遮光部材において、
前記滑剤の含有率が１０重量％以下であることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１又は２記載の光学機器用遮光部材において、
前記滑剤の密度が、２．０（ｇ／ｃｍ^３）以上であることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１〜３の何れか一項記載の光学機器用遮光部材において、
前記滑剤は、平均粒径が５〜１０μｍであることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１〜４の何れか一項記載の光学機器用遮光部材において、
前記滑剤は、フッ素樹脂粒子であることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１〜５の何れか一項記載の光学機器用遮光部材において、
前記カーボンブラック及び微粒子の含有率が、それぞれ５〜２０重量％、１〜１０重量％であることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１〜６の何れか一項記載の光学機器用遮光部材において、
前記バインダー樹脂が、熱硬化性樹脂であることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１〜７の何れか一項記載の光学機器用遮光部材において、
前記フィルム基材が、ポリイミドフィルムであることを特徴とする光学機器用遮光部材。
請求項１〜８の何れか一項記載の光学機器用遮光部材において、
前記微粒子は、吸油量が２５０（ｇ／１００ｇ）以上であることを特徴とする光学機器用遮光部材。