JP2011103463A - z運動し、多関節アームを備える直線真空ロボット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】線形搬送チャンバは、線形トラックと、線形トラックに乗せられて、処理チャンバの側面に沿って基板を線形に搬送するロボットアームとを含み、処理チャンバに到達させる方法として、基板を、制御された雰囲気中にロードロックを介してフィードし、次いで搬送チャンバに沿ってフィードする。線形平行移動、回転と分節、及びz運動が可能な4軸ロボットアームが開示される。
【選択図】図18A
Description
近年、それ自体の形状が多角形状でなく線形である点、及びウェーハが処理のためにあるチャンバから次のチャンバへと移動する点でこれら従来のユニットとは異なるシステムが説明されている。ウェーハが1つのチャンバから隣接するチャンバに順々に移動するため、機器の一部として中央ゾーンを設ける必要がなくなる。このツールでは、ウェーハがユニット内に入ると、一般には、ウェーハがシステム内を移動するときにウェーハと一緒に移動するチャックに取り付けられる。このユニットでは、各チャンバ内で実施される処理時間は、それぞれ等しい。
ウェーハを作る処理ステップの数は、これらのさまざまなプロセスを実行するために従来の装置を使用する場合には、複数のツール、又は大きいサブシステムを有するツールが必要とされるであろう、ということを意味し得る。しかしながら、本発明のシステムは、付加的な機能的なステーションが、サイズの顕著な増加を伴わず、また新規な全体のシステムを加える必要なしで、加えられることが可能であるという更なる効果を提供する。
開示された実施例の搬送は、真空壁を介した線形/回転運動に基づいている単純なリンケージアームに依存している。経費を低く保つことと関連して、チャンバ設計は、モジュール方式に基づく。このように、一実施例において、システムは3つのチャンバを有することができる。または、マッチング構造を利用することができ、システムは6つのチャンバを有することができる。あるいは、この最後の一文は、4又は8個のチャンバ、又はこれ以外の複数に関し繰り返され得るものであり、あるいは、異なる数の処理ステーションを有するモジュールにマッチさせることができる。
いくつかの従来技術のシステムでは、中央ロボットは一時に1つのウェーハ及び1つのチャンバにしかアクセスすることができない。したがって、ウェーハが単一のチャンバ内にあり、関連する処理が行われている間に、ロボットが手一杯となり又はビジー状態となる可能性がある。ロボットが1つしか存在しないことと、そのようなロボットが処理中に処理ステーションに拘束されることにより、このタイプのクラスタツールのスループットが制限されている。より近代的なユニットでは、マルチアーム式のロボティクスが使用される。
処理チャンバは、任意の形のプロセッサを備えることができ、例えば物理気相成長用チャンバ、化学気相成長(CVD)用チャンバ、エッチング用チャンバ、ウェーハ製造中にウェーハ上で実施される他の処理用のチャンバ等を含むことができる。このタイプのツールによれば、処理時間を異ならせることができる。それは、ウェーハが処理される際において、ロボットアームによるチャンバへの搬送、及びチャンバからのウェーハの取り出しは、他の要因とは独立して行われ、コンピュータ制御されるためである。言うまでもなく、処理は、同じ時間及び定義された順序に設置することができる。
FOUP(図示せず)は、ウェーハが収容され、処理動作の待機中に清浄に保たれるハウジング又は筐体を備える。EFEM 33にはフィード機構も関連付けることができる。フィード機構は、ウェーハを処理のためにシステム内に配置し、処理が行われた後は、システムからウェーハを取り出して、ウェーハを一時的に収容するためのものである。EFEM 33上にはウェーハのFOUPが配置されており、そこでは、EFEM 33内のFOUPからウェーハを持ち上げ、該ウェーハをシステム内に入れるためにロードロックコンパートメント35内に搬入するブレードによって、ウェーハが1つずつFOUPから搬送される。
ウェーハは、ロードロックコンパートメント35から搬送チャンバ32に沿って移動し、搬送チャンバ32から処理チャンバ31内へと搬送される。基板は、処理チャンバ内に入った後、支持アームから離れ、その代わりにチャンバ内の基板支持体上に置かれる。この時点で、処理チャンバの雰囲気と搬送チャンバの雰囲気とを分離するためにバルブが閉じられる。これにより、搬送チャンバ又は他の処理チャンバを汚染することなく処理チャンバ内部に変更を加えることが可能となる。処理が行われた後は、処理チャンバと搬送チャンバとを分離していたバルブが開き、ウェーハが処理チャンバから取り出され、追加的な処理を行う場合は搬送チャンバ32に沿って別の処理チャンバへと搬送され、あるいはロードロックへと搬送され、当該ロードロックからEFEM 33上のFOUPに戻される。図3には、4つの処理チャンバ31が示されている。
図3には、4つの処理電源37と、配電ユニット36も示されている。これらを組み合わせてシステムのエレクトロニクスが提供され、個々の各処理チャンバに電力が供給される。処理チャンバ31の上には、プロセスガスキャビネット38と、情報処理キャビネット40とが存在する。これらのユニットを利用して、システムに入力された情報によって搬送チャンバ32に沿った基板の移動が制御され、基板がさらなる処理のために処理チャンバ内に搬送されるかどうかが制御される。これらのユニットは、処理チャンバ内で発生した事象に関する記録も提供する。チャンバ内の処理中に使用されるガスが供給される。ここでは、システムへウェーハを供給し且つシステム内の各処理ステーションを介してウェーハを供給するロボット操作機構が2アームシステムとして説明されているが、実際には、3本以上のアームが存在してもよく、搬送移動チャンバ内でそれぞれのアームが独立して移動するように設定することも、一緒に移動するように設定することも可能である。
非真空状態から真空状態への移行が完了すると、ウェーハがアーム41上に持ち上げられ、アーム41が搬送チャンバ32内に移動する。図4では、そのようなアームの一方を確認することができ、他方のアームは、第1処理チャンバの左側の要素で部分的に覆われている。図には、全体が確認できる方のアームがウェーハを処理チャンバ31内に配送する様子(あるいは、当該チャンバから処理済みのウェーハを取り出す様子)が示されている。アーム41は、搬送チャンバ内に沿って直線レール43上を移動する。本実施形態では、搬送チャンバ32内のレールは、支持アーム41をチャンバ32の床面上方に保持する。また、図4には示していないが、真空の外部からチャンバ32の筐体壁部を介して作用する駆動機構が存在する。この駆動機構は、アーム41をチャンバ内又はロードロック35内まで延ばすことが望まれる場合に、アーム41のほぼ直線運動ならびに回転運動を可能にする。
したがって、アームは、搬送チャンバ32の内外、処理チャンバ31の内外、又はロードロックチャンバ35の内外にウェーハを移動させるのに使用される。このようなチャンバの基部との接触を回避することにより、パーティクルの発生が抑えられ、その結果、環境をより清浄に保ち、又はパーティクルフリー状態を維持することが可能となる。
以下では、後続の図面を参照して、本搬送システムのさらなる詳細について論じる。また、図4には2本のアームが示されているが、システムは、レール上に3本以上のアームを有することも2本未満のアームを有することもでき、また、任意の時点で3つ以上のウェーハ搬送装置を取り扱うことができることも容易に理解されるであろう。
最終的に、各アームは、各ウェーハの処理が行われた後、それらを搬送チャンバに沿ってロードロック35内に移動させ、その後システム34外部に移動させる。処理が完了したときは、ウェーハをロードロックから処理済みのウェーハが回収されるFOUP内に戻すことができる。ロードロック又は処理チャンバ内のウェーハは、それ自体をアーム41と関連付けられた支持体表面上まで持ち上げることによって搬送される。支持体表面のリフトピンがウェーハを上昇させることにより、アームがウェーハの下方に進入することが可能となり、その結果、アームによってウェーハを持ち上げ、ウェーハをシステム内の次の工程に移動させることが可能となる。
別法として、ウェーハの下方にスライドし、ウェーハを搬送中に支持する棚としての性質を有する構造を利用して、チャンバ又はコンパートメントからウェーハが持ち出されるとき又は取り出されるときに、ウェーハを支持し保持することができ、また、ウェーハをアームから受け取り、アームから離すことができる。各アームは、接触することなく互いの上下を通過するように配置され、互いにすれ違うことができる。
各アームは、内部の駆動支持機構45に連結されている。駆動支持機構45には直線駆動トラック(linear drive track)が設けられており、駆動支持機構45は、この直線駆動トラックに沿って搬送チャンバ32内を移動する。駆動支持機構45の動作は、モータ等の外部駆動源によって引き起こされる。ある形態の駆動源は、駆動支持機構45を駆動トラック46に沿って直線運動させる。別の形態の駆動源は、ウェーハ42をシステム内に移動させシステム内を通過させる過程で、各アーム41が搬送チャンバ32からロードロック35又は処理チャンバ31内に延びるようにアーム41を回転させる。駆動トラック46の内部には、各駆動支持機構がその上に独立して載せられる個々のレール47(詳細は図6に示される)が存在し、それにより、各アーム41が互いに独立して移動し作用するように配置することが可能となる。処理チャンバ内へのウェーハの移動は、その性質上、直線駆動経路からチャンバ内への平行移動となる。というのも、好ましい実施形態では、ウェーハが2つの運動形態を同時に経験するためである。ウェーハは、直線移動すると同時に回転する。外部モータ又は他の形態の駆動機構を使用して前記の機構を搬送チャンバ32の真空中で駆動することにより、密閉された真空領域の望ましくないパーティクルが少なくなる。
磁気ヘッド48から離れた位置に、磁気駆動源50が配置されている。磁気ヘッド48は、搬送チャンバの真空中に配置され、真空チャンバの壁(図7Aの53)は、各磁気ヘッド48の下方、及び磁気ヘッド48と駆動源50との間を通る。したがって、駆動源50は、搬送チャンバ32の真空壁の外部にある。上述のとおり、アーム41は、ウェーハ42を処理システム内に移動させ処理システム内を通過させるものであり、互いに独立して移動する。これらのアーム41は、駆動源50及び磁気ヘッド48を備える磁気カプラ装置によって駆動される。このカプラは、アーム41に対して直線運動と回転運動の両方をもたらす。駆動源50は、真空の外部に位置し、レールシステムの両側に現れる外側レール51に乗せられる。1つのレールセットが、反対側に現れる別のレールセットと対向関係をもって示されている。アームの回転は、磁気カプラを介して伝達され、回転モータ52によって駆動される。図6では、磁気結合が直線運動及び回転に使用されるものとして示されているが、別個の磁気カプラ及び駆動源を使用することもできることが容易に理解されるであろう。したがって、直線運動及び回転運動は同一のカプラを介して伝達されることが好ましいが、直線運動用と回転運動用に別個のカプラを使用することも可能である。
実際には、アームの長さが原因で、カプラ48とカプラ50の間の小さい角度誤差が、アーム41の端部に置かれたウェーハを大きく変位させることもある。また、アームの長さ及び重さが原因で、また、アームがウェーハを支持しているのか否かに応じた重さの変化が原因で、過渡運動が許容できない時間にわたって持続することもある。これらの問題を回避するために、磁気カプラ48と回転カプラ56又はアーム41との間に減速ギア(減速機又はギア減速機と呼ばれることもある)55が介装されている。減速機は、動力によりロボットアームに与えられる作動速度を減らすためのものである。ギア減速機55には、磁気カプラ48の回転が入力され、ギア減速機55からは、モータ52の回転速度よりも低い回転速度でアーム41を作動させるために、より遅い回転速度の出力が得られる。この具体例では、ギア減速機55の減速比は、50:1に設定される。これにより、アーム41の角度配置の正確さが大幅に向上し、過渡運動が大幅に減少するとともに、駆動アセンブリ技術の慣性モーメントも大幅に減少する。
2組目のプロセッサが1組目のプロセッサに連接される場合には、システムに沿って追加的なロードロックを配置することが有益である可能性もある。言うまでもなく、ウェーハが直線移動して一方側から入り他方側からでることができるように、末端部分にEFEMを追加し、当該EFEMの手前にロードロックを配置することも可能である(図11B参照。図11Bの各参照符号は、既出の図面の要素と同様の要素を示している)。後者の場合では、ウェーハが一方側あるいは両側から出入りするようにプログラムすることが可能である。処理チャンバは、搬送チャンバに沿って不規則な間隔で配置すること、即ち処理チャンバ間にスペースを設けて配置することも可能である。この配列の重要な特徴は、搬送チャンバが所望の形で且つシステムに関するコンピュータ制御の指令に応じてウェーハを個々の処理チャンバにフィードすることができるように、搬送チャンバが配置されることである。
加えて、システムにおける全てのもの、例えばロードロック、ロボットアーム、チャンバのチャック等が完全に同じ離間距離にあるように調整されることが確実となるよう、注意を払う必要がある。これは、システムの設計、動作、及びメンテナンスにおいて、とてつもなく大きな限定でありかつ負担である。
例えば、2枚のウェーハが、ロードロック1235内部において上下に重ねて配置され、1つのアームが下方のウェーハを取り、もう1つのアームが上方のウェーハを取ることができる。そして、各アームは、直列型のチャンバの一方の側にそのウェーハを配置する。この実施例の革新的な特徴によれば、各ロボットは、基板を直列型の処理チャンバのどちらの側にも配置できる。すなわち、ロボットアームとチャンバの間の1対1の対応がある従来技術と異なり、言い換えるならば、右側のロボットアームが直列型のチャンバの右側だけに運び込むことができる従来技術と異なり、本発明では、いかなるアームも、直列型のチャンバのどちらの側にも運び込みを行うことができる。
加えて、従来技術システムで単一のバルブが直列型のチャンバ及びロードロックのために提供されなければならない。これに対し、本発明では、ロボットアームが独立しているので、チャンバ1201のための1251及び1253で示すように、各プロセス領域はそれ自身の独立した遮断バルブを有することができる。または、チャンバ1203のための1255で示すように、単一のバルブが用いられてもよい。
真空ポンプ1212は両方の処理ゾーンに至る排気連結管(manifold)に接続していることができる。それによって、両方のゾーンを同じ圧力に維持する。他の要素、例えばRF源は両方の処理ゾーンに共通でもよいし、または、各ゾーン毎に別々に設けられていてもよい。
また、任意には、2つのチャンバが、メインフレームに搭載されつつ整列配置されて通常の直列型チャンバとして機能するようキー1202が設けられていても良い。これならば、より大きい直列型処理チャンバを製造するための複雑さ、及びコストを伴わない。
チャンバ1405は従来のバッチ処理チャンバ(例えば、4つのウェーハ・ステーション(内部に定められる4つの円形配列の処理領域)を有する熱CVD又は又はプラズマ増幅CVDチャンバ)でもよい。ステーションは、一度に1つだけロードされてもよいし、2つロードされてもよい。
単一チャンバ1404は、単一の基板処理チャンバでもよいし、積層型複数ウェーハ冷却ステーションであってもよい。例えば、複数の、例えば25枚のウェーハを積み重ねた冷却ステーションでもよい。
更に、本発明ではロボットアームが独立しているので、直列型の処理は一度に2枚のウェーハ処理に限定されない。この例では、3枚の基板の直列型処理チャンバが示され、3枚のウェーハの並行処理を可能にしている。
ここでは、2本のアームだけが示され、チャンバ1401に完全にロードを行うため1本のアームが2回の移動を必要としている一方、図15にて図示したように、3本以上のアームを有する装置が用いられることも可能である。
図14において示される他の任意の特徴は、蛙の脚、一般的にはSCARA(Selective Compliance Assembly Robot Arm)と呼ばれているロボットアーム1441及び1443を使用していることである。ロボットアーム1441、1443は、本発明の他の実施形態と同様に線形のレールに載っている。
この例では、2本の線形レール1543及び1543’が搬送チャンバ1532に位置している。そして、それぞれは2本の線形ロボットアーム1541を支持する。一例において、線形トラック1543上のロボットアームが搬送チャンバ1532の左側において処理チャンバ1501に供給を行い、その一方で、他のロボットアームは他方の側のチャンバに供給を行う。しかしながら、ロボットアームは、搬送チャンバ1532のどちらの側のチャンバに対しても供給を行うように構成されることが可能である。
この例では直列型のロードロックが例示されているが、単一基板用ロードロック又は積層型ロードロックが同様に利用できることと理解されるべきである。
積載用ロードロックに対向する側で積み下ろし用(unloading)ロードロックを有することによって、必要に応じて、破線シルエットで示すように、他のシステムは、積み下ろし用ロードロックに直接連結できる。このように、本システムは、特定の状況によって、必要に応じてさまざまな数の処理チャンバを搭載するようモジュール式にされることができる。
エレベータ1662は、上下の線形搬送チャンバの間で基板を移動させる。この特定の例では、基板は、積み込みチャンバ1671から載せられて、積み下ろしチャンバ1673を経て取り除かれる。しかしながら、必要に応じて、他のエレベータを同様にシステムの前に設けることができる。その結果、チャンバは同じレベルで載せられて、降ろされる。
駆動コイル50は、コイル48に対向している位置の真空環境の外側に位置する。ステッパーモータが付勢されることを必要とするときに、電流は適当なコイル50において流される。このコイル50は対応するコイル48の電流を誘発する。そして、このことによりモータに付勢する。
Claims (20)
- 線形トラックに自由に乗せられるように構成された基部と、
前記基部に直線運動を与えるリニアモータと、
前記基部に結合された第1のアーム部と、
前記第1のアーム部に回転可能に結合された第2のアーム部と、
前記第2のアーム部に回転可能に結合された第3のアーム部と、
第1のモータの回転に磁気的に追従し、それにより前記第2のアーム部を回転させるよう構成された第1の磁気結合フォロワアセンブリと、
第2のモータの回転に磁気的に追従し、それにより前記第3のアーム部を回転させるよう構成された第2の磁気結合フォロワアセンブリと
を備えることを特徴とする多関節アームロボットシステム。 - 前記第1の磁気結合フォロワアセンブリに結合された第1のプーリと、
前記第2のアーム部に結合された第2のプーリと、
前記第1のプーリから前記第2のプーリに回転運動を伝え、それにより前記第2のアーム部を回転させる柔軟無端バンドと
を備えることを特徴とする請求項1に記載の多関節アームロボットシステム。 - 前記第2のプーリは、前記第1のプーリより直径が大きい
ことを特徴とする請求項2に記載の多関節アームロボットシステム。 - 前記第2の磁気結合フォロワアセンブリに結合された第3のプーリと、
前記第3のプーリからの無端バンドにより駆動される第4のプーリと、
前記第4のプーリに結合された第5のプーリと、
前記第3のアーム部に結合された第6のプーリと、
前記第5のプーリから前記第6のプーリに回転運動を伝え、それにより前記第3のアーム部を回転させる柔軟無端バンドと
をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載の多関節アームロボットシステム。 - 前記第6のプーリは、前記第5のプーリより直径が大きい
ことを特徴とする請求項1に記載の多関節アームロボットシステム。 - 第3のモータの回転に磁気的に追従するよう構成された第3の磁気結合フォロワアセンブリと、
前記第3の磁気結合フォロワアセンブリに結合されてそれと共に回転し、それにより前記第1のアーム部の高度を変化させる送りネジと
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の多関節アームロボットシステム。 - 前記第1の磁気結合フォロワアセンブリに第1のスプライン軸を介して結合された第1のプーリと、
前記第2の磁気結合フォロワアセンブリに第2のスプライン軸を介して結合された第2のプーリと
をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の多関節アームロボットシステム。 - 入れ子式にされた複数の軸に取り付けられた第3のプーリ及び第4のプーリと、
前記第1のプーリから前記第3のプーリに回転を伝え、それにより前記第2のアーム部を回転させる第1の駆動ベルトと、
前記第2のプーリから前記第4のプーリに回転を伝え、それにより前記第3のアーム部を回転させる第2の駆動ベルトと
をさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の多関節アームロボットシステム。 - 前記第3のプーリは、前記第1のプーリより直径が大きい
ことを特徴とする請求項8に記載の多関節アームロボットシステム。 - 細長い真空チャンバと、
前記細長い真空チャンバ内に付加される線形トラックと、
前記真空チャンバの外部に配置され、第1の磁気駆動源を回転させる第1のモータと、
前記真空チャンバの外部に配置され、第2の磁気駆動源を回転させる第2のモータと、
前記線形トラックに乗せられるロボットアームアセンブリと、
エレベーション機構と
を備える基板搬送システムであって、
前記ロボットアームアセンブリは、
前記線形トラックに自由に乗せられるように構成された基部と、
前記基部に直線運動を与えるリニアモータと、
前記基部に結合された固定アームと、
前記固定アームに回転可能に結合された多関節アームと、
前記第1の磁気駆動源の回転に磁気的に追従し、それにより前記多関節アームを回転させるよう構成された第1の磁気結合フォロワアセンブリと、
前記第2の磁気駆動源の回転に磁気的に追従するよう構成された第2の磁気結合フォロワアセンブリと
を備え、
前記エレベーション機構は、前記第2の磁気結合フォロワアセンブリに結合されてそこから回転運動を受け取り、それにより前記固定アームを上昇させる
ことを特徴とする基板搬送システム。 - 前記第1の磁気結合フォロワアセンブリに結合された第1のプーリと、
前記多関節アームに結合された第2のプーリと、
前記第1のプーリから前記第2のプーリに回転運動を伝え、それにより前記多関節アームを回転させる柔軟無端バンドと
をさらに備えることを特徴とする請求項10に記載の基板搬送システム。 - 前記エレベーション機構は、送りネジを備える
ことを特徴とする請求項11に記載の基板搬送システム。 - スプライン軸をさらに備え、
前記第1のプーリは前記スプライン軸に取り付けられる
ことを特徴とする請求項12に記載の基板搬送システム。 - 前記多関節アームに回転可能に結合されたロボットアーム部
をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載の基板搬送システム。 - 前記真空チャンバの外部に配置され、第3の磁気駆動源を回転させる第3のモータと、
前記第3の磁気駆動源の回転に磁気的に追従し、それにより前記ロボットアーム部を回転させるよう構成された第3の磁気結合フォロワアセンブリと
をさらに備えることを特徴とする請求項14に記載の基板搬送システム。 - 前記第3のモータの回転運動を伝えて前記ロボットアーム部を回転させるプーリ−無端バンドアセンブリをさらに備える
ことを特徴とする請求項15に記載の基板搬送システム。 - スプライン軸をさらに備え、
前記プーリ−無端バンドアセンブリの少なくとも1つのプーリが前記スプライン軸に取り付けられる
ことを特徴とする請求項16に記載の基板搬送システム。 - 前記第1及び第2の磁気駆動源と前記第1及び第2の磁気フォロワアセンブリとの間に真空隔壁をさらに備える
ことを特徴とする請求項10に記載の基板搬送システム。 - 前記第1の磁気フォロワアセンブリは、減速ギアをさらに備える
ことを特徴とする請求項18に記載の基板搬送システム。 - 前記第2の磁気フォロワアセンブリは、減速ギアをさらに備える
ことを特徴とする請求項19に記載の基板搬送システム。
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