JP2011099166A - 軟磁性膜用Co−Fe系合金、軟磁性膜および垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原子比における組成式が((Co100−x−Fex)100−Y−NiY)100−(a+b+c)−M1a−M2b−Tic、5≦X≦80、0≦Y≦25、2≦a≦6、2≦b≦10、0.5≦c≦10で表され、残部不可避的不純物からなるCo−Fe系合金。この軟磁性膜用Co−Fe系合金は、組成式のM1元素が(Zr、Hf、Y)から選ばれる1種もしくは2種以上の元素、組成式のM2元素が(Ta、Nb)から選ばれる1種もしくは2種の元素であることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
背景技術
垂直磁気記録方式とは、垂直磁気記録媒体の磁性膜を媒体面に対して磁化容易軸が垂直方向に配向するように形成したものであり、記録密度を上げて行ってもビット内の反磁界が小さく、記録再生特性の低下が少ない高記録密度に適した方法である。そして、垂直磁気記録方式においては、記録感度を高めた磁気記録膜層と軟磁性膜層とを有する記録媒体が開発されている。
そして、上記のような軟磁性膜は、一般的に同一組成のターゲット材を利用したマグネトロンスパッタリングによって形成されている。一方で、このようなCo−Fe系合金のターゲット材では、耐候性に課題を有していることからCo−Fe系合金にAlやCrを添加したターゲット材などが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
本発明のCo−Fe系合金のベースとなるCo−Fe合金は、((Co100−X−FeX)100−Y−NiY)、5≦X≦80、0≦Y≦25で表される組成である。それは、この組成範囲にあるCo−Fe合金は飽和磁化が大きく軟磁性膜として適切であるためである。また、Co−Fe合金の一部は、Niの添加量Yが0≦Y≦25となる範囲で置換可能である。それは、飽和磁化を大きく低減することなく、軟磁気特性の改善に有効なためである。
上記のCo−Fe合金には、M1元素として(Zr、Hf、Y)から選ばれる1種もしくは2種以上の元素を2〜6原子%、およびM2元素として(Ta、Nb)から選ばれる1種もしくは2種の元素を2〜10原子%添加する。それは、M1元素とM2元素とを上記範囲で含有することで、Co−Fe合金の飽和磁化を大きく損なうことなく、スパッタ膜としてのアモルファス化や磁気特性の改善を行えるためである。
まず、表1に示すCo−Fe系合金組成の鋳造インゴットを作製した。なお、鋳造インゴットは、純度99.9%以上の原料を用い真空中の高周波加熱炉で加熱・溶解したのち、鉄製の鋳型に鋳造し直径220mm×45mmのインゴットを作製した。作製したインゴットを加工して、直径180mm×厚さ7mmのCo−Fe系合金バルク体を作製した。
バルク体の耐候性評価として、鋳造インゴットから直径10mm×20mmの試料を作製し、50℃の10%塩酸に24時間浸漬し重量の減少率を測定して、バルク体の耐候性を評価した。測定結果を表1に示す。
また、バルク体の磁性評価として、鋳造インゴットから30mm×10mm×5mmの試料を作製し、直流磁気特性測定装置(東英工業製TRF5A)を用いて、外部磁場160k(A/m)時の磁化を測定した。その結果を表2に示す。
バルク体の耐候性評価として、鋳造インゴットから直径10mm×20mmの試料を作製し50℃の10%硫酸に24時間浸漬し重量の減少率を測定して、バルク体の耐候性を評価した。測定結果を表3に示す。
また、バルク体の磁性評価として、鋳造インゴットから30mm×10mm×5mmの試料を作製し、直流磁気特性測定装置(東英工業製TRF5A)を用いて、外部磁場160k(A/m)時の磁化を測定した。その結果を表4に示す。
さらに、バルク体の硬度評価として、鋳造インゴットから10mm×10mm×5mmの試料を作製し、ロックウェル硬度計を用いて、Cスケールで硬度を測定した。その結果を表5に示す。
ガラス基板上に膜厚200nmで成膜した各試料を純水中に24時間浸漬した耐候性試験を行い、腐食領域を目視観察した結果を表6に示す。なお、表6では、腐食領域が目視で観察されないものを○、目視で観察されるものを×と表示している。
(2)磁化評価
Siウェハー上に膜厚300nmで成膜した各試料を10×10mmに割り出した後、各試料の飽和磁化評価を行った結果を表6に示す。なお、測定は東英工業(株)製振動試料型磁力計VSM−3を用いて、外部磁場800000(A/m)を印加して測定をした。
(3)硬度評価
アルミ基板上に膜厚4μmの薄膜を成膜した。成膜した各試料を硬度測定した結果を表6に示す。なお、硬度測定は、マイクロビッカースを用いて、25(g)の印加荷重で5点を測定し、その平均値を硬度として表6に示した。
産業上の利用可能性
Claims (7)
- 原子比における組成式が((Co100−x−Fex)100−Y−NiY)100−(a+b+c)−M1a−M2b−Tic、5≦X≦80、0≦Y≦25、2≦a≦6、2≦b≦10、0.5≦c≦10で表され、残部不可避的不純物からなるCo−Fe系合金であって、前記組成式のM1元素が(Zr、Hf、Y)から選ばれる1種もしくは2種以上の元素、前記組成式のM2元素が(Ta、Nb)から選ばれる1種もしくは2種の元素であることを特徴とする軟磁性膜用Co−Fe系合金。
- スパッタリングターゲット材として使用されることを特徴とする請求項1に記載の軟磁性膜用Co−Fe系合金。
- 垂直磁気記録媒体の軟磁性膜層を形成することを特徴とする請求項1に記載の軟磁性膜用Co−Fe系合金。
- 飽和磁化が1.0(T)以上であることを特徴とする請求項1に記載の軟磁性膜用Co−Fe系合金。
- スパッタリング成膜により形成された請求項1に記載の軟磁性膜用Co−Fe系合金であることを特徴とする軟磁性膜。
- 請求項1に記載の軟磁性膜用Co−Fe系合金からなる膜を磁気記録膜層の下地層として少なくとも1層以上用いたことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
- スパッタリング成膜により形成された請求項1に記載の軟磁性膜用Co−Fe系合金である軟磁性膜を磁気記録膜層の下地層として少なくとも1層以上用いたことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
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