JP2011096867A - 半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法 - Google Patents

半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011096867A
JP2011096867A JP2009249707A JP2009249707A JP2011096867A JP 2011096867 A JP2011096867 A JP 2011096867A JP 2009249707 A JP2009249707 A JP 2009249707A JP 2009249707 A JP2009249707 A JP 2009249707A JP 2011096867 A JP2011096867 A JP 2011096867A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
chip
wafer
adhesive sheet
outer peripheral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009249707A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5592634B2 (ja
Inventor
Hideaki Kato
秀昭 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2009249707A priority Critical patent/JP5592634B2/ja
Publication of JP2011096867A publication Critical patent/JP2011096867A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5592634B2 publication Critical patent/JP5592634B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】多数のチップを含むウエハに貼付された接着シートを剥離するときに、接着シートにウエハ部分が付着しない半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法を提供すること。
【解決手段】相互に交差する切削溝GがウエハWの表面Wa側から裏面Wbに達しない深さで形成され、裏面Wb側を研削することで多数のチップCが得られる。切削溝Gは、その端GeがウエハWの外周縁Wcよりも内側に位置する長さに設けられ、ウエハWの外周縁領域にチップ連続体20が閉ループ状に形成されることで、ウエハWの表面Waから第1接着シートS1を剥離する際に、不定形チップC2が第1接着シートS1に付着して持ち上がることが防止される。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法に係り、更に詳しくは、電子部品を構成する多数の半導体チップを半導体ウエハから形成する過程において、半導体ウエハの回路が形成された面側に貼付された接着シートを剥離する際に、接着シートに付着して持ち上げられた不定形チップが定形チップ上に落下することに起因するチップの傷つきを防止することのできる半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法に関する。
表面に回路が形成された半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という場合がある)は、ダイシングによって電子部品として利用可能な個々の半導体チップ(以下、単に「チップ」という場合がある)に分割される。ウエハからチップを得るまでの工程の一例としては、ウエハ表面に回路を形成し、表面側から相互に交差する方向に延びる所定深さ(有底)の切削溝を形成した後に回路形成面に保護用の第1接着シートを貼付し、次いで、裏面側から切削溝に達するまで研削を行って個々のチップに分割する。そして、研削された裏面側に第2接着シートを貼付し、当該第2接着シートを介してウエハを保持した状態で第1接着シートを剥離することで、個々のチップがピックアップできるようになる。このようなウエハ加工方法は、例えば、特許文献1に開示されている。
特開2003−229384号公報
しかしながら、特許文献1に記載されたウエハ加工方法にあっては、次のような不都合がある。すなわち、図6に示されるように、相互に交差する方向に延びる切削溝Gが形成された後のウエハWは、内側領域に定形チップC1が形成され、外側領域に不定形チップC2が形成される。このような状態のウエハWから回路形成面に貼付された第1接着シートS1(保護シート)を剥離したときに、当該第1接着シートS1に不定形チップC2が付着して持ち上げられ、剥離の途中段階で定形チップC1上に落下して当該定形チップC1を傷付けてしまい、チップ形成の歩留を低下させてしまう場合がある。
不定形チップC2が第1接着シートS1によって持ち上げられてしまう原因としては、定形チップC1が第1接着シートS1に持ち上げられないように、当該定形チップC1の角部から剥離が行われるようにその剥離方向が決定されるが、不定形チップC2にとっては必ずしも角部から剥離されるわけではない。つまり、不定形チップC2を構成するウエハWの外周縁である1辺に対し、略平行に第1接着シートS1の剥離縁が通過する領域があるためである。このように、角部からではなく辺部から第1接着シートS1が剥離される不定形チップC2が第1接着シートS1に付着して持ち上げられてしまう傾向にある。これは、第1接着シートS1の剥離終了領域でも同様の現象が起きる。なお、剥離開始領域と剥離終了領域との間の剥離中間領域では不定形チップC2が第1接着シートS1に付着して持ち上げられることは非常に少ない。これは、図6でも明らかなように、剥離中間領域では、不定形チップC2も角部から剥離されるようになるからである。
[発明の目的]
本発明の目的は、多数のチップを含むウエハの回路形成面側に貼付された接着シートを剥離するときに、当該接着シートに不定形チップが付着しない半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明は、表面に回路が形成された半導体ウエハの当該表面側に、相互に交差する方向に延びる有底の切削溝が複数形成された半導体チップの中間体であって、前記切削溝の一部又は全部における当該切削溝の少なくとも一端は、前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられ、前記半導体ウエハの裏面側から当該切削溝に達する位置まで研削を行ったときに、前記半導体ウエハの外周縁領域の少なくとも一部にチップ連続体を形成可能に設けられている、という構成を採っている。
前記中間体において、前記切削溝は、全ての端が前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられ、前記チップ連続体を閉ループ状に形成可能に設けられている、という構成を採ることが好ましい。
更に、本発明は、表面に回路が形成された半導体ウエハを裏面側から支持する支持手段と、前記表面側から相互に交差する方向に延びる有底の切削溝を複数形成する切削手段と、前記支持手段と前記切削手段とを所定制御して前記切削溝を形成させる制御手段とを備えた半導体ウエハの加工装置において、前記切削手段は、前記切削溝の一部又は全部における当該切削溝の少なくとも一端が、前記半導体ウエハの外周縁に達することのないように形成する、という構成を採っている。
前記加工装置において、前記切削溝は、全ての端が前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられている、という構成を採っている。
また、本発明は、表面に回路が形成された半導体ウエハの当該表面側から相互に交差する方向に延びるとともに、一部又は全部における切削溝の少なくとも一端が前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さの有底の切削溝を複数形成する工程と、
前記半導体ウエハの表面側に第1接着シートを貼付する工程と、
前記半導体ウエハの裏面側から前記切削溝に達する位置まで研削を行うことで、複数の半導体チップを形成するとともに、前記半導体ウエハの外周縁領域の少なくとも一部にチップ連続体を形成する工程と、
前記半導体ウエハを保持した状態で、前記チップ連続体を剥離開始端側として前記第1接着シートを剥離する工程とを含む、という手法を採っている。
更に、前記加工方法において、前記切削溝の全ての端を半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられることで、前記チップ連続体が前記半導体ウエハの外周縁全領域に形成される、という手法を採ることが好ましい。
本発明によれば、個片化された多数のチップを含むウエハの外周縁領域に、少なくとも一定の長さに亘るチップ連続体が形成されることになるので、例えば背景技術でいう第2接着シート等の支持力(接着力)を広域で受けることができ、ウエハの回路形成面から接着シートを剥離するときに、当該接着シートの剥離力に耐え得ることができるようになる。従って、接着シートに不定形チップが付着して持ち上がってしまうことを防止でき、不定形チップが定形チップ上へ落下することを回避して定形チップの損傷を回避することができる。
また、チップ連続体が閉ループ状に設けられていれば、接着シートを剥離すべき位置に制約を受けることなく剥離を行うことができる。
なお、チップ連続体とは、定形チップ以外のウエハ部分であって、ウエハの裏面側から切削溝に達する位置まで研削を行ったときに、複数の不定形チップが繋がった状態のものをいう。
実施形態に係るウエハ加工装置の概略構成図。 (A)〜(G)はウエハからチップを得るまでの工程説明図であって、(A)は切削溝が形成されたウエハの概略斜視図、(B)は(A)のa矢視断面図、(C)は第1接着シートが貼付されたウエハの概略斜視図、(D)は(C)のb矢視断面図、(E)はウエハの裏面を研削する状態を示す断面図、(F)は研削面に第2接着シートを貼付した状態を示す断面図、(G)は第1接着シートを剥離する状態を示す断面図。 半導体チップの中間体を示す概略平面図。 第1接着シートを剥離するシート剥離装置の概略正面図。 第1接着シートを剥離している状態を示す要部概略正面図。 従来の不都合を示す概略斜視図。
以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1に示されるように、ウエハ加工装置10は、切削手段11と、当該切削手段11を所定操作するシーケンサやパーソナルコンピュータ等からなる制御手段12とにより構成されている。切削手段11は、ウエハWを支持する支持手段としてのテーブル13と、ウエハWの回路が形成された表面Waから裏面Wbに達することのない深さ(有底)の切削溝Gを形成可能とするカッター15とにより構成されている。テーブル13は、図示しない減圧手段に接続されており、上面がウエハWの吸着面として構成されている。
前記カッター15は、回転刃16と、当該回転刃16を回転させるモータ17とを含み、当該カッター15は図示しない移動装置に支持されて直交3軸方向に移動可能に設けられている。なお、テーブル13を直交3軸方向に移動させてカッター15を固定位置に保つ構成の他、カッター15とテーブル13とをそれぞれ移動可能に設けることもできる。
前記制御手段12は、ウエハWに切削溝Gを形成するようにカッター15やテーブル13に動作信号を出力したり、ウエハWを吸着するようにテーブル13に動作信号を出力したりするようになっている。
次に、前記切削手段11を用いた半導体ウエハ加工工程について、図2ないし図5をも参照しながら説明する。
図1に示されるように、ウエハWがテーブル13に支持されて吸着保持されると、カッター15を介してウエハWの表面Waから裏面Wbに向かって有底の切削溝Gが形成される。切削溝Gは、図2(A)、(B)に示されるように、それぞれ平行な直線状に延びるとともに相互に直交して格子状をなし、全ての端がウエハWの外周縁Wcに達することがないように、当該外周縁Wcよりも内側に端Geが位置する長さに形成されている。これにより、ウエハWの外縁全領域に閉ループ状のチップ連続体20が形成可能になっている。なお、加工対象となるウエハWは、特に限定されるものではないが、直径が300mm、厚み775μm、切削溝Gの深さは150μm程度とされている。
切削溝Gが形成されると、図2(C)、(D)に示されるように、表面Wa側に第1接着シートS1が図示しないシート貼付装置を用いて貼付される。
次いで、図2(E)に示されるように、第1接着シートS1が下面側となるように、ウエハWを図示しないテーブルに吸着保持させた状態で、ウエハWを裏面Wb側からグラインダー21で研削する。この研削の深さは、切削溝Gに達するまで行われ、例えばウエハWが50μmの厚さになるまで研削される。これにより、図3に示されるように、ウエハWの内側領域には個片化された多数の定形チップC1が形成され、外側領域には不定形チップC2が全て繋がった状態の閉ループ状のチップ連続体20(図3中網点部)が形成される。
ウエハWの研削が全面的に行われると、図2(F)に示されるように、裏面Wbに第2接着シートS2が図示しないシート貼付装置を介して貼付され、リングフレームRFと一体化される。
第2接着シートS2を貼付した後は、図2(G)に示されるように接着シートS1が剥離される。この剥離は、図4に示されるように、第2接着シートS2が下面側となる姿勢で、ウエハWをシート剥離装置30のテーブル31上に吸着保持した状態で行われる。なお、このシート剥離装置30は、本出願人によって既に出願された特願2008−271792号に開示された装置と同等のものであり、装置各部の詳細な説明を省略する。
シート剥離装置30は、剥離用テープPTを繰り出してチャック32に保持させた後に、剥離用テープPTの一部を第1接着シートS1の外周部分に貼付手段35で接着させるとともに、当該接着された位置よりも繰り出し方向上流側で剥離用テープPTをテープ切断手段36で切断する。次いで、図5に示されるように、第1接着シートSを剥離ローラ39で反転する方向に押し付けるようにしてチャック32とテーブル31とを矢印方向に移動させることにより、第1接着シートS1がウエハWから剥離される。
この第1接着シートSを剥離する際、剥離方向は、図3中符号Aで示される方向とすることが好ましく、これにより、接着シートS1が定形チップC1の角部から剥離できるようになり、定形チップC1との剥離力が極力小さい位置から剥離して当該定形チップC1が第1接着シートS1に付着して持ち上げられてしまうことを防止することができる。また、ウエハWの外縁領域には、チップ連続体20が形成されているので、第1接着シートS1の剥離力が大きくてもチップ連続体20全体が第2接着シートS2に接着しているので、第1接着シートS1に付着して持ち上げられるような不都合は生じない。
第1接着シートS1が完全に剥離された後のウエハWは、ピックアップ工程等に搬送されることとなる。
従って、このような実施形態によれば、ウエハWの外周縁Wcよりも内側に切削溝Gの端Geが位置するように切削し、ウエハWの外縁領域に閉ループ状のチップ連続体20を形成したから、第1接着シートS1の剥離に際し、当該第1接着シートS1に不定形チップC2が付着して持ち上げられてしまうようなことはなくなり、不定形チップC2が落下して定形チップC1を損傷させる要因を効果的に回避できる。
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
前記実施形態では、ウエハWの外縁全領域にチップ連続体20を設ける構成について図示、説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、図3に示されるように、第1接着シートS1の剥離開始領域A1と、第1接着シートS1の剥離終了領域A2の双方、若しくは何れか一方の領域のみにチップ連続体20を形成し、それ以外の外周縁領域には、切削溝Gの端GeがウエハWの外周縁Wcに達する半導体チップの中間体としてもよい。これは、剥離開始領域A1と剥離終了領域A2との間の剥離中間領域では、不定形チップC2も角部から剥離されるようになるため、第1接着シートS1の剥離と共に不定形チップC2が付着して持ち上げられてしまうようなことが非常に少ないためである。また、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。
10 ウエハ加工装置
11 切削手段
12 制御手段
13 テーブル(支持手段)
20 チップ連続体
C 半導体チップ
G 切削溝
Ge 切削溝の端
S1 第1接着シート
S2 第2接着シート
W 半導体ウエハ
Wa 表面
Wb 裏面

Claims (6)

  1. 表面に回路が形成された半導体ウエハの当該表面側に、相互に交差する方向に延びる有底の切削溝が複数形成された半導体チップの中間体であって、
    前記切削溝の一部又は全部における当該切削溝の少なくとも一端は、前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられ、前記半導体ウエハの裏面側から当該切削溝に達する位置まで研削を行ったときに、前記半導体ウエハの外周縁領域の少なくとも一部にチップ連続体を形成可能に設けられていることを特徴とする半導体チップの中間体。
  2. 前記切削溝は、全ての端が前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられ、前記チップ連続体を閉ループ状に形成可能に設けられていることを特徴とする請求項1記載の半導体チップの中間体。
  3. 表面に回路が形成された半導体ウエハを裏面側から支持する支持手段と、前記表面側から相互に交差する方向に延びる有底の切削溝を複数形成する切削手段と、前記支持手段と前記切削手段とを所定制御して前記切削溝を形成させる制御手段とを備えた半導体ウエハの加工装置において、
    前記切削手段は、前記切削溝の一部又は全部における当該切削溝の少なくとも一端が、前記半導体ウエハの外周縁に達することのないように形成することを特徴とする半導体ウエハの加工装置。
  4. 前記切削溝は、全ての端が前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられていることを特徴とする請求項3記載の半導体ウエハの加工装置。
  5. 表面に回路が形成された半導体ウエハの当該表面側から相互に交差する方向に延びるとともに、一部又は全部における切削溝の少なくとも一端が前記半導体ウエハの外周縁に達することのない長さの有底の切削溝を複数形成する工程と、
    前記半導体ウエハの表面側に第1接着シートを貼付する工程と、
    前記半導体ウエハの裏面側から前記切削溝に達する位置まで研削を行うことで複数の半導体チップを形成するとともに、前記半導体ウエハの外周縁領域の少なくとも一部にチップ連続体を形成する工程と、
    前記半導体ウエハを保持した状態で、前記チップ連続体を剥離開始端側として前記第1接着シートを剥離する工程とを含むことを特徴とする半導体ウエハの加工方法。
  6. 前記切削溝の全ての端を半導体ウエハの外周縁に達することのない長さに設けられることで、前記チップ連続体が前記半導体ウエハの外周縁全領域に形成されることを特徴とする請求項5記載の半導体ウエハの加工方法。
JP2009249707A 2009-10-30 2009-10-30 半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法 Expired - Fee Related JP5592634B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009249707A JP5592634B2 (ja) 2009-10-30 2009-10-30 半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009249707A JP5592634B2 (ja) 2009-10-30 2009-10-30 半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011096867A true JP2011096867A (ja) 2011-05-12
JP5592634B2 JP5592634B2 (ja) 2014-09-17

Family

ID=44113476

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009249707A Expired - Fee Related JP5592634B2 (ja) 2009-10-30 2009-10-30 半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5592634B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014011445A (ja) * 2012-07-03 2014-01-20 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH091542A (ja) * 1995-06-23 1997-01-07 Matsushita Electron Corp 薄板状素材の切断方法
JP2002043254A (ja) * 2000-07-27 2002-02-08 Hitachi Ltd ダイシング装置及びダイシング方法
JP2005101290A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウエーハの分割方法
JP2008091779A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH091542A (ja) * 1995-06-23 1997-01-07 Matsushita Electron Corp 薄板状素材の切断方法
JP2002043254A (ja) * 2000-07-27 2002-02-08 Hitachi Ltd ダイシング装置及びダイシング方法
JP2005101290A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウエーハの分割方法
JP2008091779A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014011445A (ja) * 2012-07-03 2014-01-20 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5592634B2 (ja) 2014-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5047838B2 (ja) テープ貼り機
JP6013806B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP2006179868A (ja) フィルム剥離方法およびフィルム剥離装置
JP2012216606A (ja) 基板転写方法および基板転写装置
JP4471565B2 (ja) 半導体ウエーハの分割方法
JP5113599B2 (ja) シート貼付装置及び貼付方法
JP5197037B2 (ja) バンプが形成されたウェーハを処理するウェーハ処理方法
JP2018092963A (ja) ウェーハの加工方法
JP5592634B2 (ja) 半導体チップの中間体、半導体ウエハの加工装置及び加工方法
JP5555060B2 (ja) 保護テープ剥離方法
JP5006176B2 (ja) シート切断方法
JP5492445B2 (ja) ウェーハの分割方法
JP5241904B2 (ja) フィルム貼付装置およびフィルム貼付方法
JP5167089B2 (ja) 支持装置、支持方法、ダイシング装置、およびダイシング方法
JP2010021472A (ja) 保持装置及び保持方法並びに剥離装置用テーブル
JP2002353296A (ja) ウェハの保護テープ剥離装置およびウェハのマウント装置
JP2013021109A (ja) 粘着シート及び粘着シートを用いた円板状被加工物の加工方法
JP2005175148A (ja) ダイシング方法
JP5361200B2 (ja) バンプが形成されたウェーハを処理するウェーハ処理方法
JP2011029439A (ja) 金属層付きチップの製造方法
JP5449937B2 (ja) シート剥離装置及び剥離方法
JP2005260154A (ja) チップ製造方法
JP2009021294A (ja) フィルム貼付装置およびフィルム貼付方法
JP2010093005A (ja) ウエーハの加工方法
JP5406003B2 (ja) テープ貼着装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120719

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130815

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130820

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131017

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140304

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140501

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140729

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140801

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5592634

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees