JP2011095005A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照光路を経由した前記参照光とを重畳させて干渉光を生成して検出する光学系と、前記干渉光の検出結果に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、を有する光画像計測装置であって、前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を走査する走査手段と、前記走査手段を制御して、近接する複数の走査線に沿って順次に前記信号光を走査させる制御手段と、前記画像形成手段により形成された前記複数の走査線に対応する複数の断層像を位置合わせし、各画素位置における画素値を平均化することによって平均化断層像を形成する画像処理手段と、を備えることを特徴とする。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光画像計測装置であって、前記制御手段は、前記複数の走査線に沿う前記信号光の走査を所定回数反復して実行させるように前記走査手段を制御し、前記画像処理手段は、当該反復走査により得られた複数の断層像に基づいて前記平均化断層像を形成する、ことを特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の光画像計測装置であって、前記画像処理手段は、前記複数の断層像のうちの基準断層像に対する他の各断層像の画像相関を演算し、当該画像相関の値に基づいて前記平均化断層像を形成する、ことを特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の光画像計測装置であって、前記画像処理手段は、前記複数の断層像のそれぞれについて他の各断層像との画像相関を演算し、他の断層像との画像相関が最小となる断層像を特定して前記基準断層像とする、ことを特徴とする。
また、請求項５に記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の光画像計測装置であって、前記画像処理手段は、前記基準断層像に対する画像相関が所定閾値以上の断層像のみに基づいて前記平均化断層像を形成する、ことを特徴とする。
また、請求項６に記載の発明は、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の光画像計測装置であって、前記複数の走査線は予め設定された間隔で配列される、ことを特徴とする。
また、請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の光画像計測装置であって、前記複数の走査線の前記間隔は変更可能である、ことを特徴とする。

Claims (7)

1. 光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被測定物体を経由した前記信号光と参照光路を経由した前記参照光とを重畳させて干渉光を生成して検出する光学系と、
   前記干渉光の検出結果に基づいて前記被測定物体の断層像を形成する画像形成手段と、
   を有する光画像計測装置であって、
   前記被測定物体に対する前記信号光の照射位置を走査する走査手段と、
   前記走査手段を制御して、近接する複数の走査線に沿って順次に前記信号光を走査させる制御手段と、
   前記画像形成手段により形成された前記複数の走査線に対応する複数の断層像を位置合わせし、各画素位置における画素値を平均化することによって平均化断層像を形成する画像処理手段と、
   を備えることを特徴とする光画像計測装置。
2. 前記制御手段は、前記複数の走査線に沿う前記信号光の走査を所定回数反復して実行させるように前記走査手段を制御し、
   前記画像処理手段は、当該反復走査により得られた複数の断層像に基づいて前記平均化断層像を形成する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の光画像計測装置。
3. 前記画像処理手段は、前記複数の断層像のうちの基準断層像に対する他の各断層像の画像相関を演算し、当該画像相関の値に基づいて前記平均化断層像を形成する、
   ことを特徴とする請求項２に記載の光画像計測装置。
4. 前記画像処理手段は、前記複数の断層像のそれぞれについて他の各断層像との画像相関を演算し、他の断層像との画像相関が最小となる断層像を特定して前記基準断層像とする、
   ことを特徴とする請求項３に記載の光画像計測装置。
5. 前記画像処理手段は、前記基準断層像に対する画像相関が所定閾値以上の断層像のみに基づいて前記平均化断層像を形成する、
   ことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の光画像計測装置。
6. 前記複数の走査線は予め設定された間隔で配列される、
   ことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の光画像計測装置。
7. 前記複数の走査線の前記間隔は変更可能である、
   ことを特徴とする請求項６に記載の光画像計測装置。