JP2011079219A - ガスバリアフィルムおよびその製造方法 - Google Patents
ガスバリアフィルムおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011079219A JP2011079219A JP2009233227A JP2009233227A JP2011079219A JP 2011079219 A JP2011079219 A JP 2011079219A JP 2009233227 A JP2009233227 A JP 2009233227A JP 2009233227 A JP2009233227 A JP 2009233227A JP 2011079219 A JP2011079219 A JP 2011079219A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- less
- gas barrier
- barrier film
- water vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- -1 cyclic olefin Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 10
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 34
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 17
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 claims description 2
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 13
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】環状オレフィンとエチレンとの共重合比率が、80:20〜90:10であり、ガラス転移温度が170℃以上の環状オレフィンの付加(共)重合体よりなるフィルムシート10の少なくとも片面に、プラズマ化学気相成長法によって厚み30〜300nmの酸化珪素膜12を形成することによって、水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下にされたガスバリアフィルム。
【選択図】図3
Description
・成膜速度;30m/min
・プラズマパワー;14kW
・反応ガス混合比;ヘキサメチルジシロキサン:酸素:ヘリウム=1:3:1
・真空チャンバー内真空度;0.3Pa
・成膜速度;30m/min
・プラズマパワー;16kW
・反応ガス混合比;ヘキサメチルジシロキサン:酸素:ヘリウム=1:3:3
・真空チャンバー内真空度;0.2Pa
[比較例1]
[比較例2]
本発明で使用する環状オレフィンとエチレンとの共重合体の吸水率(23℃/24時間)は、通常、0.005〜0.1%程度であるのが好ましい。吸水率が、0.1%を超えると、得られる基板の寸法安定性が低下する傾向にある。
本発明で使用する環状オレフィンとエチレンとの共重合体の屈折率は、通常、1.49〜1.55程度であり、光線透過率は、93.0〜90.8%程度である。
環状オレフィンとエチレンとの共重合体には紫外線吸収剤、無機や有機のアンチブロッキング剤、滑剤、静電気防止剤、安定剤等各種公知の添加剤を合目的に添加してもよい。
環状オレフィンとエチレンとの共重合体からフィルムを得る方法は特に限定はなく、例えば溶液流延法、押出し法、カレンダー法等が例示できる。
環状オレフィンとエチレンとの共重合体からフィルムは、20〜300μmが好ましく、さらに好ましくは、40〜200μmである。薄すぎるとフィルム強度が不足する傾向にあり、フィルム強度が十分であれば必要以上に厚くする必要はない。
環状オレフィンとエチレンとの共重合フィルム表面の濡れ性及び接着性を向上させるために、フレーム処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、イトロ処理、プライマー処理、化学薬品処理などの表面改質処理を行ってもよい。コロナ放電処理及び紫外線照射処理は、空気中、窒素ガス中、希ガス中等で行うことができる。このような表面改質処理によって、環状オレフィン系樹脂フィルム表面の濡れ張力を、450μN/cm(23℃)以上とすることが好ましく、500μN/cm(23℃)以上とすることがより好ましい。
環状オレフィンとエチレンとの共重合体フィルムを延伸することによって、リタデーションを制御することができる。手法は特に限定はなく、例えばロール延伸法、テンタークリップ延伸法、圧延法等が例示できる。
本発明の環状オレフィンとエチレンとの共重合体フィルムの片面または両面に設けるハードコートに使用する塗料の種類に特に制限はない。光学特性を損なわない性能を有したアクリル系、ウレタン系、シリコン系等の熱硬化型あるいは紫外線硬化型のハードコート用塗料が適している。
またハードコート層には、屋外で使用する際の外光の映り込みを防止する目的等で必要に応じてアンチグレア性能を付与させることができる。アンチグレア性能を付与させる手段に特に制限はなく、例えばシリカ粒子または有機系微粒子等を前述の塗料に適量混合させハードコート層を形成する方法や、ハードコート層の表面に凹凸形状を転写する方式などが使用できる。
収縮率の測定は、100×100mmのサイズに切り出したフィルムの4辺の長さを速長機を用い、0.001mm単位で測定し、次いで測定したフィルムを160℃に設定したオーブンに30分間投入した後取りだし、再度フィルムの4辺の長さを速長機を用い、0.001mm単位で測定し、4辺の長さのそれぞれの変化量を求めた。2枚ずつ測定し、MD方向、TD方向それぞれについて平均値を求め収縮率とした。値がマイナスの場合は収縮を意味し、プラスの場合は膨張を意味する。
100×100mmサイズに切り取ったフィルムを凸面が上になるように、平坦なステージの上において、中心部がステージから浮いている距離を測定した。
ITO膜の表面抵抗値は、三菱化学アナリテック社製の抵抗率計「ロレスタ」を用い、4端子4探針方により測定した。
リガク製蛍光X線分析装置RIX−2000を用いて単位膜中のSi強度を測定し、ピーク強度から検量線により酸化珪素膜の膜厚換算を行った。
表面粗さは、島津製作所製SPMを用いコンタクトモードにて、10×10μm角面積内のRa値を測定した。
JIS-K5600−5−4に準じて測定した。荷重750gfで測定した。
粘着フィルムの密着強度は、HEIDON社製剥離試験機を用いて、180度剥離によって測定した。
2 下部電極
3 上部電極
4 有機EL素子部
5 封止用メタル缶
6 乾燥剤
7 樹脂基板
8 ガスバリア層
9 封止用保護膜
10 フィルム
11 自己粘着フィルム
12 酸化珪素膜
13,14 ハードコート層
15 ITO膜
Claims (7)
- 環状オレフィンとエチレンとの共重合比率が、80:20〜90:10であり、ガラス転移温度が170℃以上の環状オレフィンの付加(共)重合体よりなるフィルムシートの少なくとも片面に、プラズマ化学気相成長法によって厚み30〜300nmの酸化珪素膜を形成することによって、水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下にされたガスバリアフィルム。
- 前記酸化珪素膜の上面に形成された、紫外線硬化型のアクリル樹脂を主成分とした耐薬品性および鉛筆硬度がHB以上の表面硬度を有するハードコート層をさらに備え、該ハードコート層の表面粗さが算術平均でRa=10nm以下にされている、請求項1に記載のガスバリアフィルム。
- 前記フィルムシートは、その両面に、紫外線硬化型のアクリル樹脂を主成分とした耐薬品性および鉛筆硬度がHB以上の表面硬度を有するハードコート層をさらに有し、160℃環境下で30分間放置した後の、カール値が5mm以下にされている、請求項1に記載のガスバリアフィルム。
- 前記ハードコート層の上に形成された、表面抵抗値500Ω/□以下の透明電極を備えた請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスバリアフィルム。
- モコン法による40℃×100%での測定環境において、24hr経過時の水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下であり、48hr経過時の水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下であり、かつ160℃環境下で30分間放置した後のモコン法による40℃×100%での測定環境において、24hr経過時の水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下であり、48hr経過時の水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下にされた請求項1〜4のいずれか1項に記載のガスバリアフィルム。
- 請求項1〜5に記載のガスバリアフィルムを用いたディスプレイまたは太陽電池。
- 水蒸気透過度が0.3g/m2・day以下であるガスバリアフィルムの製造方法であって、
環状オレフィンとエチレンとの共重合比率が、80:20〜90:10であり、ガラス転移温度が170℃以上の環状オレフィンの付加(共)重合体よりなるフィルムシートを準備する工程と、
前記フィルムシートとの初期密着強度が、30g/10mm以下であり、かつ120℃×10min熱処理後の密着強度が30g/10mm以下である、厚みが60μm以下の粘着フィルムを準備する工程と、
前記フィルムシートと前記粘着フィルムを貼合した状態で、その裏面にプラズマ化学気相成長法によって厚み30〜300nmの酸化珪素膜を形成する工程と、を備えたガスバリアフィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009233227A JP5399196B2 (ja) | 2009-10-07 | 2009-10-07 | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009233227A JP5399196B2 (ja) | 2009-10-07 | 2009-10-07 | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011079219A true JP2011079219A (ja) | 2011-04-21 |
JP5399196B2 JP5399196B2 (ja) | 2014-01-29 |
Family
ID=44073788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009233227A Active JP5399196B2 (ja) | 2009-10-07 | 2009-10-07 | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5399196B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013163296A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア性積層フィルム |
JP2013202989A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Gunze Ltd | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
JP2014121829A (ja) * | 2012-12-21 | 2014-07-03 | Reiko Co Ltd | 高硬度ハードコートフイルム |
JPWO2013046545A1 (ja) * | 2011-09-26 | 2015-03-26 | パナソニック株式会社 | 発光装置の製造方法および発光装置 |
JP2016501144A (ja) * | 2012-12-12 | 2016-01-18 | コーロン インダストリーズ インク | 透明ポリイミド基板及びその製造方法 |
JP2016189355A (ja) * | 2016-08-09 | 2016-11-04 | 住友化学株式会社 | 電子デバイスの製造方法 |
JP2016538160A (ja) * | 2013-11-19 | 2016-12-08 | エルジー・ケム・リミテッド | プラスチックフィルム積層体 |
CN106476388A (zh) * | 2015-08-21 | 2017-03-08 | 汉能新材料科技有限公司 | 一种高阻隔膜及复合膜 |
JPWO2018100963A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2019-10-17 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05313113A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-11-26 | Ricoh Co Ltd | 液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法 |
JPH0886993A (ja) * | 1994-07-18 | 1996-04-02 | Sharp Corp | 基板搬送用治具及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 |
JPH11171918A (ja) * | 1997-12-11 | 1999-06-29 | Mitsui Chem Inc | ノルボルネン系ランダム共重合体の製造方法 |
JP2000015734A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Toppan Printing Co Ltd | 無機薄膜形成用ハードコートフィルムもしくはシート、および機能性無機薄膜付きハードコートフィルムもしくはシート |
JP2004107442A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Takeshi Shiono | 環状オレフィン重合体の製造方法 |
JP2004122429A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複層フィルム |
JP2004299230A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性基板 |
JP2006334909A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Gunze Ltd | ガスバリア層付フィルム |
WO2007060723A1 (ja) * | 2005-11-24 | 2007-05-31 | Polyplastics Co., Ltd. | シクロオレフィン系共重合体 |
-
2009
- 2009-10-07 JP JP2009233227A patent/JP5399196B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05313113A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-11-26 | Ricoh Co Ltd | 液晶表示素子用電極基板の製造方法、液晶表示素子用電極基板のパターン形成方法、液晶セルの製造方法及び液晶表示パネルの製造方法 |
JPH0886993A (ja) * | 1994-07-18 | 1996-04-02 | Sharp Corp | 基板搬送用治具及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 |
JPH11171918A (ja) * | 1997-12-11 | 1999-06-29 | Mitsui Chem Inc | ノルボルネン系ランダム共重合体の製造方法 |
JP2000015734A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Toppan Printing Co Ltd | 無機薄膜形成用ハードコートフィルムもしくはシート、および機能性無機薄膜付きハードコートフィルムもしくはシート |
JP2004107442A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Takeshi Shiono | 環状オレフィン重合体の製造方法 |
JP2004122429A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複層フィルム |
JP2004299230A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性基板 |
JP2006334909A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Gunze Ltd | ガスバリア層付フィルム |
WO2007060723A1 (ja) * | 2005-11-24 | 2007-05-31 | Polyplastics Co., Ltd. | シクロオレフィン系共重合体 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013046545A1 (ja) * | 2011-09-26 | 2015-03-26 | パナソニック株式会社 | 発光装置の製造方法および発光装置 |
USRE48033E1 (en) | 2011-09-26 | 2020-06-02 | Panasonic Corporation | Method for manufacturing light emitting device, and light emitting device |
USRE49168E1 (en) | 2011-09-26 | 2022-08-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for manufacturing light emitting device, and light emitting device |
JP2013163296A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア性積層フィルム |
JP2013202989A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Gunze Ltd | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 |
JP2016501144A (ja) * | 2012-12-12 | 2016-01-18 | コーロン インダストリーズ インク | 透明ポリイミド基板及びその製造方法 |
JP2014121829A (ja) * | 2012-12-21 | 2014-07-03 | Reiko Co Ltd | 高硬度ハードコートフイルム |
JP2016538160A (ja) * | 2013-11-19 | 2016-12-08 | エルジー・ケム・リミテッド | プラスチックフィルム積層体 |
US10391748B2 (en) | 2013-11-19 | 2019-08-27 | Lg Chem, Ltd. | Plastic film laminate |
CN106476388A (zh) * | 2015-08-21 | 2017-03-08 | 汉能新材料科技有限公司 | 一种高阻隔膜及复合膜 |
JP2016189355A (ja) * | 2016-08-09 | 2016-11-04 | 住友化学株式会社 | 電子デバイスの製造方法 |
JPWO2018100963A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2019-10-17 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5399196B2 (ja) | 2014-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5399196B2 (ja) | ガスバリアフィルムおよびその製造方法 | |
JP5414426B2 (ja) | 複合フィルム | |
TWI615273B (zh) | 透明積層薄膜、透明導電性薄膜及氣體阻隔性積層薄膜 | |
JP6251970B2 (ja) | ガスバリア性フィルム及びその製造方法、並びにガスバリア性積層体 | |
US20120237729A1 (en) | Transparent conductive film and touch panel | |
WO2012029830A1 (ja) | ガラス-樹脂積層体、およびそれを巻き取ったガラスロール、並びにガラスロールの製造方法 | |
US20100136276A1 (en) | Pressure-sensitive adhesive layer-carrying transparent conductive film and method for production thereof | |
WO2018021089A1 (ja) | ガスバリアフィルムおよび太陽電池、ならびに、ガスバリアフィルムの製造方法 | |
KR101745293B1 (ko) | 전자 디바이스의 제조 방법 및 복합 필름 | |
JP5181539B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法、該方法により得られたフィルムを有するタッチパネルおよび該タッチパネルを有する表示装置 | |
JP5481992B2 (ja) | 透明導電性フィルム | |
JP5983454B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
WO2011027902A1 (en) | Barrier laminate, gas barrier film and method for manufacturing the barrier laminate | |
JP6085186B2 (ja) | 透明積層フィルム及び透明基板 | |
JP6248471B2 (ja) | 透明積層フィルム及び透明基板 | |
WO2014097997A1 (ja) | 電子デバイス | |
JP2016060128A (ja) | 転写フィルム及びそれを用いた樹脂/ガラス積層体の製造方法、並びに樹脂/ガラス積層体 | |
JP2006056117A (ja) | 透明導電性積層体及びこれを用いたタッチパネル | |
WO2015133620A1 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
WO2014125877A1 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP6270442B2 (ja) | 透明積層体フィルム及び透明電極付き基板の製造方法 | |
WO2015137389A1 (ja) | ガスバリアーフィルムの製造方法 | |
JP6874775B2 (ja) | 電子デバイス | |
JP2016107556A (ja) | ガスバリアフィルム | |
JP2015214115A (ja) | 透明積層フィルム、透明導電性フィルム及び透明基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130409 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130410 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130924 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131023 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5399196 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |