JP2011040776A - リソグラフィシステムにおけるピッチを有する干渉パターンを印刷するためのシステムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザにより発生される空間的かつ時間的にコヒーレントな光ビーム102は、ビームスプリッタ104に入射する。ビームスプリッタ104はビーム102を第1および第2のビーム106Aおよび106Bに分離する。続いて2つのビーム106Aおよび106Bは、それぞれ基板110に向けて第1および第2の反射表面108Aおよび108Bにより再指向される。干渉パターン112は基板110の頂部表面に形成される。干渉パターン112は書き込み用イメージでフォトレジスト層を露光する。
【選択図】図1
Description
[0027] 図1はトールボット干渉計として当技術分野において一般に知られている干渉型リソグラフィシステム100を示す図である。通常は(図示されていない)レーザにより発生される空間的かつ時間的にコヒーレントな光ビーム102は、ビームスプリッタ104(例えば、回折デバイス、回折格子、位相シフトビームスプリッタなど)に入射する。ビームスプリッタ104はビーム102を第1および第2のビーム106Aおよび106Bに分離する。続いて、2つのビーム106Aおよび106Bは、それぞれ基板110(例えば、工作物、ディスプレイなどで、以下、基板と称する)に向けて第1および第2の反射表面108Aおよび108Bにより再指向される。ビームスプリッタ104から基板110への各経路は、干渉計100の「アーム」または「ブランチ」と時々呼ばれている。例示的な従来のトールボット干渉計は、全てがその全体において本明細書に参照により組み込まれている米国特許第7005235号明細書、同第6882477号明細書、および、4596467号明細書、ならびに米国公開特許出願第2005−0073671号明細書を含む。
[0041] 図3は完全に対称な経路長を提供する一方、基板へのより大きな入射角を可能にする干渉計300を示す。干渉計300は入力回折格子302、入力プリズム304、第1のアフォーカルイメージングブランチ306、第2のアフォーカルイメージングブランチ308、および基板プリズム310を含む。本明細書において入力回折格子が参照されているが、当業者は、例えば、かつ限定せずに、位相シフトビームスプリッタまたは他の回折デバイスなどのいずれのタイプのビーム分割デバイスも使用できることを認識されよう。
[0058] 干渉型リソグラフィシステムにおけるピッチの変化は有用であるが、実施が困難である。これは、干渉計ブランチ間の光路長差をゼロにほぼ等しく保ちつつ、角度条件を満たす設計パラメータが変更されなければならないからである。この問題を解決するために、不連続なピッチ値のアレイを決定することができる。したがって、干渉計型リソグラフィシステムは個々の干渉計の積み重ね物または積層物として構築することができる。個々の干渉計の積層物における各干渉計は、例えば干渉計300および/または一体式干渉計500に類似したものとすることができる。
[0061] 上記の説明は光、光源、および光のビームに言及している。言及された光が特定の波長を有する光に限定されず、かつ上記に検討されたようにリソグラフィに適している(極端)紫外光または赤外光を含む他の波長を含むことができることを理解されよう。
Claims (20)
- 少なくとも2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを生成するためのビームスプリッタと、
干渉パターンを形成するために基板の表面上に前記2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを再指向および結合するように構成されたビーム結合器と、
を光路に沿って備え、
干渉パターンの境界を生成するように前記基板の前記表面上にフィールドブレードの境界をイメージングするための前記フィールドブレードおよびレンズが設けられている、干渉型リソグラフィ装置。 - 前記ビームスプリッタには格子が設けられ、
前記格子のゼロ次回折光を遮蔽するための前記ビームスプリッタと前記ビーム結合器の間のゼロ回折次光遮蔽物をさらに含む、請求項1に記載の干渉型リソグラフィ装置。 - 前記レンズが設けられるとともに前記ビームスプリッタと前記ビーム結合器の間の前記光遮蔽物の2つの向かい合う側面上に位置する、第1および第2のアフォーカルイメージングブランチを含む、請求項2に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記第1および第2のアフォーカルイメージングブランチは、前記第1のおよび第2のアフォーカルイメージングブランチを通過する光のずれを低減する、請求項3に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記第1および第2のアフォーカルイメージングブランチを通過する光のずれを低減するための前記第1および第2のアフォーカルイメージングブランチ内の集光点の周囲に対称的に配置されたレンズをさらに含む、請求項3に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記ビーム結合器は反射表面を含む、請求項1に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記ビームスプリッタには前記フィールドブレードが設けられている、請求項1に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記フィールドブレードは、前記基板の前記表面上に矩形の境界を規定する、請求項1に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 液浸用液体は、前記ビーム結合器と前記基板の前記表面の間のギャップを充填する、請求項1に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記回折格子のピッチは、前記基板の前記表面上にパターニングされるべきパターンのピッチの2倍にほぼ等しい、請求項6に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 少なくとも2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを生成するためのビームスプリッタと、
干渉パターンを形成するために基板の表面上に前記2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを再指向および結合するように構成されたビーム結合器と、
前記ビームスプリッタと前記基板の前記表面に対面する前記ビーム結合器の出力表面の間の4つの反射表面と、
を含む、干渉型リソグラフィ装置。 - 前記ビームスプリッタは、格子と、前記格子のゼロ回折次光を遮蔽するための遮蔽アパーチャと、を含む、請求項11に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記格子のピッチは、前記基板の前記表面にパターニングされるべき干渉パターンのピッチの2倍にほぼ等しい、請求項12に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 光は、前記ビーム結合器および前記基板の前記表面を通過する、請求項13に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- フィールドブレードをさらに含み、パターニングされるべき前記干渉パターンに対する境界を生成するために、前記基板の前記表面上に前記フィールドブレードの境界をイメージングするためのレンズを含む、請求項11に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 可変ピッチを有する干渉型リソグラフィ装置であって、
照射システムと、
第1のピッチを有する干渉パターンを形成するための第1の干渉計と、
第2のピッチを有する干渉パターンを形成するための第2の干渉計と、
を含み、
前記第1および第2の干渉計は、前記照射システムからの光が前記第1および第2の干渉計の1つに入射するように、前記照射システムに関して可動である、干渉型リソグラフィ装置。 - 前記第1の干渉計が、
少なくとも2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを生成するためのビームスプリッタと、
前記第1のピッチを有する干渉パターンを形成するために基板の表面上に前記2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを再指向および結合するように構成されたビーム結合器と、
を含む、請求項16に記載の干渉型リソグラフィ装置。 - 前記ビームスプリッタは、前記少なくとも2つの空間的にコヒーレントな放射ビームを生成するための格子を含む、請求項17に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記第1および第2の干渉計は積層形態に配列されている、請求項16に記載の干渉型リソグラフィ装置。
- 前記ビーム結合器は反射表面を含む、請求項17に記載の干渉型リソグラフィ装置。
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