JP2011015081A - 薄膜バラン - Google Patents

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Abstract

【課題】要求されるバランの諸特性を維持しつつ、小型薄型化することができる薄膜バランを提供する。
【解決手段】薄膜バラン1は、第1のコイル部C1及び第2のコイル部C2を有する不平衡伝送線路ULと、第1のコイル部C1及び前記第2のコイル部C2のそれぞれに対向配置され且つ磁気結合する第3のコイル部C3及び第4のコイル部C4を有する平衡伝送線路BLと、第1のコイル部C1に接続された不平衡端子UTと、第2のコイル部C2にC成分Dを介して接続された接地端子Gと、接地端子Gに接続され且つ第2のコイル部C2の一部に対向する電極D2と、を備えている。C成分Dは、第2のコイル部C2の一部D1及び電極D2により構成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、不平衡−平衡の信号変換を行なうバラン(バラントランス)に関し、特に、小型薄型化に有利な薄膜プロセスにより形成された薄膜バランに関する。
無線通信機器は、アンテナ、フィルタ、RFスイッチ、パワーアンプ、RF−IC、バラン等の各種高周波素子によって構成される。これらのなかで、アンテナやフィルタ等の共振素子は、接地電位を基準とした不平衡型の信号を取り扱う(信号伝送を行う)が、高周波信号の生成や処理を行なうRF−ICは、平衡型の信号を取り扱う(信号伝送を行う)ため、両者を電磁気的に接続する場合には、不平衡−平衡変換器として機能するバランが使用される。
近時、携帯電話や携帯端末等の移動体通信機や無線LAN機器等に用いられるバランとして、更なる小型薄型化が切望されている。このようなバランとしては、互いに対向配置された不平衡伝送線路と平衡伝送線路によって磁気結合を形成し、不平衡伝送線路の一方端が不平衡端子に接続され、且つ、他方端がキャパシタを介して接地端子に接続された構成を有するもの(特許文献1)が提案されている。
特開2006−270444号公報
ところで、バランの通過特性として、その共振周波数は下記式(1);
fr=1/{2π(L・C)1/2} …(1)、
で表される。ここで、式中、frは共振周波数を示し、L(L成分)は、不平衡伝送線路と平衡伝送線路部で形成される共振回路の等価的なインダクタンスを示し、C(C成分)は、同キャパシタンスを示す。
ところが、バランを小型薄型化するには、不平衡伝送線路や平衡伝送線路を形成するコイル等の巻回数や線路長が不可避的に低減されてしまうため、共振回路のインダクタンスLが低下してしまい、式(1)から明らかなように、共振周波数fr(通過帯域の周波数)が高周波化してしまう。通常、無線通信等で使用されるバランの周波数の通過特性(所定周波数の減衰特性)は、それが搭載される通信機器やシステムの構成、規格、仕様等から要求仕様が定められており、バランの特性として特に重要である。具体的には、例えば、通過特性として共振周波数frのピーク値が2400〜2500MHz(2.4GHz帯域)といった数値が指定され、かかる周波数帯域での減衰量を十分に低く抑えるような仕様設計がなされる。しかし、上述の如く、バランの小型薄型化によって共振周波数frが高周波化すると、上記特許文献1に記載されたチップ型バランのような構成では、かかる要求仕様を満足することが困難となってしまう。
そこで、上記式(1)より、共振回路のキャパシタンスCを増大させることにより、共振周波数frの高周波化が抑止され得るが、本発明者の知見によれば、上記特許文献1に記載されたバランのようにキャパシタを設け、キャパシタンスCを単に増大させるだけでは、入力信号に対する所望の通過特性や、出力信号に対する所望の平衡特性(出力信号の振幅差や位相差)を得ることができず、その要求仕様を満足することが困難なことがある。
そこで、本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、要求されるバランの諸特性を維持しつつ、小型薄型化することができる薄膜バランを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の薄膜バランは、不平衡回路と、不平衡回路に磁気結合する平衡回路と、不平衡回路に接続されたキャパシタと、を備えており、不平衡回路を構成する線路部の一部がキャパシタの一方の電極を兼ねるものである。
このような構成では、不平衡回路を構成する線路部の一部がキャパシタの一方の電極を兼ねることによって、薄膜バランの共振回路にキャパシタンスCが導入され、小型薄型化することができる。また、本発明者が鋭意研究した結果、その線路部の一部がキャパシタの電極を兼ねるように設けると、伝送信号の通過特性において共振周波数の高周波化を抑え、所望の範囲(仕様)に維持しつつ、伝送信号の平衡特性を調整することが可能であることが判明した。
かかる作用機序の詳細は未だ不明ではあるが、不平衡回路を構成する線路部の一部がキャパシタの電極を兼ねることにより、そのキャパシタを不平衡回路に近接して配置することで直接的にキャパシタンスCが導入されるだけでなく、周囲の線路部との間にも浮遊容量のようなキャパシタンスが生起され、不平衡回路側の実効的なキャパシタンスが増大することが一つの要因であると推測される。このため、キャパシタの電極を兼ねる線路部の位置や面積を変化させることにより、薄膜バランの仕様に応じて所望の通過特性を維持しつつ平衡特性を容易に調整することが可能になるものと推測される。但し、作用はこれに限定されない。
例えば、本発明の薄膜バランは、不平衡伝送線路と、不平衡伝送線路に対向配置され且つ磁気結合するよう積層された平衡伝送線路とを有し、不平衡伝送線路の一端は不平衡端子に接続され、他端はC成分を介して接地端子に接続されており、C成分が、不平衡伝送線路を構成する線路部の一部及び対向電極により構成されたものである。さらに詳細な一例として、本発明の薄膜バランは、第1の線路部及び第2の線路部を有する不平衡伝送線路と、第1の線路部及び第2の線路部のそれぞれに対向配置され且つ磁気結合する第3の線路部及び第4の線路部を有する平衡伝送線路と、第1の線路部に接続された不平衡端子と、第2の線路部にC成分を介して接続された接地端子と、接地端子に接続され且つ第2の線路部の一部に対向する対向電極とを備えており、C成分が、第2の線路部の一部及び対向電極により構成されている。このようにしても、上述したのと同様の作用が奏される。
好ましくは、第2の線路部は、第1の線路部に対応する線路部から延びた(線路部から延長された)延在部を有し、対向電極は、第2の線路部の延在部に対向し、C成分が、第2の線路部の延在部と、対向電極とにより構成されている。このように、第2の線路部が延在部を含むことにより、第1の線路部と第3の線路部の磁気結合と、第2の線路部と第4の線路部の磁気結合とが等価に維持されつつ、C成分が平衡伝送線路と直接結合する領域からはみ出して配置されることにより、薄膜バランの共振回路にキャパシタンスが有効に導入され小型薄膜化することができる。また、その結果、共振周波数の高周波化の抑制及び伝送信号の平衡特性の向上が両立できるものと推測される。ただし、作用はこれに限定されない。
例えば、本発明の薄膜バランは、第1のコイル部及び第2のコイル部を有する不平衡伝送線路と、第1のコイル部及び第2のコイル部のそれぞれに対向配置され且つ磁気結合する第3のコイル部及び第4のコイル部を有する平衡伝送線路と、第1のコイル部に接続された不平衡端子と、第2のコイル部にC成分を介して接続された接地端子と、接地端子に接続され且つ第2のコイル部の一部に対向する対向電極とを備えており、C成分が、第2のコイル部の一部及び対向電極により構成されているものである。このようにしても、上述したのと同様の作用が奏される。
例えば、対向電極は、第2のコイル部における内周のコイル導体よりも外周のコイル導体に近いコイル導体の一部に対向している。これにより、第2のコイル部と第4のコイル部の磁気結合により生じる磁束が通過するコイル開口から、対向電極を適宜離間させることができる。この結果、上述したのと同様に、第1のコイル部と第3のコイル部の磁気結合と、第2のコイル部と第4のコイル部の磁気結合とが等価に近い状態に維持されつつ、薄膜バランの共振回路にキャパシタンスが有効に導入され、さらに、共振周波数の高周波化の抑制及び伝送信号の平衡特性の向上が両立できるものと推測される。ただし、作用はこれに限定されない。この場合、好ましくは、対向電極は、第2のコイル部における外周のコイル導体の一部に対向している。
またさらに、本発明者は、更に鋭意研究を行った結果、より一層好適な対向電極の構成例を種々見出した。すなわち、その一例として、対向電極が、第2のコイル部を構成する互いに隣り合うコイル導体の間のスペースの一部の延在方向に並行しており(換言すれば、その延在方向に沿って設けられており)且つそのスペースの両側の対向電極の一部と対向しているものであると有用である。あるいは、対向電極が、第2のコイル部を構成するコイル導体の一部の延在方向に並行しており(換言すれば、その延在方向に沿って設けられており)且つコイル導体の一部と対向しているものであっても好ましい。
本発明によれば、不平衡回路を構成する線路部の一部が、不平衡回路に接続されるキャパシタの一方の電極を兼ねることによって、要求されるバランの諸特性を維持しつつ、小型薄型化することが可能となる。
本発明の薄膜バランの一実施形態の構成を示す等価回路図である。 薄膜バランの一実施形態の構成を示す垂直断面図である。 薄膜バラン1の配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン1の配線層M1における水平断面図である。 薄膜バラン1の配線層M2における水平断面図である。 薄膜バラン1の配線層M3における水平断面図である。 薄膜バラン1Aの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン1Bの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン1Cの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン1Dの配線層M0における水平断面図である。 通過特性の評価結果を示すグラフである。 位相差の評価結果を示すグラフである。 振幅差の評価結果を示すグラフである。 薄膜バラン2の配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン2の配線層M1における水平断面図である。 薄膜バラン2Aの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン2Bの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン2Cの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン2Dの配線層M0における水平断面図である。 通過特性の評価結果を示すグラフである。 位相差の評価結果を示すグラフである。 振幅差の評価結果を示すグラフである。 薄膜バラン1E,1Fの配線層M0における水平断面図である。 薄膜バラン2〜2Bの配線層M0における水平断面図である。 通過特性の評価結果を示すグラフである。 位相差の評価結果を示すグラフである。 振幅差の評価結果を示すグラフである。 薄膜バラン4(比較例)の配線層B1における水平断面図である。 通過特性の評価結果を示すグラフである。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、図面中、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、上下左右などの位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。さらに、図面の寸法比率は、図示の比率に限定されるものではない。また、以下の実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明をその実施の形態のみに限定する趣旨ではない。さらに、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、さまざまな変形が可能である。
図1は、本発明の薄膜バランに係る好適な一実施形態の構成を示す等価回路図である。薄膜バラン1は、線路部L1(第1の線路部)及び線路部L2(第2の線路部)が直列に接続された不平衡伝送線路(不平衡回路)ULと、線路部L3(第3の線路部)及び線路部L4(第4の線路部)が直列に接続された平衡伝送線路(平衡回路)BLとを備えており、線路部L1及び線路部L3、並びに、線路部L2及び線路部L4によって、それぞれ磁気結合が形成されている。
この薄膜バラン1においては、線路部L1における線路部L2との結合端の他端が不平衡端子UTに接続されており、線路部L2における線路部L1との結合端の他端側の一部が、C成分(容量成分)であるキャパシタDを介して接地端子G(接地電位)に接続されている。キャパシタDは、線路部L2の他端側の一部により構成された電極D1と、接地端子Gに接続された電極D2(対向電極)が、適宜の誘電体を介して対向設置されたものである。また、線路部L3及び線路部L4におけるそれぞれの結合端との他端は、平衡端子BT1及び平衡端子BT2に接続されている。さらに、線路部L3及び線路部L4の結合部が、接地端子Gと同電位に接地されている。
上述した線路部L1〜L4の長さは、薄膜バラン1の仕様に応じて異なり、例えば、変換対象となる伝送信号の1/4波長(λ/4)共振器回路となるよう設定することができる。また、線路部L1〜L4の形状は、上述した磁気結合が形成されれば、任意の形状とすることができ、例えば、渦巻状(コイル状)、蛇行状、直線状、曲線状等の形態が挙げられる。
以下に、同図を参照して薄膜バラン1の基本的な動作について説明する。薄膜バラン1では、不平衡端子UTに不平衡信号が入力されると、不平衡信号は線路部L1及び線路部L2を伝播する。そして、線路部L1と線路部L3とが磁気結合(第1の磁気結合)し、線路部L2と線路部L4とが磁気結合(第2の磁気結合)することにより、入力された不平衡信号は位相が180°(π)異なる2つの平衡信号に変換され、これら2つ平衡信号が平衡端子BT1,BT2からそれぞれ出力される。なお、平衡信号から不平衡信号の変換動作は、上述した不平衡信号から平衡信号への変換動作の逆となる。
次に、上記の薄膜バランの配線構造について説明する。図2は、薄膜バラン1の配線構造を概略的に示す垂直断面図である。図2に示すように、例えばアルミナ等の絶縁性基板100側から順に配線層M0,M1,M2,M3が形成されている。例えば、上述した不平衡伝送線路ULは配線層M1により形成され、平衡伝送線路BLは配線層M2により形成されている。同一の配線層における配線間、及び異なる配線層間には絶縁層が形成されている。例えば、配線層M0とM1との間には窒化シリコンからなる絶縁層102が形成されている。その他の部位の絶縁層101として、例えばポリイミドが用いられる。ただし、材料は上述のものに限定されず、窒化シリコン、アルミナ、シリカ、等の無機系絶縁体のみならず、ポリイミド、エポキシ樹脂等の有機系絶縁体でもよく適宜選択できる。不平衡端子UT、平衡端子BT1,BT2、接地端子Gは、全ての絶縁層を貫通するように形成されている。このように、薄膜バラン1は、絶縁性基板100上に形成された薄膜多層構造から構成されている。
次に、薄膜バランの一実施形態における各配線層M0,M1,M2,M3のパターンについて詳細に説明する。以下の各実施形態では、線路部L1〜L4としてコイル部を用いたものである。
(第1実施形態)
図3〜図6は、第1実施形態の薄膜バラン1における各配線層を概略的に示す水平断面図である。図3〜図6に示す如く、配線層B1,M0〜M3の全ての層に、不平衡端子UT、平衡端子BT1,BT2、及び、接地端子Gが形成されており、各端子UT〜BT2,GはスルーホールPを介して異なる層間において電気的に接続されている。なお、図3〜図6に示す全てのスルーホールPには、上下各層を電気的に導通させるための金属導体がめっきにて形成されている。以下、各配線層の構成について詳細に説明する。
図3に示すように、絶縁性基板100上の配線層M0には、キャパシタDの電極D2が、配線層M1のコイル部C2の一部と対向する位置に形成されている。電極D2は、接地端子Gに接続されている。第1実施形態では、キャパシタDの電極D2は、コイル部2における外周のコイル導体であって、接地端子Gから平衡端子BT2に向かって延在するコイル導体に並行している。
また、図4に示す如く、配線層M1には、不平衡伝送線路ULを構成するコイル部C1(第1のコイル部、第1の線路部)及びコイル部C2(第2のコイル部、第2の線路部)が隣接して形成されている。各コイル部C1,C2は、1/4波長(λ/4)共振器に相当するものを構成する。コイル部C1を構成するコイル導体11の外側の端部11aは不平衡端子UTに接続されており、コイル導体11の内側の端部11bはスルーホールPに接続されている。一方、コイル部C2を構成するコイル導体12の内側の端部12bはスルーホールPに接続されている。コイル導体12の外側の端部12aは開放されているが、外周のコイル導体12の一部はキャパシタの電極D1を兼ねており、配線層M0の電極D2と対向している。
さらにまた、図5に示すように、配線層M2には、平衡伝送線路BLを構成するコイル部C3(第3のコイル部、第3の線路部)及びコイル部C4(第4のコイル部、第4の線路部)が隣接して形成されている。各コイル部C3,C4は、コイル部C1,C2と同様に1/4波長(λ/4)共振器に相当するものを構成する。平衡伝送線路BLのこれらコイル部C3,C4は、それぞれ、不平衡伝送線路ULのコイル部C1,C2に対向配置されており、対向している部分で磁気結合して結合器を構成する。コイル部C3を構成するコイル導体21の外側の端部21aは平衡端子BT1に接続されており、コイル導体21の内側の端部21bはスルーホールPに接続されている。一方、コイル部C4を構成するコイル導体22の外側の端部22aは平衡端子BT2に接続されており、コイル導体22の内側の端部22bはスルーホールPに接続されている。
それから、図6に示すように、配線層M3には、コイル部C3とコイル部C4を接地端子Gに接続するための配線31、及び、コイル部C1とコイル部C2を接続するための配線32が形成されている。配線31は、2つのスルーホールPと接地端子Gとを接続するように形成された分岐配線である。そして、配線31は、2つのスルーホールPを介して、配線層M2に形成されたコイル導体21の端部21b及びコイル導体22の端部22bに接続されている。一方、配線32はスルーホールPを介して配線層M1に形成されたコイル導体11の端部11b及びコイル導体12の端部12bに接続されている。
このように、本実施形態においては、一の階層である配線層M1に不平衡伝送線路を構成する2つのコイル部C1,C2が形成され、それに隣り合う別の階層である配線層M2に平衡伝送線路を構成する2つのコイル部C3,C4が形成され、さらに、それら配線層M2に隣り合う配線層M1とは逆側の別の階層である配線層M3にコイル部C1,C2を接続する配線32、及び、コイル部C3,C4を接続する配線31が形成されるとともに、配線層M1に隣り合う配線層M2とは逆側の階層である配線層M0に、コイル部C2におけるコイル導体12の一部と対向してキャパシタDを構成するための電極D2が形成された多層配線構造により、図1に示す等価回路を構成する薄膜バラン1が得られる。
(第1A実施形態)
図7は、本発明に係る第1A実施形態の薄膜バラン1Aにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第1実施形態と同様である。図7に示す薄膜バラン1Aでは、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2の右から2列目のコイル導体の延在方向に並行し且つ当該コイル導体の一部と対向するように配置されている。
(第1B実施形態)
図8は、本発明に係る第1B実施形態の薄膜バラン1Bにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第1実施形態と同様である。図8に示す薄膜バラン1Bでは、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2の右から1列目(最外周)のコイル導体と2列目のコイル導体の間のスペースの延在方向に並行し且つ当該スペースの両側のコイル導体の一部と対向するように配置されている。
(第1C実施形態)
図9は、本発明に係る第1C実施形態の薄膜バラン1Cにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第1実施形態と同様である。図9に示す薄膜バラン1Cでは、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2の右から3列目のコイル導体の延在方向に並行し且つ当該コイル導体の一部と対向するように配置されている。
(第1D実施形態)
図10は、本発明に係る第1D実施形態の薄膜バラン1Dにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第1実施形態と同様である。図10に示す薄膜バラン1Dは、第1B実施形態の薄膜バラン1BのキャパシタDの電極D2の長さを短くしたものであり、矩形状に形成した場合のコイル部C2の一辺よりもキャパシタDの電極D2の長さを短くしたものである。
(特性評価)
以上説明した各実施形態の薄膜バラン1〜1Dについて、通過特性(挿入損失)及び平衡特性(平衡信号の位相差及び振幅差)をシミュレーションにより求めた。伝送信号の評価対象周波数(共振周波数fr)を2400〜2500MHzとした。図11は、通過特性の評価結果を示す図であり、図12は位相差の評価結果を示す図であり、図13は振幅差の評価結果を示す図である。各図において、曲線E1,E1A〜E1Dが、それぞれ、薄膜バラン1,1A〜1Dの評価結果を示す。
通過特性は、評価対象周波数領域において信号をどれだけ損失させずに通過させているかを示すものであり、評価対象周波数領域において0dBが理想的な通過特性となる。位相差は、平衡端子BT1と平衡端子BT2から出力される2つの平衡信号の位相差であることから180degがより理想的な位相バランスとなる。振幅差は、平衡端子BT1と平衡端子BT2から出力される2つの平衡信号の振幅差であることから0dBがより理想的な出力バランスとなる。
これらの結果より、各実施形態の薄膜バランにおいては、通過特性及び位相バランスの点において優れた特性を維持していることが確認された。振幅バランスについては、キャパシタDの電極D2の配置により調整できることが確認された。これらのなかでも、電極D2が、コイル部C2における内周のコイル導体よりも外周のコイル導体に近いコイル導体の一部に対向している薄膜バラン1,1A,1B,1Dでは、薄膜バラン1Cに比して、振幅バランスが優れていることが確認された。さらに、これらのうち、電極D2が、コイル部C2における外周のコイル導体の一部に対向している薄膜バラン1,1B,1Dでは、薄膜バラン1Aに比して、振幅バランスが優れていることが確認された。特に、薄膜バラン1Bに対する評価結果から、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2における隣接するコイル導体の間のスペースの延在方向に並行して配置された薄膜バランの通過特性および平衡特性が最も優れていることが確認された。
(第2実施形態)
第2実施形態の薄膜バラン2では、コイル部C2をコイル部C1よりも長くして、その延在部に対向するようにキャパシタDの電極D2を配置したものである。図14,15は、本発明に係る第2実施形態の薄膜バラン2における配線層M0,M1を概略的に示す水平断面図である。
図14に示すように、配線層M0には、キャパシタDの電極D2が、接地端子Gに接続され、かつ接地端子Gから不平衡端子UTに向かって延在している。
また、図15に示す如く、配線層M1に形成されたコイル部C2は、コイル部C1よりも長く形成されており、その延在部12cは、コイル部C2と同じ層内で、巻回方向と同じ方向に延び、且つ平衡伝送線路と対向する領域からはみ出して形成されている。そして、その延在部12cがキャパシタDの電極D1を兼ねる。コイル部C2の一部である電極D1は、配線層M0の電極D2と対向している。その他の配置については、第1実施形態と同様である。
(第2A実施形態)
図16は、本発明に係る第2A実施形態の薄膜バラン2Aにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第2実施形態と同様である。図16に示す薄膜バラン2Aでは、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2の下から2列目のコイル導体の延在方向に並行し且つ当該コイル導体の一部と対向するように配置されている。
(第2B実施形態)
図17は、本発明に係る第2B実施形態の薄膜バラン2Bにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第2実施形態と同様である。図17に示す薄膜バラン2Bでは、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2の右から2列目のコイル導体と3列目のコイル導体の間のスペースの延在方向に並行し且つ当該スペースの両側のコイル導体の一部と対向するように配置されている。
(第2C実施形態)
図18は、本発明に係る第2C実施形態の薄膜バラン2Cにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第2実施形態と同様である。図18に示す薄膜バラン2Cでは、キャパシタDの電極D2が、平面視において、コイル部C2の下から1列目のコイル導体(延在部12c)と2列目のコイル導体の間のスペースの延在方向に並行し且つ当該スペースの両側のコイル導体の一部と対向するように配置されている。
(第2D実施形態)
図19は、本発明に係る第2D実施形態の薄膜バラン1Bにおける配線層M0を概略的に示す水平断面図である。配線層M0以外の構成は、第2実施形態と同様である。図19に示す薄膜バラン2Dは、コイル部C2の右下の領域における複数のコイル導体21に対向するようにキャパシタDの電極D2が配置されたものである。ただし、電極D2の面積は、第2〜第2C実施形態と同じにしている。
(特性評価)
以上説明した各実施形態の薄膜バラン2〜2Dについて、通過特性(挿入損失)及び平衡特性(平衡信号の位相差及び振幅差)をシミュレーションにより求めた。伝送信号の評価対象周波数(共振周波数fr)を2400〜2500MHzとした。図20は、通過特性の評価結果を示す図であり、図21は位相差の評価結果を示す図であり、図22は振幅差の評価結果を示す図である。各図において、曲線E2,E2A〜E2Dが、それぞれ、薄膜バラン2,2A〜2Dの評価結果を示す。
これらの結果より、各実施形態の薄膜バランにおいては、通過特性及び位相バランスの点において優れた特性を維持していることが確認された。振幅バランスについては、キャパシタDの電極D2の配置により調整できることが確認された。薄膜バラン2〜2Dに対する評価結果から、コイル部C2の延在部12cにキャパシタDの電極D2を対向させることにより、電極D2の位置を調整しても共振周波数frのピーク値のシフトが小さいことが確認された。特に、薄膜バラン2Dに対する評価結果から、平面視において、コイル部C2の右下の領域における複数のコイル導体21に対向するようにキャパシタDの電極D2が配置された薄膜バランの振幅バランスが最も優れていることが確認された。
次に、コイル部C2に延在部の有無による通過特性及び平衡特性の差異を評価した。この評価のため、以下の第1E,1F実施形態および第2,2A,2B実施形態の薄膜バランを用いた。
(第1E,1F実施形態)
図23は、本発明に係る第1E,1F実施形態の薄膜バラン1E,1Fにおける配線層M1を概略的に示す水平断面図である。図23に示すように、薄膜バラン1E,1Fでは、コイル部C2は、延在部を有していない。図示はしないが、薄膜バラン1Eは図16に示した薄膜バラン2Aと同じ配線層M0を備え、薄膜バラン1Fは図17に示した薄膜バラン2Bと同じ配線層M0を備える。配線層M0,M1以外の構成は、第1実施形態と同じである。
(第2,2A,2B実施形態)
図24は、上述した本発明に係る第2,2A,2B実施形態の薄膜バラン2,2A,2Bにおける配線層M1を確認的に示す水平断面図である。図24に示すように、薄膜バラン2,2A,2Bは、キャパシタDの電極Dとなる延在部12cを有している。上述したように、薄膜バラン2は図14に示す配線層M0を備え、薄膜バラン2Aは図16に示す配線層M0を備え、薄膜バラン2Bは図17に示す配線層M0を備える。配線層M0,M1以外の構成は、第1実施形態と同じである。
(特性評価)
以上説明した各実施形態の薄膜バラン1E,1Fについて、通過特性(挿入損失)及び平衡特性(平衡信号の位相差及び振幅差)をシミュレーションにより求めた。伝送信号の評価対象周波数(共振周波数fr)を2400〜2500MHzとした。図25は、通過特性の評価結果を示す図であり、図26は位相差の評価結果を示す図であり、図27は振幅差の評価結果を示す図である。なお、各図には、前述した薄膜バラン2,2A,2Bの結果も併記した。各図において、曲線E1E,E1F,E2,E2A〜E2Bが、それぞれ、薄膜バラン1E,1F,2,2A〜2Bの評価結果を示す。
薄膜バラン1E,1Fに対する評価結果から、コイル部C2の延在部12cにキャパシタDの電極D2を対向させることにより、電極D2の位置を調整しても共振周波数frのピーク値のシフトが小さいことが確認された。
(比較例)
図28は、比較例の薄膜バラン4における配線層B1を概略的に示す水平断面図である。この配線層B1は、絶縁性基板100と配線層M0との間に設けられたものである。図28に示す如く、比較例の薄膜バラン4は、キャパシタKが、平面視において、コイル部C2の領域の範囲外の領域に配置されたものである。なお、図示においては、キャパシタKの電極K1のみを記載したが、その電極K1に対向する配線層M0における位置に、電極K1と同形状の対向電極(本発明の実施形態において電極D2に相当するもの)が形成されている。また、電極K1は、配線51によって接地端子G近傍のスルーホールPに接続されており、当該スルーホールPを介して配線層M1のコイル部C2の端部12aに接続されている。なお、配線層M0に形成される対向電極は、配線52によって接地端子Gに接続されている。
(特性評価)
上記の比較例の薄膜バラン4について、伝送信号の通過特性(減衰特性)をシミュレーションにより評価した結果を、図29に示す。シミュレーションにおいては、伝送信号の評価対象周波数(共振周波数fr)を2400〜2500MHzとし、この周波数範囲における減衰量が1dB未満を目標仕様とし、各薄膜バランの通過特性を評価した。
図29において、曲線R4が、薄膜バラン4の評価結果を示す。これらの結果より、比較例の薄膜バラン4は、図29に示す如く、通過特性における目標仕様の周波数域における減衰量が本発明による薄膜バランよりも大きくなってしまい、その目標仕様を満たさないことが判明した。
なお、上述したとおり、本発明は、上記の各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を変更しない限度において様々な変形が可能である。例えば、不平衡端子UT、平衡端子BT1,BT2、及び接地端子Gの配置は、図示の位置に限定されない。また、薄膜バランを構成する多層配線構造は、図示の層数未満であってもよく、図示の層数より多くてもよい。さらに、絶縁性基板100上の配線層の順序が逆になった構造であってももちろんよい。さらに、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々のコイル配置を採用することが可能である。
本発明の薄膜バランによれば、不平衡回路を構成する線路部の一部が、不平衡回路に接続されるキャパシタの一方の電極を兼ねることによって、要求されるバランの諸特性を維持しつつ、小型薄型化することができるので、特に、小型薄型化が要求される無線通信機器、装置、モジュール、及びシステム、並びにそれらを備える設備、さらには、それらの製造に広く適用することが可能である。
1〜1F,2〜2C…本発明に係る薄膜バラン、4…比較例の薄膜バラン、11,12,21,22…コイル導体、11a,11b,12a,12b,21a,21b,22a,22b…端部、31,32…配線、51…配線、B1,M0,M1,M2,M3…配線層、C1…コイル部(第1のコイル部、第1の線路部)、C2…コイル部(第2のコイル部、第2の線路部)、C3…コイル部(第3のコイル部、第3の線路部)、C4…コイル部(第4のコイル部、第4の線路部)、D…キャパシタ(C成分、容量成分)、D1…電極、D2…電極(対向電極)、G…接地端子(接地電位)、K…キャパシタ、K1…電極、L1…線路部(第1の線路部)、L2…線路部(第2の線路部)、L3…線路部(第3の線路部)、L4…線路部(第4の線路部)、P…スルーホール、UL…不平衡伝送線路(不平衡回路)、BL…平衡伝送線路(平衡回路)、UT…不平衡端子、BT1…平衡端子(第1の平衡端子)、BT2…平衡端子(第2の平衡端子)。

Claims (9)

  1. 不平衡回路と、
    前記不平衡回路に磁気結合する平衡回路と、
    前記不平衡回路に接続されたキャパシタと、
    を備えており、
    前記不平衡回路を構成する線路部の一部が前記キャパシタの一方の電極を兼ねる、
    薄膜バラン。
  2. 不平衡伝送線路と、
    前記不平衡伝送線路に対向配置され且つ磁気結合するよう積層された平衡伝送線路と、
    を有し、
    前記不平衡伝送線路の一端は不平衡端子に接続され、他端はC成分を介して接地端子に接続されており、
    前記C成分が、前記不平衡伝送線路を構成する線路部の一部及び対向電極により構成された、
    薄膜バラン。
  3. 第1の線路部及び第2の線路部を有する不平衡伝送線路と、
    前記第1の線路部及び前記第2の線路部のそれぞれに対向配置され且つ磁気結合する第3の線路部及び第4の線路部を有する平衡伝送線路と、
    前記第1の線路部に接続された不平衡端子と、
    前記第2の線路部にC成分を介して接続された接地端子と、
    前記接地端子に接続され且つ前記第2の線路部の一部に対向する対向電極と、
    を備えており、
    前記C成分が、前記第2の線路部の一部及び前記対向電極により構成された、
    薄膜バラン。
  4. 前記第2の線路部は、前記第1の線路部に対応する線路部から延びた延在部を有し、
    前記対向電極は、前記第2の線路部の延在部に対向し、
    前記C成分が、前記第2の線路部の延在部及び前記対向電極により構成された、
    請求項3に記載のバラン。
  5. 第1のコイル部及び第2のコイル部を有する不平衡伝送線路と、
    前記第1のコイル部及び前記第2のコイル部のそれぞれに対向配置され且つ磁気結合する第3のコイル部及び第4のコイル部を有する平衡伝送線路と、
    前記第1のコイル部に接続された不平衡端子と、
    前記第2のコイル部にC成分を介して接続された接地端子と、
    前記接地端子に接続され且つ前記第2のコイル部の一部に対向する対向電極と、
    を備えており、
    前記C成分が、前記第2のコイル部の一部及び前記対向電極により構成された、
    薄膜バラン。
  6. 前記対向電極は、前記第2のコイル部における内周のコイル導体よりも外周のコイル導体に近いコイル導体の一部に対向している、
    請求項5に記載の薄膜バラン。
  7. 前記対向電極は、前記第2のコイル部における外周のコイル導体の一部に対向している、
    請求項6に記載の薄膜バラン。
  8. 前記対向電極は、前記第2のコイル部を構成する互いに隣り合うコイル導体の間のスペースの一部の延在方向に並行しており且つ前記スペースの両側の対向電極の一部と対向している、
    請求項5に記載の薄膜バラン。
  9. 前記対向電極は、前記第2のコイル部を構成するコイル導体の一部の延在方向に並行しており且つ前記コイル導体の一部と対向している、
    請求項5に記載の薄膜バラン。
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