JP2010512020A - EUV源におけるデブリ抑制用影つけ電極(shadowingelectrode) - Google Patents
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Abstract
【解決手段】自己遮蔽電極(31、32)を有する放射源(50)を開示する。電極(31、32)から発生したデブリを減少させる。電極(31、32)からEUV光学系(10)への経路は、電極自体の一部によりブロックされる(自己遮蔽と呼ぶ)。これにより、電極から発生するデブリの量を大幅に減少させることができる。一実施形態では、両方の電極(31、32)の影に入っていない光エレメント(10)の部分(60、61)にデブリが到達するのを防ぐために、1つまたは2つの汚染バリア(12)を使用してもよい。
【選択図】図3
Description
[0004] −低速原子デブリ(slow atomic debris):熱化された原子、つまり、マックスウェル分布に従ったランダムな方向および速度を有するもの
[0005] −高速原子デブリ(fast atomic debris):放射源から放出されるEUV放射に略平行な高弾道速度(ballistic velocity)を有するイオン、中性子(neutrals)、および、ナノクラスタ
[0006] −マイクロ粒子:EUV放射に略平行に誘導されるマイクロメートルサイズの弾道粒子(ballistic particles)および液体粒子。
[0030] −EUV放射を生成するように構成されたプラズマ放射源SOと、
[0031] −放射源SOから生じる汚染の一部をブロックするように構成された汚染バリアCBと、
[0032] −放射ビームBを調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0033] −パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けるように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
[0034] −基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けるように構成された第2ポジショナPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
[0035] −パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (26)
- 放射を生成する電動の放電源であって、
放電空間に配置された少なくとも2つの電極であって、互いから、前記電極の各アクティブ領域間の点においてプラズマの形成が可能となる距離を置いて配置された電極を含み、
放射される光エレメントの光軸が前記点を横断する状況において、前記各アクティブ領域の少なくとも1つは前記光エレメントの少なくとも特定部分から不可視である一方、前記特定部分は前記点における前記プラズマからの放射を受ける、
放電源。 - 前記状況において、各アクティブ領域の両方が、前記特定部分から不可視である、
請求項1に記載の放電源。 - 前記電極の表面に溶融金属を塗布するように構成されたデバイスと、
前記アクティブ領域の少なくとも1つにエネルギビームを誘導し、前記塗布された溶融金属を蒸発させて、少なくとも部分的にガス状媒体を生成するように構成されたエネルギビームデバイスと、
をさらに含む請求項1に記載の放電源。 - 前記電極のうち少なくとも1つの一部の断面は、くさび形である、
請求項1に記載の放電源。 - 前記電極の各々は切欠きを含み、前記アクティブ領域は前記切欠き内にあり、前記切欠きの少なくとも1つにエネルギビームを誘導するように構成されたエネルギビームデバイスをさらに含む、
請求項1に記載の放電源。 - 前記電極の各々は、各回転軸を中心に回転可能に取り付けられる、
請求項1に記載の放電源。 - 放射システムであって、
光軸を有する光エレメントと、
放射を生成するように構成された電動の放電源であって、前記放電源は、放電空間に配置された少なくとも2つの電極であって、互いから、前記電極の各アクティブ領域間の点においてプラズマの形成が可能となる距離を置いて配置された電極を含む、放電源と、
を含み、
前記光エレメントの前記光軸は前記点を横断し、前記各アクティブ領域の少なくとも1つは前記光エレメントの少なくとも特定部分から不可視である一方、前記特定部分は前記点における前記プラズマからの放射を受ける、放射システム。 - 前記状況において、各アクティブ領域の両方が、前記特定部分から不可視である、
請求項7に記載の放射システム。 - 前記電極の表面に溶融金属を塗布するように構成されたデバイスと、
前記アクティブ領域の少なくとも1つにエネルギビームを誘導し、前記塗布された溶融金属を蒸発させて、少なくとも部分的にガス状媒体を生成するように構成されたエネルギビームデバイスと、
をさらに含む請求項7に記載の放射システム。 - 前記電極のうち少なくとも1つの一部の断面は、くさび形である、
請求項7に記載の放射システム。 - 前記電極の各々は切欠きを含み、前記アクティブ領域は前記切欠き内にあり、前記切欠きの少なくとも1つにエネルギビームを誘導するように構成されたエネルギビームデバイスをさらに含む、
請求項7に記載の放射システム。 - 前記電極の各々は、各回転軸を中心に回転可能に取り付けられる、
請求項7に記載の放射システム。 - 前記放射システムは、放射透過性を有する第1デブリバリアを含み、前記第1デブリバリアは、前記各アクティブ領域のうちの第1のアクティブ領域から発生するデブリが前記光エレメントに到達するのを防ぐように構成および配置される、
請求項7に記載の放射システム。 - 前記放射システムは、第2デブリバリアを含み、前記第2デブリバリアは、前記各アクティブ領域のうちの第2のアクティブ領域から発生するデブリが前記光エレメントに到達するのを防ぐように構成および配置される、
請求項13に記載の放射システム。 - 前記第1デブリバリアは、回転可能なホイルトラップである、
請求項13に記載の放射システム。 - 前記第2デブリバリアは、回転可能なホイルトラップである、
請求項14に記載の放射システム。 - 前記第1デブリバリアは回転可能なホイルトラップであり、前記第2デブリバリアは回転可能なホイルトラップであり、前記回転可能なホイルトラップは前記電動の放電源の両側に配置される、
請求項14に記載の放射システム。 - 前記ホイルトラップは、軸を中心に回転可能に配置された複数のブレードを含み、前記回転可能なホイルトラップは、前記回転可能なホイルトラップの各々の断面の最大でも半分が前記放射源により照射され得るように、前記電動の放電源に対して位置付けられる、
請求項15に記載の放射システム。 - 前記各回転可能なホイルトラップの回転可能な軸は、前記点に対して位置合わせされる、
請求項16に記載の放射システム。 - リソグラフィ装置であって、
放射を生成するように構成された電動の放電源であって、前記放電源は、放電空間に配置された少なくとも2つの電極であって、互いから、前記電極の各アクティブ領域間の点においてプラズマの形成が可能となる距離を置いて配置された電極を含む、放電源と、
放射ビームを調整するように構成された照明システムであって、前記照明システムは前記放電源に対向する光エレメントを含み、前記光エレメントの光軸は前記点を横断する、照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートであって、前記パターニングデバイスは、前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付けされた放射ビームを形成するように構成された、サポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付けされた放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
を含み、
前記各領域の少なくとも1つは前記光エレメントの少なくとも特定部分から不可視である一方、前記特定部分は、少なくとも使用中は、前記点からの放射を受ける、
リソグラフィ装置。 - 放電空間に配置された2つの電極の各アクティブ領域間の点Pにおいてプラズマが点火される電動の放電源によって放射を生成する方法であって、
放射される光エレメントの光軸が前記点Pを横断する状況において、前記各領域の少なくとも1つは前記光エレメントの特定部分から不可視である一方、前記特定部分は前記点Pからの放射を受ける、
方法。 - 前記各アクティブ領域の両方が、前記特定部分から不可視である、
請求項21に記載の方法。 - 前記電極の表面に溶融金属を塗布することと、
前記アクティブ領域の少なくとも1つにエネルギビームを誘導し、前記塗布された溶融金属を蒸発させて、少なくとも部分的にガス状媒体を生成することと、
をさらに含む、
請求項21に記載の方法。 - 前記電極のうち少なくとも1つの一部の断面は、くさび形である、
請求項21に記載の方法。 - 前記電極の各々は切欠きを含み、前記アクティブ領域は前記切欠き内にあり、前記切欠きの少なくとも1つにエネルギビームを誘導するように構成されたエネルギビームデバイスをさらに含む、
請求項21に記載の方法。 - 前記電極の各々は、各回転軸を中心に回転可能に取り付けられた、
請求項21に記載の方法。
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