JP2010204122A - プローブカードに関する情報の処理方法、及び処理された情報を用いる被検査体の通電試験方法 - Google Patents

プローブカードに関する情報の処理方法、及び処理された情報を用いる被検査体の通電試験方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 検査途中における平行度調整を容易にすることにある。
【解決手段】 プローブカードに関する情報を処理する方法は、基板、該基板に配置された複数のプローブ及び前記基板に配置された記憶装置を備えるプローブカードに関する情報を処理する方法であって、少なくとも3つの第1の基準プローブと、針先高さ位置が揃っている少なくとも3つの第2の基準プローブとを決定し、プローブの最適オーバードライブ量を決定し、前記第1の基準プローブの針先のXY座標位置、前記第2の基準プローブの針先高さ位置、及び前記最適なオーバードライブ量を前記記憶装置に書き込むこととを含む。
【選択図】図10

Description

本発明は、半導体集積回路(IC)のような平板状の被検査体の通電試験に用いるプローブカードに関する情報を処理する方法、及び処理された情報を用いて被検査体の通電試験をする方法に関する。
複数の集積回路が形成された半導体ウエーハのような平板状の被検査体は、各集積回路が仕様書通りの機能を有するか否かの通電試験(検査)をされる。この種の通電試験は、一般に、被検査体の電極に個々に対応された複数のプローブを有するプローブカードを用いるプロービング装置(検査装置)を用いて行われる。各プローブは、対応する電極に押圧される先端すなわち針先を有する。
プロービング装置は、一般に、プローブカード及び被検査体をそれらの相対的位置関係が許容範囲内となるように取り付けるために、位置決めピンやストッパのような位置決め部材、及び検査ステージのような位置決め機構等を備えている。検査ステージは、被検査体を受けるチャックトップのような載置台(受け台)を備えており、また載置台ひいてはこれに受けられた被検査体を、XYZの3方向に移動させると共に、Z方向に伸びるθ軸線の周りに角度的に回転させる。
これに対し、プローブカードは、仮想的な基準面からの針先の高さ位置(すなわち、Z座標位置)が許容範囲内となると共に、被検査体と平行なXY面内における針先の二次元位置(すなわち、XY座標位置)が仮想的な基準二次元位置(すなわち、対応する電極の二次元位置)に対し許容範囲内となるように、プローブカードの製造時に被検査体の見本や設計図等の位置基準を用いて針先の位置を調整される。
上記位置基準は、プローブカードがプロービング装置に装着された状態において、プロービング装置に配置された被検査体自体の面やその複数の電極により形成される仮想面等の基板面及びその基板面における各電極の二次元位置に対応する面や二次元位置を備える。
上記のことから、プローブカード及び被検査体がプロービング装置に取り付けられた状態において、プローブカード自体の面やその複数の針先により形成される仮想面等のプローブ面と、被検査体自体の面やその電極により形成される面等の基板面とは平行になり、また全てのプローブの針先が対応する電極に接触可能となる。
しかし、そのようなプロービング装置及びプローブカードであっても、プロービング装置に配置された被検査体の電極に対する針先の位置が製造時における位置調整終了後の針先の位置と同じになる状態に、プローブカードをプロービング装置に取り付けることは難しい。
このため従来では、プローブカードをプロービング装置に取り付けた状態においては、プローブカード側のプローブ面がプロービング装置に配置された被検査体側の基板面に対し傾斜していることが多い。
プローブカードがそのような傾斜状態にプロービング装置に取り付けられると、プロービング装置に配置された実際の被検査体の電極に対する針先の三次元位置(Z位置(高さ位置)及びXY位置(二次元位置))が製造時における位置調整終了後の針先の位置と同じにならない。その結果、針先が電極に正確に接触しないプローブが生じ、正確な試験が行われない。
上記の課題を解決する位置合わせ技術の1つとして、プローブカードをプロービング装置に取り付けた後に、プロービング装置に対する、任意な4つのプローブの針先の三次元位置と、プロービング装置に配置された被検査体の4つの電極の三次元位置とを決定し、決定したそれらの三次元位置を用いて被検査体をプローブカードに対して変位させるものがある(特許文献1)。
特許第3193958号
上記従来技術は、被検査体を受けるチャックトップのような載置台(受け台)を、これをXYZの3方向に移動させる検査ステージに、球継手を用いて取り付けたプロービング装置を用いている。
そのようなプロービング装置を用いる上記従来技術は、4つの針先により形成されるプローブ面と、それらに個々に対応する4つの電極により形成される基板面とを求め、プローブ面と基板面とが平行になるように被検査体とプローブカードとを球継手の球面に沿って相対的に変位させ、その後それら4つのプローブの針先が対応する電極に正確に接触するように被検査体とプローブカードとを相対的に二次元的に移動させて、針先の位置を調整する。
一方、被検査体に熱を加えた状態で通電試験をすると、プロービング装置の各部位の熱による変形にともなって、プローブ面と基板面とが平行しなくなる。このような場合、上記位置調整、特にプローブ面と基板面の平行度調整を複数の被検査体の検査の途中においてたびたび行うことが望ましい。
しかし、従来では、上記の位置調整は、プローブカードをプロービング装置に取り付けたときに行われるのみで、複数の被検査体の検査の途中においては行われていない。
また、複数の被検査体の検査の途中において上記位置調整を上記従来技術により行おうとすると、位置調整のたびに、プローブ面と基板面とを求めなければならないから、平行度調整が繁雑になる。
特に、1つの半導体ウエーハに形成された多数の集積回路を試験するためのプローブカードのように10000本又はそれ以上のプローブを備えたプローブカードを用いるプロービング装置においては、平行度調整に多大の時間と労力を要する。
本発明の目的は、検査途中における平行度調整を容易にすることにある。
本発明に係る処理方法は、基板、該基板に配置された複数のプローブ及び前記基板に配置された記憶装置を備えるプローブカードに関する情報を処理する.そのような処理方法は、少なくとも3つの第1の基準プローブと、針先高さ位置が揃っている少なくとも3つの第2の基準プローブとを決定し、プローブの最適オーバードライブ量を決定し、前記第1の基準プローブの針先のXY座標位置、前記第2の基準プローブの針先高さ位置、及び前記最適なオーバードライブ量を前記記憶装置に書き込むこととを含む。
プローブ面と基板面との間隔は、プローブカードをプロービング装置に装着したときのような検査開始前に測定されて、制御部に予め記憶される。
検査の途中において、プローブ面と基板面の平行度調整を行うとき、各測定器により上記間隔を測定し、制御部において測定した値と予め記憶されている値とを比較して両者が一致するように変位機構を制御する。これにより、プローブ面と基板面との平行度が調整される。
このため、検査途中における平行度調整時にプローブ面と基板面とを求める必要がなく、検査途中における平行度調整が容易になる。
前記第1の基準プローブの針先のXY座標位置は許容範囲内にあってもよい。
本発明に係る処理方法は、さらに、前記第2の基準プローブの針先高さ位置から基準プローブ面を決定し、決定した基準プローブ面を前記記憶装置に書き込むことを含むことができる。
前記第1の基準プローブはXY座標系内において互いに離間されていてもよく、また前記第2の基準プローブもXY座標系内において互いに離間されていてもよい。
本発明に係る通電試験方法は、上記のような処理方法により処理された情報が記憶された記憶装置を基板に配置したプローブカードを用いて被検査体の通電試験をする、そのような通電試験方法は、プロービング装置に配置されたプローブカードの前記記憶装置から、少なくとも3つの第1の基準プローブの針先のXY座標位置と、針先高さ位置が揃っている少なくとも3つの第2の基準プローブの針先高さ位置とを読み出し、被検査体をその上方から上カメラにより撮影し、被検査体のXY座標をプロービング装置のXY座標と一致させ、前記第2のプローブの針先をその下方から下カメラにより撮影して、前記第2のプローブの針先の高さ位置により形成されるプローブ面を求め、求めたプローブ面と、少なくとも3つの第2の基準プローブの針先高さ基準位置により形成される基準プローブ面とから、求めたプローブ面と前記基準プローブ面とが平行になるようにプローブカードとプロ−ビング装置とを相対的に傾斜させることを含む。
プロービング装置の一実施例を示す図である。 図1に示すプロービング装置の平面図である。 被検査体の一実施例を示す平面図である。 被検査体の電極に対するプローブの位置関係を説明するための図であって、図4(A)は平面図、図(B)は図4(A)を左側ぐぁから見た図である。 二次元位置の調整の原理を説明するために被検査体の電極とプローブの針先との位置関係を示す図である。 プローブカードの一実施例を示す下面図である。 受け台の一実施例を示す平面図である。 記憶装置に記憶されたデータを取り出す手法の一実施例を示す断面図である。 平行度の調整の原理を説明するための図である。 図1に示す係るプロービング装置の動作を説明するための流れ図である。 プロービング装置の他の実施例を示す図である。 記憶装置に記憶されたデータを取り出す手法の他の実施例を示す断面図である。 記憶装置としてデータキャリアを用いたプローブカードの一実施例を示す平面図である。 記憶装置としてリムーバブルディスクを用いたプローブカードの一実施例を示す平面図である。 変位機構の他の実施例を示す断面図である。
10 プロービング装置
12 被検査体
14 チップ領域(被検査領域)
16 電極
16a 電極の設定位置
20 受け台
22 検査ステージ
24 ステージ台
26 カード台
28a,28b,28c 変位機構
30 プローブカード
32 下カメラ
34 上カメラ
36 支持部材
38 カードホルダ
40 穴
42 段部
44 プローブ
44a 針先
46 プローブ基板
48 配線基板
50 テスターランド
52 制御部
54,56 球継手
58 ボールねじ
60 中空モータ
62 制御部
64 許容範囲
66 位置基準
70 測定器
74 ターゲット
76 記憶装置
78 配線
80,82コンタクトピン
84,86,90 接続基板
88 接続ピン
94,124,126 配線
96,128, ケーブル
120,122 赤外線通信装置
123 空間
130 高周波
132 記憶装置の配置場所
134 調整ねじ
[用語について]
本発明において、基板面とは、被検査体自体の面、又はその被検査体に設けられた複数の電極により形成される仮想的な面をいい、プローブ面とは、後に説明する配線基板やプローブ基板の面、又はプローブカードに設けられた複数のプローブの針先により形成される仮想的な面をいう。
また本発明においては、図1において、左右方向をX方向又は左右方向、紙面に垂直の方向を前後方向又はY方向、上下方向をZ方向又は上下方向という。しかし、それらの方向は、検査すべき被検査体をプロービング装置に配置する姿勢により、異なる。
したがって、上記の方向は、実際のプロービング装置に応じて、X方向及びY方向が、水平面、水平面に対し傾斜する傾斜面、及び水平面に垂直の垂直面のいずれかの面内となるように決定してもよいし、それらの面の組み合わせとなるように決定してもよい。
[実施例]
図1及び図2を参照するに、検査装置すなわちプロービング装置10は、平板状の被検査体12の通電試験に用いられる。
[被検査体]
被検査体12は、図3に示すように、矩形をした多数の集積回路(IC)のチップ領域(被検査領域)14をマトリクス状に有する円板状の半導体ウエーハであり、また複数の電極16を各ICチップ領域14に一列に有する。Y方向に隣り合うICチップ領域14の電極16は、一列に整列されている。X方向及びY方向に隣り合うICチップ領域14は、スクライブライン18により区画されている。
以下、説明を簡略化しかつ理解を容易にするために、プロービング装置10は、被検査体12の全てのICチップ領域14を同時に一回で試験する場合について説明する。しかし、プロービング装置10は、被検査体12の全てのICチップ領域14を複数回に分けて試験するものであってもよい。
各電極16は、以下の説明では、矩形の平面形状を有するパッド電極とする。しかし、各電極16は、円形、楕円形等、他の平面形状を有していてもよい。また、各電極16は、必ずしも板状の電極である必要はなく、半球状のバンプ電極のような他の凸状の形状を有するものであってもよい。
[プロービング装置]
再び図1及び図2を参照するに、プロービング装置10は、被検査体12を真空的に吸着するチャックトップのような受け台20を備える検査ステージ22と、検査ステージ22を支持する板状のステージ台24と、ステージ台からこれの上方に間隔をおいた板状のカード台26と、カード台26をステージ台24に支持させるべくステージ台24及びカード台26を連結する3つの連結機構28a,28b,28cと、カード台26に受け台20と対向する状態に配置されたプローブカード(PC)30と、検査ステージ22にX方向及びY方向に移動可能に配置された下カメラ32と、カード台26に配置された上カメラ34とを含む。
受け台20は、リング状又は円板状の形状を有しており、また被検査体12を水平に受ける平面円形の吸着面(図示の例では、上面)を有しており、さらに被検査体12を解除可能に吸着するための複数の吸着溝を吸着面に有している。吸着溝は図示しない真空装置に連結されている。
検査ステージ22は、いずれも図示しないが、受け台20の他に、受け台20をX,Y及びZの3方向に三次元的に移動させる三次元駆動機構と、受け台20をZ方向に伸びるθ軸線の周りに角度的に回転させるθ駆動機構とを備えている。これらの駆動機構は、プロービング装置10の筐体(図示せず)内に配置されたステージ台24に設置されている。
ステージ台24は、プロービング装置10の筐体(図示せず)内に水平に配置されている。検査ステージ22は、その三次元駆動機構及びθ駆動機構のいずれか一方が他方を支持する状態に、三次元駆動機構及びθ駆動機構のいずれか一方においてステージ台24に配置されている。受け台20は、三次元駆動機構及びθ駆動機構の他方に支持されている。
カード台26は、連結機構28a,28b,28cによりステージ台24に支持された板状の支持部材36と、支持部材36にこれをZ方向に貫通する状態に支持されたリング状のカードホルダ38とを含む。
支持部材36は、これを上下に貫通する円形の穴40を中央に有していると共に、穴40の上部の周縁を円形に伸びる上向きの段部42を穴40の周りに有している。
カードホルダ38は、フランジ状の上部外周縁部が半径方向外側に伸びて支持部材36の上向き段部42に受けられ、中間部が上部外周縁部の内側から下方向に伸びて穴40に嵌合され、フランジ状の下部内周縁部が中間部の下端から半径方向内側に伸びてプローブカード30を受けるように、Z字状の断面形状を有する部材でリング状に形成されている。
カードホルダ38は、これの上部外周縁部を厚さ方向に貫通して支持部材36に螺合された複数の取り付けねじ及び複数の位置決めピン(いずれも図示せず)により、カード台26に取り付けられている。
プローブカード30は、被検査体12の電極16に個々に対応された複数のプローブ44をプローブ基板46の下面に取り付け、プローブ基板46を円形の平面形状を有する配線基板48の下面に取り付けている。
各プローブ44は、プローブ基板46に設けられた配線を介して配線基板48に備えられた配線に電気的に接続されており、さらに配線基板48の配線により配線基板48に備えられたテスターランド50に電気的に接続されている。各テスターランド50は、被検査体12に対す電気信号の受け渡しをするテスター(図8参照)に電気的に接続される。
プローブカード30は、プローブ44の針先が検査ステージ22の側に向くように、配線基板48の下面外周部において複数の取り付けねじ及び位置決めピン(いずれも図示せず)により、カードホルダ38に取り付けられている。
プローブ44は、それらの針先(すなわち、先端)が対応する電極16の配列状態と同じ配列状態になるように、プローブ基板46に配置されている。このため、同じICチップ領域14の電極16に対応されたプローブ44の針先は一列に整列されており、またY方向に隣り合うICチップ領域14の電極16に対応されたプローブ44の針先も一列に整列されている。
1つの連結機構28aは、一端部においてブラケット52によりステージ台24及びカード台26のいずれか一方にZ方向に伸びる状態に及び変位不能に連結され、かつ他端部において球継手54によりステージ台24及びカード台26の他方に変位可能に連結された固定支柱である。
残りの連結機構28b,28cは、一端部において球継手56によりステージ台24及びカード台26のいずれか一方にZ方向に伸びる状態に及び変位可能に連結された可動体58と、ステージ台24に配置されて可動体58をZ方向に変位させる駆動機構60とを備える。
図示の例では、連結機構28a,28b,28cは、いずれも、球継手54又は56によりカード台26に連結されている。
可動体58はボールねじであり、駆動機構60は可動体58と螺合する雌ねじ部を回転軸部に有する中空モータである。このため、連結機構28a,28b,28cは、駆動機構60の正転及び逆転により可動体58をZ方向に移動させて、カード台26をステージ台24ひいては検査ステージ22に対し変位させ、それによりカード台26をステージ台24及び検査ステージ22に対し傾斜させる変位機構として作用する。
下上のカメラ32及び34は、自動焦点合わせの機能を備えたビデオカメラである。
下カメラ32は、プローブ44の針先を撮像するように、上向きに検査ステージ22に設置されており、また検査ステージ22によりX方向及びY方向に二次元的に移動されてプローブ30の針先を撮像する。
上カメラ34は、検査ステージ22に配置された被検査体12の電極16を撮像するように、下向きにカード台26の下面に取り付けられている。上カメラ34は、受け台20が検査ステージ22によりX方向及びY方向に二次元的に移動されることにより、被検査体12の電極16を撮像する。上カメラ34をプローブカード30又はカードホルダ24に取り付けてもよい。
検査ステージ22による下カメラ32の移動面は、針先のためにプロービング装置10に設定された仮想的な第1の基準面として作用する。検査ステージ22による受け台20の移動にともなう上カメラ34の仮想的な(見かけ上の)移動面は、電極16のためにプロービング装置10に設定された仮想的な第2の基準面として作用する。
下カメラ32の出力信号は、プロービング装置10を制御するプローバの制御部62(図8参照)において、第1の基準面からの針先の高さ位置である針先高さ位置を求めると共に、それらいくつかの針高さ位置から、プロービング装置10に取り付けられた状態におけるプローブカード30のプローブ面を求めることに用いられる。
上カメラ34の出力信号は、プローバの制御部62において、第2の基準面からの電極16の高さ位置である電極高さ位置を求めると共に、それらいくつかの電極高さ位置から、プロービング装置10の配置された状態における被検査体12の電極面を基板面として求めることに用いられる。
プローブカード30は、図4(A)及び(B)に示すように、各プローブ44の針先44aが対応する電極16の設定位置16aに接触し、その状態で針先44aが電極16に接触され、さらにZ方向への所定量のオーバードライブODがプローブ44に作用して、針先44aが電極16に対してX,Y面内で所定量だけ滑るように、製造される。
設定位置16aは、針先44aが接触すべき目標位置であり、プローブ44にオーバードライブが作用したときの電極16に対する針先44aの滑り量を考慮して設定されている。
しかし、各針先44aが対応する電極16の設定位置16aに正確に接触するように、プローブカード30を製造することは難しい。このため、対応する電極16への各針先44aの接触位置について、許容範囲64が定められている。もちろん、上記のオーバードライブ(OD)量や滑り量にも、許容範囲が定められている。
上記のことから、プローブカード30は、製造時に、プローブ面が基板面と平行になると共に、各プローブ44の針先44aが許容範囲64内となるように、被検査体12の見本のような位置基準66(図5参照)を用いて針先位置を調整される。図6は、理解を容易にするために、多くの電極16及び多くの針先44aを省略して示している。
上記のように針先位置を調整されたプローブカード30は、プロービング装置10に取り付けられ、その状態で対応する電極16に対する針先44aの位置が許容範囲64内となるように、調整される。
前記したように、プローブカード30はカードホルダ38に複数のねじ部材及び位置合わせピンにより取り付けられており、カードホルダ38はカード台26に複数のねじ部材及び位置合わせピンにより取り付けられている。
上記の結果、プローブカード30は、これに予め定められた方向(例えば、針先44aの整列方向)がプロービング装置10に予め定められた方向と一致し、かつ各針先44aの二次元位置がプロービング装置10に予め定められた二次元位置と一致するように、プロービング装置10に対しプリアライメントをされている。
しかし、上記のようにプリアライメントをされたとしても、プローブカード30のプローブ面がプロービング装置10に配置された被検査体12の基板面と平行であるとは限らないし、電極16の設定位置16aに対する各針先44aの位置が許容範囲64内にあるとは限らない。
このため、後に説明する位置合わせが行われる。
図1,図6及び図7に示すように、プロービング装置10は、また、それぞれが検査ステージ22とプローブカード30との間隔を測定する複数の測定器70を含む。それらの測定器70は、検査ステージ22及びプローブカード30のいずれか一方にX方向及びY方向に間隔をおいて配置されている。各測定器70は、レーザ光線72を用いるレーザ測長器とすることができる。
これに対し、検査ステージ22及びプローブカード30の他方には、レーザ光線72を受けるターゲット74が各測定器70による照射箇所に配置されている。各ターゲット74は、反射鏡とすることができる。
図示の例では、三角形の頂点に位置する3つの測定器70がレーザ光線の出射口及び反射光の入射口を上方に向けた状態に、載置台20の周りに間隔をおいて検査ステージ22に配置されており、またターゲット74がプローブ基板46の下面に下向きに取り付けられている。
図6において、二点鎖線の領域71は、プローブ44の配置領域を示す。また、図7において、二点鎖線の領域73はICチップ領域14の形成領域を示す。
図8に示すように、プローブカード30は、また、配線基板48に配置された記憶装置76を備えている。記憶装置76は、プローブ44に関する情報を含むプローブカード情報を記憶している。
図示の例では、記憶装置76は、情報の書き込み及び読み出しのための複数の端子を備えたICメモリである。このため、配線基板48は記憶装置76の端子に接続された複数の配線78を有している。
カードホルダ38は、これに配置されたプローブカード30の配線78に一端において電気的に接触する複数の第1のコンタクトピン80を下部外周縁部に有すると共に、第1のコンタクトピン80の他端に一端において電気的に接続された複数の第2のコンタクトピンを上部外周縁部に有する。
カードホルダ38は、さらに、それぞれが複数の配線を有する第1及び第2の接続基板84及び86をそれぞれ下部外周縁部の下面及び上部外周縁部の上面に有すると共に、複数の接続ピン88を中間部に有する。
第1の接続基板84の各配線は、第1のコンタクトピン80の他端と接続ピン88の一端とに一対一の形に電気的に接触されている。第2の接続基板86の各配線は、接続ピン88の他端と第2のコンタクトピン82の一端とに一対一の形に電気的に接触されている。
支持部材36は、さらに、それぞれが第2のコンタクトピン82の他端に電気的に接触された複数の配線を有する第3の接続基板90を上向き段部42に有している。第3の接続基板90の各配線は、支持部材36に設けられた配線94及び配線94に電気的に接続されたケーブル96によりプローバの制御部62に電気的に接続されている。
[位置合わせ方法]
次に、図1から図10を参照して、プローブ44の針先44aと被検査体12の電極16との位置合わせをする位置合わせ方法の一実施例について説明する。図10においては、用語「プローブカード」を記号「PC」として示す。
[プローブ情報の決定]
プローブカード30がプロービング装置10の取り付けられる前、特に製造時に、基準データを決定するための以下のステップが予め実行される。
1:上記のように位置基準66(図5参照)を用いて針先位置を調整した後の全プローブ44の平面座標(針先の二次元位置)、高さ座標(針先の高さ位置)及び接触抵抗値を測定する(図10におけるステップ100)。
2:次いで、設定位置16aに位置する少なくとも3つのプローブを、針先二次元位置を決定するための第1の基準プローブP1,P2,P3(図5参照)と選定して、それら第1の基準プローブP1,P2,P3の針先二次元位置を針先二次元基準位置として決定する(図10におけるステップ101)。
3:次いで、高さ位置が揃っている少なくとも3つのプローブを、針先高さ基準位置を決定するための第2の基準プローブP4,P5,P6(図9参照)を選定して、それら第2の基準プローブP4,P5,P6の針先高さ位置を針先高さ基準位置として決定する(図10におけるステップ101)。
上記の針先高さ基準位置から、第2の基準プローブP4,P5,P6の針先44aにより形成される仮想面を基準プローブ面として得ることができる。
4:次いで、プローブカード30に対する最適なオーバードライブ量(許容範囲)を選定して、選定したオーバードライブ量を最適なオーバードライブ量(OD量)として決定する(図10におけるステップ101)。
5:その後、プローブカード30に関する各種の情報を記憶装置76に保存する(図10におけるステップ102)。
それらの情報は、第1の基準プローブP1,P2,P3の針先二次元位置、第2の基準プローブP4,P5,P6の針先高さ位置、最適なオーバードライブ量(OD量)及びプローブに関する情報を含む他のプローブカード情報を含む。
針先二次元位置及び針先高さ位置は、それぞれ、針先二次元基準位置及び針先高さ基準位置として、基準プローブの番号と共に基準プローブ毎に記憶装置76に書き込まれる。
最適なオーバードライブ量(OD量)と、プローブに関する情報を含む他のプローブカード情報とは、記憶装置76に書き込まれる。針先二次元基準位置、針先高さ基準位置及びプローブ番号は、後にプローブ情報として用いられる。
針先二次元基準位置は、プローブカード30に予め設定されている仮想的なXYZの三次元座標系における針先のX,Y座標位置として決定される。そのような針先二次元基準位置は、その基準プローブP1,P2,P3に対応する電極のXY座標位置であってもよいし、プローブ番号によりXY座標位置が特定される場合はそのプローブ番号自体であってもよい。
針先高さ基準位置は、三次元座標系におけるZ座標値(例えば、位置基準66の面のような基準面からの高さ位置)として決定される。位置基準66は、被検査体12及びプローブカード30がプロービング装置10に配置されたときの、プローブカード30に対する被検査体の仮想的な位置とすることができる。
針先二次元基準位置及び針先高さ基準位置は、これらを新たに決定する代わりに、位置基準66を用いる針先位置の調整の際に各針先44aの針先二次元位置及び針先高さ位置を決定し、そのときの対応する値を針先二次元基準位置及び針先高さ基準位置として用いてもよい。
プローブカード30が多数のプローブ44を備えている場合、針先位置の調整時に、針先44aが位置基準66の仮想的な対応する電極16の設定位置16aに位置する複数のプローブや、同じ針先高さを有する複数のプローブが存在することが多い。
そこで、針先二次元基準位置を得るための第1の基準プローブP1,P2,P3は、図4及び図5に示すように、針先44aが位置基準66の仮想的な対応する電極16の設定位置16aに位置しかつ互いに大きく間隔をおいた少なくとも3つのプローブとすることができる。そのようなプローブが存在しないときは、針先44aが仮想的な設定位置16aに近くかつ互いに大きく間隔をおいたプローブとすることができる。
また、針先高さ基準位置を得るための第2の基準プローブP4,P5,P6は、図9に示すように、同じ又はほぼ同じ針先高さ位置(例えば、最も大きい又は小さい高さ位置)を有しかつ互いに大きく間隔をおいた少なくとも3つのプローブとすることができる。そのようなプローブが存在しないときは、針先高さ位置が互いに最も近くかつ互いに大きく間隔をおいた複数のプローブとすることができる。
上記のことから、第1の基準プローブP1,P2,P3の少なくとも1つは、第2の基準プローブP4,P5,P6の少なくとも1つと同じであってもよい。
図5及び図9は、第1及び第2の基準プローブP1からP6を決定するプロセスを容易に理解することができるように、電極16、プローブ44、及びその長さ寸法の差を拡大して示していると共に、多くのプローブ44を省略している。
[プローブカードの取り付け及びプローブ情報の入力]
各種の情報が記憶装置76に記憶されると、プローブカード30がプロービング装置10に上記したように位置決めピンやストッパ等を利用して正確に取り付けられ(図10におけるステップ103)、ステップ102で記憶された針先二次元基準位置及び針先高さ基準位置がプロービング装置10の制御部62に読み出される(図10におけるステップ104)。
[原点位置出し(二次元座標合わせ)]
上記ステップ103及び104の後、被検査体12の隣り合うICチップ領域14を区画するスクライブライン18やICパターンと、これらを撮影する上カメラ34とを利用して、プロービング装置10に対する被検査体12の原点位置出し(すなわち、二次元座標合わせ)が行われる(図10におけるステップ105)。
上記原点位置出しは、被検査体12のXY座標をプロービング装置10に設定された仮想的なXY座標と一致させるステップであり、以下のように実行することができる。プロービング装置10の三次元座標は、制御部62(図8参照)にソフトウエアとして設定されている。
先ず、被検査体12を上カメラ34で撮影しつつ、受け台20ひいては被検査体12を検査ステージ22によりプロービング装置10のXY座標内で二次元的に移動させて、そのときの上カメラ34の出力信号を画像信号として制御部62に一時的に格納する。
次いで、格納した画像信号を用いて、撮影されたスクライブライン18(図3参照)とプロービング装置10のXY座標との位置ずれ及び角度ずれを制御部62において求める。
次いで、求めた位置ずれ及び角度ずれを修正するように、検査ステージ22の駆動装置をプロービング装置10の制御装置により制御させて、受け台20を検査ステージ22によりプロービング装置10のXY座標内で二次元的に移動させると共に、θ軸線の周りに角度的に回転させる。
上記の代わりに、プロービング装置10の制御部62に設定された座標自体をソフト的に変更することにより、前記位置ずれ及び角度ずれを修正してもよい。
上記原点位置出しすなわち二次元座標合わせにより、被検査体12のXY座標はプロービング装置10のXY座標に合わされる。
[針先高さ位置の確認及び平行度調整並びに針先二次元位置の確認及び調整]
上記原点位置出しの後、平行度調整並びに針先二次元位置の確認及び調整が行われる(図10におけるステップ106)。
上記針先高さ位置の確認は、プローブカード30の各プローブ44の針先44aを下カメラ32で撮影しつつ、下カメラ32を検査ステージ22によりプロービング装置10のXY座標内で二次元的に移動させ、そのときの下カメラ32の出力信号を制御部62(図8参照)に一時的に格納することにより行われる。
針先高さ位置の具体的な値は、針先44aを下カメラ32で撮影したときの下カメラ32の焦点位置とすることができる。
上記平行度調整は、制御部62において、第2の基準プローブP4,P5,P6の針先高さ位置により形成される仮想面(プローブ面)と、先に格納された針先高さ基準位置により形成される仮想面(基準プローブ面)とを求め、求めたプローブ面と基準プローブ面との角度θ1(図9参照)が零になるように、プローブカード30と被検査体12との平行度を調整することにより、行われる。
第2の基準プローブP4,P5,P6は、入力されたプローブ番号から特定することができる。上記の平行度調整により、針先高さ位置により形成されるプローブ面と針先高さ基準位置により形成される基準プローブ面とが平行にされる。
上記のような平行度調整は、制御部62において、プローブ面及び基準プローブ面を求めると共に、求めたプローブ面及び基準プローブ面の傾斜角度θ1を求め、次いで求めた傾斜角度θ1が零になるように、プローブカード30を傾斜させることにより行うことができる。
プローブカード30の傾斜は、図1における変位機構28b,28cの中空モータ60を正転又は逆転させて、カード台26を受け台20に対し傾斜させることにより行うことができる。
上記平行度の調整により、プローブカード30のプローブ面は、被検査体12の基板面と平行にされる。これは、同じ又はほぼ同じ針先高さ位置を有するプローブ44を平行度調整のための基準プローブP4,P5,P6と決定したことによる。
上記平行度調整のために、プローブ面及び基準プローブ面を求めることなく、単に、基準プローブP4,P5,P6の針先高さ位置が対応する針先高さ基準位置に一致するように、プローブカード30を傾斜させてもよい。
上記針先二次元位置の確認は、プローブカード30の各プローブ44の針先を下カメラ32で撮影しつつ、受け台20ひいては下カメラ32を検査ステージ22によりプロービング装置10のXY座標内で二次元的に移動させ、下カメラ32が第1の基準プローブP1,P2,P3の針先を撮影したときのときの下カメラ32の座標位置をプロービング装置10の制御部62に一時的に格納することにより行われる。
第1の基準プローブP1,P2,P3は、それらのプローブ番号により特定することができる。下カメラ32の座標位置は、例えば、下カメラ32が第1の基準プローブP1,P2,P3の針先を撮影したときのときの検査ステージ22の座標位置から得ることができる。上記針先二次元位置の確認は、針先高さ位置の確認ステップ106と平行して行ってもよい。
二次元位置の調整は、格納した基準プローブP1,P2,P3の針先二次元位置が先に格納された針先二次元基準位置に一致するように、受け台20、ひいては被検査体12を検査ステージ22によりプローブカード30に対しXY座標内で二次元的に移動させることにより行われる。
上記二次元位置の調整により、基準プローブP1,P2,P3の針先44aは、対応する電極16の中心に位置決められる。その結果、他のプローブ44の針先も、対応する電極16に対し許容範囲内に位置決められる。
上記の理由は、針先位置の調整により全てのプローブ44の針先が対応する電極16に対し許容範囲64内に位置決められていることと、針先44a(図6参照)が対応する電極16の設定位置16a又はほぼ設定位置16aに位置するプローブを基準プローブP1,P2,P3と決定したことによる。
次いで、受け台20とプローブ基板46との間の距離が測定される(図10におけるステップ107)。
この測定は、レーザ光線72を測定器70からこれに対応するターゲット74に向けて指向させ、ターゲット74からの反射光を測定器70で受光することにより、行われる。測定された各距離は、制御部62に一時的に格納される。
次いで、被検査体12の通電試験(測定)が行われる(図10におけるステップ108)。
通電試験は、受け台20ひいては被検査体12を検査ステージ22により上昇させて、被検査体12の電極16をプローブ44の針先に接触させた状態で、被検査体12に通電し、そのときの被検査体12から出力される電気信号をテスターに受けて、テスターにおいて被検査体12の正否を判定する、という通常の方法で行われる。
上記の通電試験の間、必要に応じて、針先高さの補正(高さ補正)と平行度の調整(平行補正)を行ってもよい(図10におけるステップ109)。
上記の平行度補正は、受け台20とプローブ基板46との間の距離を各測定器70により測定し、そのときの値と制御部62に先に格納した値とを制御部62において比較し、両者が一致するように、変位機構28b,28cによりプローブカード30を被検査体12に対し傾斜させることにより行われる。
通電試験が終了すると、被検査体12の交換が行われる(図10におけるステップ110)。被検査体12の交換の際、プローブの洗浄を行ってもよい。
次いで、測定器70による受け台20とプローブ基板46との間の距離の測定と、針先高さの補正(高さ補正)と平行度の調整(平行補正)を行ってもよい(図10におけるステップ111)。このステップ111は、ステップ109と同じ手法により行われる。
その後、ステップ109から111のステップが被検査体毎に繰り返される(図10におけるステップ112)。
全ての検査が終了すると、ブロービング装置のデータ、コンタクト回数、洗浄回数、平行度調整用データ等が制御部62に保存され(図10におけるステップ113)、プローブカード(PC)30が取り外される(図10におけるステップ114)。
上記ステップ100から114により、同じ種類の複数の被検査体12の通電試験が終了する。
[変形例]
プローブ面と基準プローブ面との平行度の調整を、基準プローブP4,P5,P6の針先高さ位置と針先高さ基準位置とを用いて行う代わりに、基準プローブP4,P5,P6の針先高さ位置とこれらに対応する電極の高さ位置とを用いて行なってもよい。
この場合、例えば、上カメラ34により被検査体12を電極16を撮影しつつ、第2の基準プローブに対応する電極16の高さ位置を求め、求めた電極高さ位置からの針先高さ位置が同じになるように、例えば、電極高さ位置により形成される仮想的な基板面と、第2の基準プローブの針先高さ位置により形成されるプローブ面とが平行になるように、プローブカード30を変位させればよい。
同様に、第1の基準プローブの針先の二次元位置の調整を、基準プローブP1,P2,P3の針先二次元位置と針先二次元基準位置とを用いて行う代わりに、基準プローブP1,P2,P4の針先二次元位置と、これらに対応する電極の二次元位置とを用いて行なってもよい。
この場合、例えば、被検査体12の電極16をステップ105のようにして上カメラ34で撮影しつつ、第2の基準プローブに対応する電極16の二次元位置すなわち電極二次元位置を求め、第2の基準プローブの針先二次元位置が求めた電極二次元位置と一致するように、被検査体12を検査ステージ22により変位させればよい。
図11に示すように、測定器70をプローブカード30に取り付け、ターゲット74を検査ステージ22に取り付けてもよい。
図12に示すように、記憶装置76に記憶したデータを2つの赤外線通信装置120,122を用いて行ってもよい。
一方の赤外線通信装置120は、プローブカード30に配置されて配線124により記憶装置76の端子に接続される。他方の赤外線通信装置122は、カード台26の支持部材36に配置されて配線126及びケーブル128により制御部62に接続される。
カードホルダ38は、第1の赤外線通信装置120から送信される赤外線が通過することを許す空間123を有し、支持部材36は、一方の赤外線通信装置120から送信された赤外線が他方第2の赤外線装置122に入射することを許す空間を有する。
上記の代わりに、図13に示すように、記憶装置76は、記憶されている情報を電磁波を用いて読み取り可能のデータキャリアを含むことができる。この場合、記憶装置76内の情報の授受は高周波130を用いて行われる。
また、図14に示すように、記憶装置76は、フレキシブルディスク、磁気カード、CD、ICカード等のリムーバブルメモリとすることができる。この場合、記憶装置76の配置場所132がプローブカード30の配線基板48に設けられ、記憶装置76は、人手によりプローブカード30から制御部62に又はその逆に移される。
図15に示すように、プロービング装置10に予め設定された基準面に対するプローブカード30、特にプローブ面の平行度は、プローブカード30の配線基板48のねじ穴に螺合されてカードホルダ38の下部内周縁部に当接する複数の調整ねじ134、カードホルダ38の上部外周縁部のねじ穴に螺合されてカード台26の段部42に当接する複数の調整ねじ(図示せず)等、他の部材により調整してもよい。
上記平行度の調整は、プローブカード30(又は、カードホルダ38)をカードホルダ38(又は、支持部材36)に取り付ける取り付けねじ(図示せず)を緩めた状態で、カードホルダ24(又は、支持部材36)への調整ねじ134のねじ込み量を調整した後、取り付けねじを締め付けることにより、行うことができる。
上記の平行度調整は、前記した取り付けねじ及び調整ねじ134を操作することにより、実行することができる。このため、少なくともカード台26及び調整ねじ134は、プロービング装置10に対するプローブカード30の傾斜角度を調整する変位機構として作用する。
しかし、プロービング装置10に対するプローブカード30の傾斜角度を、調整する角度調整ステージを介して、カード台26に取り付け、この角度調整ステージを電動機で駆動させることにより、プローブカード30を傾斜させてプロービング装置10に対するプローブカード30の傾斜角度を調整するようにしてもよい。
具体的なプローブ面と基板面との平行度の調整は、他の公知の方法によって実施してもよい。また、針先二次元位置の調整をしなくてもよい
本発明は、上記実施例に限定されず、その趣旨を逸脱しない限り、種々変更することができる。

Claims (5)

  1. 基板、該基板に配置された複数のプローブ及び前記基板に配置された記憶装置を備えるプローブカードに関する情報を処理する方法であって、
    少なくとも3つの第1の基準プローブと、針先高さ位置が揃っている少なくとも3つの第2の基準プローブとを決定し、
    プローブの最適オーバードライブ量を決定し、
    前記第1の基準プローブの針先のXY座標位置、前記第2の基準プローブの針先高さ位置、及び前記最適なオーバードライブ量を前記記憶装置に書き込むこととを含む、プローブカードに関する情報を処理する方法。
  2. 前記第1の基準プローブの針先のXY座標位置は許容範囲内にある、請求項1に記載の方法。
  3. さらに、前記第2の基準プローブの針先高さ位置から基準プローブ面を決定し、決定した基準プローブ面を前記記憶装置に書き込むことを含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記第1の基準プローブはXY座標系内において互いに離間されており、前記第2の基準プローブはXY座標系内において互いに離間されている、請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 請求項1から4のいずれか1項に記載の方法により処理された情報が記憶された記憶装置を基板に配置したプローブカードを用いて被検査体の通電試験をする方法であって、
    プロービング装置に配置されたプローブカードの前記記憶装置から、少なくとも3つの第1の基準プローブの針先のXY座標位置と、針先高さ位置が揃っている少なくとも3つの第2の基準プローブの針先高さ位置とを読み出し、
    被検査体をその上方から上カメラにより撮影し、被検査体のXY座標をプロービング装置のXY座標と一致させ、
    前記第2のプローブの針先をその下方から下カメラにより撮影して、前記第2のプローブの針先の高さ位置により形成されるプローブ面を求め、
    求めたプローブ面と、少なくとも3つの第2の基準プローブの針先高さ基準位置により形成される基準プローブ面とから、求めたプローブ面と前記基準プローブ面とが平行になるようにプローブカードとプロ−ビング装置とを相対的に傾斜させることを含む、被検査体の通電試験方法。
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