JP2010189620A - Photocurable resin composition and article having cured coating - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗料、コーティング等に用いられる光硬化性樹脂組成物、及びその硬化皮膜を有する物品に関するもので、更に詳しくは、保存安定性が良好で、透明性が高く、高硬度、耐擦傷性、帯電防止性に優れた硬化皮膜を与える光硬化性樹脂組成物、及びその硬化皮膜を有する物品に関するものである。 The present invention relates to a photocurable resin composition used for paints, coatings, and the like, and an article having a cured film thereof. More specifically, the present invention has good storage stability, high transparency, high hardness, and scratch resistance. The present invention relates to a photocurable resin composition that provides a cured film having excellent properties and antistatic properties, and an article having the cured film.
ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂等の合成樹脂は、軽量・透明性・易加工性等の利点を有する。そこで、そのような合成樹脂は、近年、ＣＤ、ＤＶＤ等の光ディスク、液晶、ＥＬパネル等の表示窓、各種機能性フィルム等、種々の分野で利用されている。 Synthetic resins such as polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, cyclic polyolefin resin, polyethylene terephthalate resin, and triacetyl cellulose resin have advantages such as light weight, transparency, and easy processability. Therefore, in recent years, such synthetic resins have been used in various fields such as optical disks such as CD and DVD, display windows such as liquid crystal and EL panels, and various functional films.
それらの表面の耐擦傷性を向上させるために、透明で且つ耐擦傷性を有するハードコートを媒体の記録及び／又は再生ビーム入射側表面に形成することが一般的に行われている。ハードコートの形成は、分子中に（メタ）アクリロイル基等の光反応性基を２個以上有する化合物や、（メタ）アクリロイル基等の光反応性基を有するアルコキシシランを塩基性触媒存在下で加水分解縮合した籠型構造のシロキサン化合物（特開２００２−３６３４１４号公報、特開２００４−１４３４４９号公報：特許文献１，２）や、光反応性基を有するアルコキシシランとコロイダルシリカの反応物等を含有する組成物を媒体表面に塗布し、これを紫外線等の活性エネルギー線の照射により硬化させることにより行われる。 In order to improve the scratch resistance of those surfaces, it is a common practice to form a transparent and scratch-resistant hard coat on the recording and / or reproducing beam incident side surface of the medium. In the formation of a hard coat, a compound having two or more photoreactive groups such as (meth) acryloyl groups or an alkoxysilane having a photoreactive group such as (meth) acryloyl groups in the molecule is present in the presence of a basic catalyst. Hydrolyzed and condensed siloxane compounds having a cage structure (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2002-363414 and 2004-143449: Patent Documents 1 and 2), a reaction product of an alkoxysilane having a photoreactive group and colloidal silica, etc. Is applied to the medium surface and cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
また、帯電防止性の向上を目的に、各種帯電防止剤の添加が検討されている。ポリエーテル変性シリコーンと過塩素酸リチウムの反応物（特開平５−３２０６２６号公報：特許文献３）や、多官能アクリルと過塩素酸リチウムの反応物（特許第３６７３５９０号公報：特許文献４）、多官能アクリレートと（ＣＦ3ＳＯ2）2ＮＬｉの混合物（特開平９−２７８８３１号公報、特開２００１−２８８３２５号公報：特許文献５，６）が提案されているが、耐擦傷性は不十分である。 Addition of various antistatic agents has been studied for the purpose of improving antistatic properties. Reaction product of polyether-modified silicone and lithium perchlorate (JP-A-5-320626: Patent Document 3), reaction product of polyfunctional acrylic and lithium perchlorate (Patent Document No. 3673590: Patent Document 4), A mixture of polyfunctional acrylate and (CF 3 SO 2 ) 2 NLi (JP-A-9-278831, JP-A-2001-288325: Patent Documents 5 and 6) has been proposed, but the scratch resistance is insufficient. It is.
そこで、耐擦傷性を改善する目的で、シリカ及びシラン加水分解物と（ＣＦ3ＳＯ2）2ＮＬｉの混合物（特開２００５−１４６１１０号公報、特開２００６−７０１２０号公報、特開２００８−２２２９５１号公報：特許文献７〜９）が提案されているが、溶剤を含有するものであった。 Therefore, for the purpose of improving the scratch resistance, a mixture of silica and silane hydrolyzate and (CF 3 SO 2 ) 2 NLi (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2005-146110, 2006-70120, 2008-222951). Publication: Patent Documents 7 to 9) have been proposed, but they contained a solvent.
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、保存安定性が良好で、透明性が高く、耐擦傷性、帯電防止性に優れた硬化皮膜を与える光硬化性樹脂組成物、及びその硬化皮膜を有する物品を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a photocurable resin composition that provides a cured film having good storage stability, high transparency, scratch resistance, and antistatic properties, and the cured film thereof. It aims at providing the article | item which has.
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、（１）平均粒子径が８０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子、（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物、（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物、（４）下記に示す脂肪族アミン系イオン性化合物、及び（５）ラジカル系光重合開始剤を含有し、実質的に溶剤を含有しないにもかかわらず、保存安定性が良好で、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下と塗布作業性に優れる光硬化性樹脂組成物を硬化させてなる皮膜が、支持基体に対して密着性が良好であり、透明性が高く、耐擦傷性、帯電防止性に優れることを見出し、本発明をなすに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has (1) inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 80 nm or less, (2) a compound containing three or more (meth) acryl groups, (3) a compound containing one or two (meth) acrylic groups, (4) an aliphatic amine-based ionic compound shown below, and (5) a radical photopolymerization initiator, which is substantially a solvent Even though it does not contain, a film formed by curing a photocurable resin composition having good storage stability and a viscosity at 25 ° C. of 500 mPa · s or less and excellent coating workability adheres to a supporting substrate. The present invention has been made by finding that it has good properties, high transparency, scratch resistance and antistatic properties.
従って、本発明は、下記に示す光硬化性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有する物品を提供する。
〔請求項１〕
（１）平均粒子径が８０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子、
（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物、
（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物、
（４）Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+ Ｘ-（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3、Ｃ6Ｈ13、Ｃ8Ｈ17から選択される基で、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。ＸはＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2、ＢＦ4、ＰＦ6から選択される基である。）で表されるイオン性化合物、
（５）ラジカル系光重合開始剤
を含有してなり、（１），（２），（３）成分の合計１００質量部中、（１）成分が２５〜７０質量部、（２）成分が２０〜７０質量部、（３）成分が５〜３０質量部であり、（１），（２），（３）成分の合計１００質量部に対して、（４）成分が０．０５〜３質量部、（５）成分が１〜８質量部であり、実質的に溶剤を含有せず、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
〔請求項２〕
（１）成分の平均粒子径が８０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子が、シリカ微粒子である請求項１記載の光硬化性樹脂組成物。
〔請求項３〕
シリカ微粒子が、（メタ）アクリル基を含有するシランカップリング剤で処理されたものである請求項２記載の光硬化性樹脂組成物。
〔請求項４〕
（１）成分が（２）成分及び／又は（３）成分に予め分散した混合物に（４），（５）成分を混合してなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性樹脂組成物。
〔請求項５〕
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化皮膜が形成されてなる物品。
Therefore, this invention provides the article which has the photocurable resin composition shown below and its cured film.
[Claim 1]
(1) inorganic oxide fine particles having an average particle size of 80 nm or less,
(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) a compound containing one or two (meth) acrylic groups,
(4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X − (R 1 , R 2 , R 3 , R 4 are CH 3 , C 2 H 5 , C 2 H 4 OCH 3 , C 6 H 13 , C 8 a group selected from H 17, each of the groups may be the same or different .X is a group selected from N (SO 2 CF 3) 2 , BF 4, PF 6.) Table Ionic compounds,
(5) It contains a radical photopolymerization initiator, and (1) component is 25 to 70 parts by mass and (2) component is 100 parts by mass in total of (1), (2) and (3) components. 20 to 70 parts by mass, (3) component is 5 to 30 parts by mass, and (4) component is 0.05 to 3 with respect to a total of 100 parts by mass of (1), (2) and (3) components. A photocurable resin composition characterized in that the component (5) is 1 to 8 parts by mass, contains substantially no solvent, and has a viscosity at 25 ° C. of 500 mPa · s or less.
[Claim 2]
(1) The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 80 nm or less are silica fine particles.
[Claim 3]
The photocurable resin composition according to claim 2, wherein the silica fine particles are treated with a silane coupling agent containing a (meth) acryl group.
[Claim 4]
The component (4) or (5) is mixed with a mixture in which the component (1) is dispersed in advance in the component (2) and / or the component (3). The photocurable resin composition described in 1.
[Claim 5]
The article | item formed by the cured film of the photocurable resin composition of any one of Claims 1-4.
本発明の光硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリル基含有化合物中に分散された無機酸化物微粒子に、イオン性化合物を混合することによって、無機酸化物微粒子とイオン性化合物の相乗効果により帯電防止性と分散安定性の両方の効果に寄与し、実質的に溶剤を配合しなくても、保存安定性が良好で、透明性が高く、耐磨耗性、帯電防止性に優れる皮膜が得られる。 The photo-curable resin composition of the present invention has a synergistic effect between the inorganic oxide fine particles and the ionic compound by mixing the ionic compound with the inorganic oxide fine particles dispersed in the (meth) acrylic group-containing compound. A film that contributes to both the antistatic properties and dispersion stability, and has good storage stability, high transparency, wear resistance, and antistatic properties, even when substantially no solvent is added. can get.
本発明の光硬化性樹脂組成物は、
（１）平均粒子径が８０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子、
（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物、
（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物、
（４）脂肪族アミン系イオン性化合物、
（５）ラジカル系光重合開始剤
を含有し、実質的に溶剤を含有せず、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下のものである。
The photocurable resin composition of the present invention is
(1) inorganic oxide fine particles having an average particle size of 80 nm or less,
(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) a compound containing one or two (meth) acrylic groups,
(4) Aliphatic amine ionic compounds,
(5) A radical photopolymerization initiator is contained, substantially no solvent is contained, and the viscosity at 25 ° C. is 500 mPa · s or less.
（１）無機酸化物微粒子
本発明の（１）無機酸化物微粒子は、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｅ、Ｆｅ等の酸化物微粒子、あるいはこれらの複合酸化物微粒子等が挙げられる。金属酸化物微粒子として、具体的には、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化セリウム等の微粒子が挙げられる。
(1) Inorganic oxide fine particles (1) Inorganic oxide fine particles of the present invention include, for example, oxide fine particles such as Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, Sb, Ce, and Fe, or a composite thereof. Examples thereof include fine oxide particles. Specific examples of the metal oxide fine particles include fine particles of silica, alumina, zirconia, titania, cerium oxide, and the like.
これらの無機酸化物微粒子の平均粒子径は８０ｎｍ以下であり、好ましくは５０ｎｍ以下である。８０ｎｍより大きいものを使用すると、安定性が悪くなり、皮膜に粒子状の異物が見られたり、透明性を損なってしまったりする。なお、その下限は、通常１０ｎｍ以上である。また、本発明において、平均粒子径は、動的光散乱光子相関法による粒度分布測定装置により測定できる。 The average particle diameter of these inorganic oxide fine particles is 80 nm or less, preferably 50 nm or less. If a material larger than 80 nm is used, the stability is deteriorated, and particulate foreign matter is seen in the film or the transparency is impaired. The lower limit is usually 10 nm or more. Moreover, in this invention, an average particle diameter can be measured with the particle size distribution measuring apparatus by a dynamic light-scattering photon correlation method.
特に好ましい無機酸化物微粒子としては、シリカ微粒子であり、平均粒子径が５０ｎｍ以下であればより好ましい。また、シリカ微粒子は、低屈折率等の効果が期待される中空、多孔質のものを使用してもよい。このような無機酸化物微粒子としては、市販品を使用することができ、例えば、ＥＬＥＣＯＭ ＳＴ−１００３ＳＩＶ（日揮触媒化成（株）製）等が挙げられる。 Particularly preferred inorganic oxide fine particles are silica fine particles, and the average particle size is more preferably 50 nm or less. Further, the silica fine particles may be hollow or porous which is expected to have an effect such as a low refractive index. As such inorganic oxide fine particles, commercially available products can be used, and examples thereof include ELECOM ST-1003SIV (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.).
シリカ微粒子の中でも、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物によって表面修飾されたものが好ましく用いられる。このような反応性シリカ微粒子は、組成物を硬化させる際の活性エネルギー線照射によって、架橋反応を起こし、ポリマーマトリックス中に固定される。 Among silica fine particles, those finely modified with a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group are preferably used. Such reactive silica fine particles undergo a crosslinking reaction by irradiation with active energy rays when the composition is cured, and are fixed in the polymer matrix.
ここで、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物としては、（メタ）アクリル基を含有するシランカップリング剤が挙げられ、具体的には、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルクロロシラン、γ−アクリロキシメチルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシメチルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシメチルトリクロロシラン、γ−アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシメチルメチルジクロロシラン、γ−アクリロキシメチルジメチルメトキシシラン、γ−アクリロキシメチルジメチルエトキシシラン、γ−アクリロキシメチルジメチルクロロシランが例示できる。
また、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物の表面修飾量は、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜８質量％、特に好ましくは１〜５質量％である。
Here, examples of the hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group include a silane coupling agent containing a (meth) acryl group, specifically, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ -Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrichlorosilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldichlorosilane, γ-methacryloxypropyldimethyl Methoxysilane, γ-methacryloxypropyldimethylethoxysilane, γ-methacryloxypropyldimethylchlorosilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-acrylic Xylpropyltrichlorosilane, gamma-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, gamma-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, gamma-acryloxypropylmethyldichlorosilane, gamma-acryloxypropyldimethylmethoxysilane, gamma-acryloxypropyldimethylethoxysilane Γ-acryloxypropyldimethylchlorosilane, γ-acryloxymethyltrimethoxysilane, γ-acryloxymethyltriethoxysilane, γ-acryloxymethyltrichlorosilane, γ-acryloxymethylmethyldimethoxysilane, γ-acryloxymethylmethyl Diethoxysilane, γ-acryloxymethylmethyldichlorosilane, γ-acryloxymethyldimethylmethoxysilane, γ-acryloxymethyldimethylethoxysilane, γ-actyl B carboxymethyl dimethylchlorosilane can be exemplified.
The surface modification amount of the hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 8% by mass, and particularly preferably 1 to 5% by mass. It is.
活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物による表面修飾の方法としては、シリカ微粒子存在下で活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物を加水分解する方法が挙げられるが、その際に副生する活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物の加水分解物は、保存安定性を悪化させる、もしくは、硬度を低下させる原因等になるので、それらを無くすようにしなければならない。 Examples of the surface modification method using a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group include a method of hydrolyzing a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group in the presence of silica fine particles. Hydrolyzate of hydrolyzable silane compounds having active energy ray reactive groups that are by-produced at the time may deteriorate storage stability or reduce hardness, etc. Don't be.
これら（１）無機酸化物微粒子を、後述する（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物や、（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物に、１次粒子のまま分散したものを使用することが好ましく、１次粒子で存在させることで、透明性等の外観が良好な皮膜を得ることができる。
具体的には、無機酸化物微粒子を、（メタ）アクリル基含有化合物中に分散剤や分散機器を用い、物理的に分散する方法や、無機酸化物微粒子が分散された溶液に（メタ）アクリル基含有化合物を添加した後、もともとの分散剤を留去する方法が挙げられる。
These (1) inorganic oxide fine particles are first converted into (2) a compound containing 3 or more (meth) acrylic groups described later and (3) a compound containing one or two (meth) acrylic groups. It is preferable to use those dispersed in the form of particles, and when present as primary particles, a film having good appearance such as transparency can be obtained.
Specifically, inorganic oxide fine particles are physically dispersed in a (meth) acrylic group-containing compound using a dispersant or a dispersing device, or (meth) acrylic is added to a solution in which inorganic oxide fine particles are dispersed. After adding a group containing compound, the method of distilling off the original dispersing agent is mentioned.
（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物
本発明の（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物は、（１）無機酸化物微粒子及び（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物と共に、硬化性成分の主成分となるものであり、硬化後に得られる皮膜のマトリックスを形成するものである。
（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物は、（１）成分の無機酸化物微粒子を分散すると共にバインダー成分であり、該化合物により、耐磨耗性に優れ、高硬度な硬化物が得られるものである。
(2) Compound containing 3 or more (meth) acryl groups The compound containing 3 or more (2) (meth) acryl groups of the present invention is composed of (1) inorganic oxide fine particles and (3) (meth) acrylic. Together with the compound containing one or two groups, it becomes the main component of the curable component, and forms a matrix of the film obtained after curing.
The compound containing three or more (meth) acrylic groups is a binder component that disperses the inorganic oxide fine particles of component (1), and this compound provides a cured product having excellent wear resistance and high hardness. It is what
（２）成分の（メタ）アクリル基含有化合物は、分子内に３つ以上の（メタ）アクリル基を有する化合物であり、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、メトキシレートペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシレートペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリアクリル化イソシアヌレート等が挙げられる。また、３官能以上のウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物等のポリマー成分も挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらの化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
The component (meth) acrylic group-containing compound (2) is a compound having three or more (meth) acrylic groups in the molecule. For example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate , Methoxylate pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethoxylate pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, triacrylation An isocyanurate etc. are mentioned. Moreover, although polymer components, such as a hydrolyzable condensate of the hydrolyzable silane compound which has trifunctional or more than urethane acrylate, polyester acrylate, and an active energy ray reactive group, are mentioned, it is not necessarily limited to these.
These compounds may use only 1 type and may use 2 or more types together.
（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物
本発明の（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物は、（１）無機酸化物微粒子及び（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物と共に、硬化性成分の主成分となるものであり、硬化後に得られる皮膜のマトリックスを形成するものである。
特に粘度を低下させるための成分であると共に、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂等との密着性を向上させるための成分である。
（３）成分は、粘度を低下させるためには、２５℃における粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下、特には５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。下限は特に制限されないが、通常１ｍＰａ・ｓ以上である。なお、粘度は回転粘度計により測定できる（以下、同じ）。
(3) Compound containing one or two (meth) acrylic groups (3) The compound containing one or two (meth) acrylic groups of the present invention comprises (1) inorganic oxide fine particles and (2) Together with a compound containing three or more (meth) acrylic groups, it becomes the main component of the curable component, and forms a matrix of the film obtained after curing.
In particular, it is a component for reducing the viscosity, and a component for improving the adhesion to polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, cyclic polyolefin resin, polyethylene terephthalate resin, triacetyl cellulose resin and the like.
In order to reduce the viscosity of the component (3), the viscosity at 25 ° C. is preferably 100 mPa · s or less, particularly 50 mPa · s or less. Although a minimum in particular is not restrict | limited, Usually, it is 1 mPa * s or more. The viscosity can be measured with a rotational viscometer (hereinafter the same).
この（メタ）アクリル基含有化合物は、特に密着性を向上させるためには、分子内に水酸基、エポキシ基等の官能基を有するものが好ましい。また、皮膚刺激性ＰＩＩ値が４．０以上のものが好ましい。なお、各化合物の皮膚刺激性ＰＩＩ値は、文献等により調べることができる。 This (meth) acrylic group-containing compound preferably has a functional group such as a hydroxyl group or an epoxy group in the molecule in order to improve the adhesion. Moreover, the skin irritation PII value is preferably 4.0 or more. In addition, the skin irritation PII value of each compound can be examined by literatures.
例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジアクリル化イソシアヌレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらの化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
For example, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diacrylated isocyanurate, ethylene Examples thereof include, but are not limited to, oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate.
These compounds may use only 1 type and may use 2 or more types together.
（１）成分の配合量は、（１）成分と（２）成分と（３）成分の合計１００質量部中、２５〜７０質量部、好ましくは３５〜６０質量部であり、（２）成分の配合量は、（１）成分と（２）成分と（３）成分の合計１００質量部中、２０〜７０質量部、好ましくは３０〜５５質量部であり、（３）成分の配合量は、（１）成分と（２）成分と（３）成分の合計１００質量部中、５〜３０質量部、好ましくは１０〜２０質量部である。
（１）成分と（２）成分と（３）成分の合計１００質量部中、（１）成分の配合量が２５質量部未満であると、硬度が低下し、十分な耐磨耗性が得られなくなり、７０質量部を超えると、皮膜の外観が悪くなる。また、（２）成分の配合量が２０質量部未満であると、分散安定性が悪く、皮膜外観を悪化させてしまい、７０質量部を超えると、硬度が低下する。（３）成分の配合量が５質量部未満であると、密着性が悪くなり、３０質量部を超えると、硬度が低下する。
(1) The compounding quantity of a component is 25-70 mass parts in the total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, Preferably it is 35-60 mass parts, (2) component The blending amount of (1) component, (2) component, and (3) component is 20 to 70 parts by weight, preferably 30 to 55 parts by weight, and the blending amount of (3) component is 100 parts by weight in total. , (1) Component, (2) Component, and (3) Component is 5 to 30 parts by mass, preferably 10 to 20 parts by mass, in total 100 parts by mass.
When the blending amount of the component (1) is less than 25 parts by mass in a total of 100 parts by mass of the component (1), the component (2) and the component (3), the hardness decreases and sufficient wear resistance is obtained. When it exceeds 70 parts by mass, the appearance of the film is deteriorated. Further, when the blending amount of the component (2) is less than 20 parts by mass, the dispersion stability is poor and the appearance of the film is deteriorated, and when it exceeds 70 parts by mass, the hardness decreases. (3) Adhesiveness will worsen if the compounding quantity of a component is less than 5 mass parts, and hardness will fall when it exceeds 30 mass parts.
（４）脂肪族アミン系イオン性化合物
本発明において、（４）Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+ Ｘ-（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3、Ｃ6Ｈ13、Ｃ8Ｈ17から選択される基で、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。ＸはＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2、ＢＦ4、ＰＦ6から選択される基である。）で表される脂肪族アミン系イオン性化合物は、相溶性及び溶解性が良好な帯電防止剤として使用される。また、分散性改善の効果があり、添加することで保存時の凝集や沈降が抑制でき、更に皮膜が白濁するのを防ぐことができる。
(4) Aliphatic amine ionic compound In the present invention, (4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X − (R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are CH 3 , C 2 H 5 , A group selected from C 2 H 4 OCH 3 , C 6 H 13 , and C 8 H 17 , and each group may be the same or different, and X is N (SO 2 CF 3 ) 2 or BF 4. The aliphatic amine ionic compound represented by PF 6 is used as an antistatic agent having good compatibility and solubility. Moreover, there exists an effect of a dispersibility improvement and it can suppress aggregation and sedimentation at the time of storage by adding, and can also prevent that a film | membrane becomes cloudy.
これらの中でも、常温（通常５〜４０℃、特に２５℃）で液体である脂肪族アミン系イオン性化合物が特に好ましい。 Among these, aliphatic amine ionic compounds that are liquid at room temperature (usually 5 to 40 ° C., particularly 25 ° C.) are particularly preferable.
ここで、Ｒ1〜Ｒ4は、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3、Ｃ6Ｈ13、Ｃ8Ｈ17から選択される基であり、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。また、ＸはＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2、ＢＦ4、ＰＦ6から選択される基である。 Here, R 1 to R 4 are groups selected from CH 3 , C 2 H 5 , C 2 H 4 OCH 3 , C 6 H 13 , and C 8 H 17 , and each group is the same. May be different. X is a group selected from N (SO 2 CF 3 ) 2 , BF 4 , and PF 6 .
Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+ Ｘ-で表される脂肪族アミン系イオン性化合物として、具体的には、下記のもの等が挙げられる。
（Ｃ2Ｈ5）4Ｎ+ＢＦ4 -、（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ+ＢＦ4 -、（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3）Ｎ+ＢＦ4 -、（ＣＨ3）3（Ｃ6Ｈ13）Ｎ+ＢＦ4 -、（ＣＨ3）（Ｃ8Ｈ17）3Ｎ+ＢＦ4 -、（Ｃ2Ｈ5）4Ｎ+ＰＦ6 -、（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ+ＰＦ6 -、（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3）Ｎ+ＰＦ6 -、（ＣＨ3）3（Ｃ6Ｈ13）Ｎ+ＰＦ6 -、（ＣＨ3）（Ｃ8Ｈ17）3Ｎ+ＰＦ6 -、（Ｃ2Ｈ5）4Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3）Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＨ3）3（Ｃ6Ｈ13）Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＨ3）（Ｃ8Ｈ17）3Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-
Specific examples of the aliphatic amine-based ionic compound represented by R 1 R 2 R 3 R 4 N + X − include the following.
(C 2 H 5 ) 4 N + BF 4 − , (CH 3 ) (C 2 H 5 ) 3 N + BF 4 − , (CH 3 ) (C 2 H 5 ) 2 (C 2 H 4 OCH 3 ) N + BF 4 − , (CH 3 ) 3 (C 6 H 13 ) N + BF 4 − , (CH 3 ) (C 8 H 17 ) 3 N + BF 4 − , (C 2 H 5 ) 4 N + PF 6 − , (CH 3 ) (C 2 H 5 ) 3 N + PF 6 − , (CH 3 ) (C 2 H 5 ) 2 (C 2 H 4 OCH 3 ) N + PF 6 − , (CH 3 ) 3 ( C 6 H 13 ) N + PF 6 − , (CH 3 ) (C 8 H 17 ) 3 N + PF 6 − , (C 2 H 5 ) 4 N + (CF 3 SO 2 ) 2 N − , (CH 3 ) (C 2 H 5 ) 3 N + (CF 3 SO 2 ) 2 N − , (CH 3 ) (C 2 H 5 ) 2 (C 2 H 4 OCH 3 ) N + (CF 3 SO 2 ) 2 N − (CH 3 ) 3 (C 6 H 13 ) N + (CF 3 SO 2 ) 2 N − , (CH 3 ) (C 8 H 17 ) 3 N + (CF 3 SO 2 ) 2 N −
上記イオン性化合物を用いた場合、硬化物の表面抵抗値が初期及び高温高湿時ともに１０12Ω以下となり、十分な埃付着防止効果が得られる。なお、本発明において、表面抵抗値は高抵抗抵抗率計により測定できる。 When the ionic compound is used, the surface resistance value of the cured product is 10 12 Ω or less both at the initial stage and at high temperature and high humidity, and a sufficient dust adhesion preventing effect can be obtained. In the present invention, the surface resistance value can be measured with a high resistance resistivity meter.
（４）成分の配合量は、（１）成分と（２）成分と（３）成分の合計１００質量部に対して０．０５〜３質量部であり、好ましくは０．１〜２．５質量部、特に好ましくは０．１〜２質量部である。配合量が少なすぎると、帯電防止効果が得られなくなり、更には安定性も悪くなる。配合量が多すぎると、硬度が低下する。 (4) The compounding quantity of a component is 0.05-3 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (1) component, (2) component, and (3) component, Preferably it is 0.1-2.5. Part by mass, particularly preferably 0.1 to 2 parts by mass. If the amount is too small, the antistatic effect cannot be obtained, and the stability is also deteriorated. When there are too many compounding quantities, hardness will fall.
（５）ラジカル系光重合開始剤
本発明の組成物には、（５）ラジカル系光重合開始剤が含有される。ラジカル系光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾイン系、アシルフォスフィンオキサイド系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから選択することができる。具体的には、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、チオキサントン誘導体、ベンゾインエチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アシルフォスフィンオキサイド誘導体、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルファイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく２種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらのうちでは、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルファイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンが、表面硬化性が良好である点から好ましい。
(5) Radical photopolymerization initiator The composition of the present invention contains (5) a radical photopolymerization initiator. The radical photopolymerization initiator can be selected from ordinary ones such as acetophenone, benzoin, acylphosphine oxide, benzophenone, and thioxanthone. Specifically, benzophenone, benzyl, Michler's ketone, thioxanthone derivative, benzoin ethyl ether, diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acylphosphine oxide derivative, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine, etc. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, hydroxydimethylacetophenone, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one, 4-benzoyl-4 '-Methyldiphenylsulfide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine are preferred from the viewpoint of good surface curability.
ラジカル系光重合開始剤の配合量は、（１）成分と（２）成分と（３）成分の合計１００質量部に対して１〜８質量部であり、好ましくは２〜６質量部である。配合量が少なすぎると硬化性が悪化し、多すぎると密着性が低下する。 The compounding amount of the radical photopolymerization initiator is 1 to 8 parts by mass, preferably 2 to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the component (1), the component (2) and the component (3). . If the blending amount is too small, the curability deteriorates, and if it is too large, the adhesion decreases.
本発明の光硬化性樹脂組成物には、更に必要に応じて、シランカップリング剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、表面張力低下剤などを本発明の目的を損なわない範囲で含んでいても差し支えないが、溶剤は実質的に含有しない。ここで、実質的に含有しないとは、組成物中３質量％以下、特に１質量％以下の割合で含有することは許容するということを意味する。 The photocurable resin composition of the present invention further includes a silane coupling agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifoaming agent, a leveling agent, and a surface tension reducing agent as necessary. Etc. may be included within the range not impairing the object of the present invention, but the solvent is not substantially contained. Here, “substantially not contained” means that it is allowed to be contained in a proportion of 3% by mass or less, particularly 1% by mass or less in the composition.
本発明の組成物は、上記各成分を常法に準じて均一に混合することにより得られるが、本発明においては、上記（１）成分を（２）成分あるいは（３）成分と予め混合し、これと、残りの成分とを混合することが望ましい。
更に、これらの組成物は２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下になるように調整する。好ましくは３００ｍＰａ・ｓ以下である。粘度が高すぎると、塗布作業性が悪化し、スジムラ等が発生しやすくなる。なお、本組成物の２５℃における粘度は１０ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。
The composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above components according to a conventional method. In the present invention, the above component (1) is previously mixed with the component (2) or the component (3). It is desirable to mix this with the remaining ingredients.
Furthermore, these compositions are adjusted so that the viscosity at 25 ° C. is 500 mPa · s or less. Preferably, it is 300 mPa · s or less. When the viscosity is too high, the coating workability is deteriorated, and unevenness or the like is likely to occur. In addition, it is preferable that the viscosity in 25 degreeC of this composition is 10 mPa * s or more.
本発明の光硬化性樹脂組成物は、表面に耐磨耗性、帯電防止性の付与が必要とされる物品、特に再生専用光ディスク、光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の光情報媒体の表面、より詳しくは、記録あるいは再生ビーム入射側表面や、光学レンズ、光学フィルター、反射防止膜、反射防止膜下層膜、及び液晶ディスプレー、ＣＲＴディスプレー、プラズマディスプレー、ＥＬディスプレー等の各種表示素子等の表面に塗布し、硬化皮膜とすることにより、これらの表面の耐擦傷性、防汚性を付与することができ、この硬化皮膜を有する物品は、耐擦傷性、耐磨耗性及び帯電防止性に優れるものとなり得る。 The photocurable resin composition of the present invention is a surface of an optical information medium such as a read-only optical disc, an optical recording disc, a magneto-optical recording disc, etc., which requires imparting abrasion resistance and antistatic properties to the surface. More specifically, the surface of the recording or reproducing beam incident side, the surface of various display elements such as an optical lens, an optical filter, an antireflection film, an antireflection film, and a liquid crystal display, a CRT display, a plasma display, an EL display, etc. By applying it to a cured film, it is possible to impart scratch resistance and antifouling properties to these surfaces. Articles having this cured film have excellent scratch resistance, abrasion resistance and antistatic properties. It can be excellent.
上記光硬化性樹脂組成物の皮膜を形成する方法としては、ロールコート法、スピンコート法等により皮膜を作製することができる。
形成された皮膜の膜厚は、０．１〜５０μｍ、特に０．５〜３０μｍの範囲にあることが好ましい。膜厚が薄すぎると耐磨耗性が低下する場合があり、また厚すぎると耐クラック性が低下する場合がある。
As a method of forming a film of the photocurable resin composition, the film can be prepared by a roll coating method, a spin coating method, or the like.
The film thickness of the formed film is preferably in the range of 0.1 to 50 μm, particularly 0.5 to 30 μm. If the film thickness is too thin, the wear resistance may decrease, and if it is too thick, the crack resistance may decrease.
光硬化性樹脂組成物を硬化させるための光源としては、通常、２００〜４５０ｎｍの範囲の波長の光を含む光源、例えば高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン灯、カーボンアーク灯等を使用することができる。照射量は特に制限されないが、１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2、特に２０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。硬化時間は、通常０．５秒〜２分、好ましくは１秒〜１分である。 As a light source for curing the photocurable resin composition, a light source containing light having a wavelength in the range of 200 to 450 nm, for example, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp or the like is usually used. can do. Although the irradiation amount is not particularly limited, 10~5,000mJ / cm 2, it is particularly preferably 20 to 1,000 mJ / cm 2. The curing time is usually 0.5 second to 2 minutes, preferably 1 second to 1 minute.
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記例において、粘度は回転粘度計により測定した値である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. In the following examples, the viscosity is a value measured with a rotational viscometer.
［実施例１］
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカが分散されたエトキシレートペンタエリスリトールテトラアクリレート（以下、Ｓ−ＰＥＴＴＡ；シリカ濃度５０質量％、シリカ粒子径３０ｎｍ）８０質量部、ヘキサンジオールジアクリレート（以下、ＨＤＯＤＡ、ＰＩＩ値５.５）２０質量部、（ＣＨ3）（Ｃ8Ｈ17）3Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-（以下、ＭＴＯＴＦＳＩ）０．２質量部、ダロキュアー１１７３（以下、Ｄ１１７３；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ラジカル系光重合開始剤、チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名）３質量部を混合し、２５℃における粘度が１８０ｍＰａ・ｓである光硬化性樹脂組成物を得た。この組成物をポリカーボネートに厚さ５μｍとなるように塗布し、８０Ｗ高圧水銀灯で光を２秒間照射し（積算照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）、硬化させ、透明な膜を得た。
[Example 1]
80 parts by mass of ethoxylate pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter referred to as S-PETTA; silica concentration 50% by mass, silica particle diameter 30 nm) in which γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane-treated silica is dispersed, hexanediol diacrylate (hereinafter HDODA) , PII value 5.5) 20 parts by mass, (CH 3 ) (C 8 H 17 ) 3 N + (CF 3 SO 2 ) 2 N − (hereinafter MTOTFSI) 0.2 parts by mass, Darocur 1173 (hereinafter D1173) 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, radical photopolymerization initiator, Ciba Specialty Chemicals, trade name) 3 parts by mass, and the viscosity at 25 ° C. is 180 mPa · s. A certain photocurable resin composition was obtained. This composition was applied to polycarbonate so as to have a thickness of 5 μm, and irradiated with light with an 80 W high-pressure mercury lamp for 2 seconds (integrated irradiation amount: 200 mJ / cm 2 ) and cured to obtain a transparent film.
得られた膜を用いて、下記に示す評価を行った。これらの結果を表１に示す。
保存安定性：
４０℃、１４日後に、沈降物があるかないかを目視判定し、下記基準で評価した。
○：沈降物なし
×：沈降物あり
The evaluation shown below was performed using the obtained film | membrane. These results are shown in Table 1.
Storage stability:
After 14 days at 40 ° C., the presence or absence of sediment was visually determined and evaluated according to the following criteria.
○: No sediment ×: There is sediment
皮膜透明性：
１００ｃｃのビーカーに入れて目視判定し、下記基準で評価した。
○：透明
△：わずかに白化
×：白化
Film transparency:
The sample was placed in a 100 cc beaker, visually judged, and evaluated according to the following criteria.
○: Transparent △: Slightly whitened ×: Whitened
耐擦傷性、耐磨耗性：
ＡＳＴＭ Ｄ １０４４に準拠し、テーバー磨耗試験機（磨耗輪ＣＳ−１０Ｆ使用）を用いて硬化皮膜の磨耗試験（５００ｇ荷重、１００回転）を行い、磨耗試験前後の硬化皮膜の濁度を、濁度計（ＮＤＨ２０００、日本電色工業製）を用いて測定し、磨耗試験後の濁度−磨耗試験前の濁度をΔＨａｚｅとした（ΔＨａｚｅは１５以下の場合に耐擦傷性、耐磨耗性が良好である）。
Scratch resistance, abrasion resistance:
In accordance with ASTM D 1044, the abrasion test (500 g load, 100 rotations) of the cured film is performed using a Taber abrasion tester (using a wear wheel CS-10F), and the turbidity of the cured film before and after the abrasion test is measured. Measured using a meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), turbidity after abrasion test-turbidity before abrasion test was ΔHaze (when ΔHaze is 15 or less, scratch resistance and abrasion resistance are Good).
表面抵抗値：
高抵抗抵抗率計（ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型、ダイアインスツルメント社製）を用い、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気下で測定した。
Surface resistance value:
Using a high resistance resistivity meter (Hiresta UP MCP-HT450 type, manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.), the measurement was performed in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH.
半減期：
帯電電荷減衰度測定器（スタチックオネストメーター、シシド静電気社製）を用い、２５℃、５０％ＲＨの雰囲気下で測定した。
Half-life:
The measurement was performed in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH using a charged charge decay rate measuring device (Static Honestometer, manufactured by Shishido electrostatic Co., Ltd.).
密着性：
碁盤目テープ剥離試験により下記基準で評価した。
○：異常なし
×：剥離箇所あり
Adhesion:
Evaluation was performed according to the following criteria by a cross-cut tape peeling test.
○: No abnormality ×: Peeled part
テーバー磨耗性試験では、ΔＨａｚｅは８と耐磨耗性も高かった。また、表面抵抗値は５×１０12Ωと低く、半減期も６０秒未満と短かった。 In the Taber abrasion test, ΔHaze was 8 and the abrasion resistance was also high. Further, the surface resistance was as low as 5 × 10 12 Ω, and the half-life was as short as less than 60 seconds.
［実施例２，３及び比較例１〜７］
同様に、下記表１，２に示すように配合を変えて膜を得、評価を行った。これらの結果を表１，２に示す。
[Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 to 7]
Similarly, as shown in Tables 1 and 2 below, films were obtained by changing the composition and evaluated. These results are shown in Tables 1 and 2.
Ｓ−ＰＥＴＴＡ：γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカが分散
されたエトキシレートペンタエリスリトールテトラアクリレート、
シリカ濃度５０質量％、シリカ粒子径３０ｎｍ
Ｓ−ＰＥＴＴＡ−２：γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカが分
散されたエトキシレートペンタエリスリトールテトラアクリレート、
シリカ濃度５０質量％、シリカ粒子径１２０ｎｍ
ＨＤＯＤＡ：ヘキサンジオールジアクリレート
ＴＨＦＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＭＴＯＴＦＳＩ：（ＣＨ3）（Ｃ8Ｈ17）3Ｎ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-
Ｄ１１７３：ダロキュアー１１７３、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名
ＰＧＭ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
S-PETTA: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane-treated silica is dispersed
Ethoxylate pentaerythritol tetraacrylate,
Silica concentration 50% by mass, silica particle diameter 30nm
S-PETTA-2: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane treated silica
Scattered ethoxylate pentaerythritol tetraacrylate,
Silica concentration 50% by mass, silica particle diameter 120nm
HDODA: hexanediol diacrylate THFFA: tetrahydrofurfuryl acrylate MTOTFSI: (CH 3 ) (C 8 H 17 ) 3 N + (CF 3 SO 2 ) 2 N −
D1173: Darocur 1173, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylprop
N-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., trade name PGM: propylene glycol monomethyl ether
Claims (5)
（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物、
（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物、
（４）Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+ Ｘ-（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｃ2Ｈ4ＯＣＨ3、Ｃ6Ｈ13、Ｃ8Ｈ17から選択される基で、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。ＸはＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2、ＢＦ4、ＰＦ6から選択される基である。）で表されるイオン性化合物、
（５）ラジカル系光重合開始剤
を含有してなり、（１），（２），（３）成分の合計１００質量部中、（１）成分が２５〜７０質量部、（２）成分が２０〜７０質量部、（３）成分が５〜３０質量部であり、（１），（２），（３）成分の合計１００質量部に対して、（４）成分が０．０５〜３質量部、（５）成分が１〜８質量部であり、実質的に溶剤を含有せず、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 (1) inorganic oxide fine particles having an average particle size of 80 nm or less,
(2) a compound containing three or more (meth) acryl groups,
(3) a compound containing one or two (meth) acrylic groups,
(4) R 1 R 2 R 3 R 4 N + X − (R 1 , R 2 , R 3 , R 4 are CH 3 , C 2 H 5 , C 2 H 4 OCH 3 , C 6 H 13 , C 8 a group selected from H 17, each of the groups may be the same or different .X is a group selected from N (SO 2 CF 3) 2 , BF 4, PF 6.) Table Ionic compounds,
(5) It contains a radical photopolymerization initiator, and (1) component is 25 to 70 parts by mass and (2) component is 100 parts by mass in total of (1), (2) and (3) components. 20 to 70 parts by mass, (3) component is 5 to 30 parts by mass, and (4) component is 0.05 to 3 with respect to a total of 100 parts by mass of (1), (2) and (3) components. A photocurable resin composition characterized in that the component (5) is 1 to 8 parts by mass, contains substantially no solvent, and has a viscosity at 25 ° C. of 500 mPa · s or less.
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