JP2010123638A - 搬送アームの位置調整方法及び搬送アームの調整治具並びにウェハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 搬送アームの位置を容易に調整することができる搬送アームの位置調整方法及び搬送アームの位置調整治具並びにウェハ搬送装置を提供する。
【解決手段】 複数のウェハ１が収納されたウェハカセット１０に、積層方向で隣り合うウェハ１の間に挿入されて、前記ウェハ１を搬送する搬送アーム２０の前記積層方向の位置を調整する搬送アームの位置調整方法であって、前記ウェハカセット１０の一側面に設けられた開口部１２を介して、前記ウェハ１の積層方向で隣合う２つのウェハ１の間に前記搬送アーム２０を挿入した状態で、当該２つのウェハ１の間隔以上の幅を有する光を前記ウェハ１及び前記搬送アーム２０に照射すると共に、前記開口部１２を介して前記２つのウェハ１と前記搬送アーム２０とで遮蔽された光を受光して、前記２つのウェハ１と前記搬送アーム２０との距離情報を取得し、該距離情報に基づいて前記２つのウェハ１に対する前記搬送アーム２０の位置を調整する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ウェハカセットのウェハを搬送する搬送アームの位置を調整する搬送アーム位置調整方法及びそれに用いる搬送アームの調整治具並びにウェハ搬送装置に関する。

半導体などに用いられるウェハは、ウェハカセット内に所定の間隔で複数毎積層されて収納されている。

そして、ウェハを処理する半導体処理装置などでは、搬送アームによってウェハカセットから外部に取り出しや外部からウェハカセット内への収納が行われる。

このウェハの取り出しや収納時などの搬送アームの移動時に、搬送アームの位置が適切ではないと、搬送アームがウェハの半導体素子が形成された表面に接触して、ウェハ表面に傷が生じたり、異物が付着してしまうという問題がある。

このため、ウェハカセット内面のウェハの積層方向の上部に距離センサを取り付け、距離センサによってウェハまでの距離と、搬送アームまでの距離とを取得することで、搬送アームを適切な位置に調整するものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００４−７２０６７号公報

しかしながら、特許文献１の構成では、ウェハカセットに距離センサを取り付けることから、従来のウェハカセットをそのまま利用することができず、センサの設けられた新たなウェハカセットを製造しなくてはならず、高コストになってしまうという問題がある。

特に半導体を量産する際など、複数のウェハカセットが必要になり、従来のウェハカセットが利用できないと高コストになってしまう。

本発明はこのような事情に鑑み、搬送アームの位置を容易に調整することができる搬送アームの位置調整方法及び搬送アームの位置調整治具並びにウェハ搬送装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決する本発明の態様は、複数のウェハが収納されたウェハカセットに、積層方向で隣り合うウェハの間に挿入されて、前記ウェハを搬送する搬送アームの前記積層方向の位置を調整する搬送アームの位置調整方法であって、前記ウェハカセットの一側面に設けられた開口部を介して、前記ウェハの積層方向で隣合う２つのウェハの間に前記搬送アームを挿入した状態で、当該２つのウェハの間隔以上の幅を有する光を前記ウェハ及び前記搬送アームに照射すると共に、前記開口部を介して前記２つのウェハと前記搬送アームとで遮蔽された光を受光して、前記２つのウェハと前記搬送アームとの距離情報を取得し、該距離情報に基づいて前記２つのウェハに対する前記搬送アームの位置を調整することを特徴とする搬送アームの位置調整方法にある。

かかる態様では、ウェハカセットの開口部を介してウェハカセットの外部から搬送アームとウェハとの距離を取得することができるため、搬送アームの位置調整を容易に且つ高精度に行うことができる。これにより、搬送アームや搬送するウェハが、他のウェハの表面に接触することによって発生するウェハ表面への傷や異物の付着を防止できる。また、ウェハカセットを改造することなく、従来のウェハカセットを利用することもできるため、コストを低減することができる。

ここで、前記搬送アームの挿入位置を挿入位置情報としてさらに取得することが好ましい。これによれば、搬送アームの挿入位置に関連したウェハとの距離を取得することができるため、搬送アームの傾斜を把握することができる。この搬送アームの傾斜に基づいて搬送アームの位置調整を行うことや、搬送アームの保守メンテナンス等を行うことができる。

また、前記位置情報の取得を、前記ウェハカセットの前記ウェハの積層方向の両端部側で行うことが好ましい。これによれば、ウェハカセットの寸法誤差を考慮して搬送アームの位置調整を行うことができ、さらに搬送アームの高精度な位置調整を行うことができる。

さらに、本発明の他の態様は、複数のウェハが収納されたウェハカセットに対して前記ウェハを搬送する搬送アームの位置調整に用いられる搬送アームの位置調整治具であって、前記ウェハカセットの外周に着脱自在に設けられた支持部と、該支持部に支持されて前記ウェハカセットの一側面に設けられた開口部の側面に設けられて、積層方向で隣り合う２つのウェハの間隔以上の幅を有する光を前記開口部の設けられた面方向に沿って照射する照射手段と、前記支持部に支持されて、前記ウェハカセットの前記照射手段とは前記開口部を挟んだ反対の側面に設けられて、前記照射手段が照射した光を受光すると共に撮像する撮像手段と、を具備することを特徴とする搬送アームの位置調整治具にある。

かかる態様では、ウェハカセットの開口部を介してウェハカセットの外部から搬送アームとウェハとの距離を取得することができるため、搬送アームの位置調整を容易に且つ高精度に行うことができる。これにより、搬送アームや搬送するウェハが、他のウェハの表面に接触することによって発生するウェハ表面への傷や異物の付着を防止できる。また、ウェハカセットを改造することなく、従来のウェハカセットを利用することもできるため、コストを低減することができる。

また、前記照射手段が、前記開口部の開口方向に向かって光を照射する照射部と、該照射部から照射された光を前記開口部が設けられた面方向に屈曲させる照射側鏡部と、を具備することが好ましい。これによれば、照射側鏡部によって光を屈曲させることで、照射手段がウェハカセットの側面から突出する突出量を最小限として、隣り合うウェハカセットの間に照射手段を配置可能とすることができる。

また、前記照射側鏡部が、前記照射部が照射した光を、鉛直方向で異なる少なくとも２つの光に分岐させることが好ましい。これによれば、一つの照射部からの光を２つに分岐させることができ、２箇所に光を照射して高精度な位置情報の取得を行える。また、放れた位置に光を照射することができるため、比較的小さな照射部を用いることができ、コストを低減することができる。

また、前記撮像手段が、前記開口部の開口方向に向かって撮像する撮像部と、前記照射手段によって前記開口部の設けられた面方向に沿って照射された光を前記撮像部の撮像方向に向かって屈曲させる撮像側鏡部と、を具備することが好ましい。これによれば、撮像側鏡部によって光を屈曲させることで、撮像手段がウェハカセットの側面から突出する突出量を最小限として、隣り合うウェハカセットの間に照射手段を配置可能とすることができる。

また、前記撮像側鏡部が、鉛直方向で異なる位置の光を一つの前記撮像部に集光するものであることが好ましい。これによれば、一つの撮像部で２箇所を同時に撮像することができるため、比較的小さな撮像部を用いることができ、コストを低減することができる。

また、前記支持部が、前記ウェハカセットの鉛直方向上側に、前記開口部が設けられた面の両側面に嵌合するように設けられていることが好ましい。これによれば、搬送アームの位置調整治具をウェハカセットに容易に着脱することができる。

また、前記支持部と前記ウェハカセットの上端面との間に、着脱自在に設けられたスペーサ部をさらに有することが好ましい。これによれば、スペーサの有無によって、ウェハカセットの所望の位置の撮像を行うことができると共に、厚さの異なる複数のスペーサを用意することで、撮像位置を容易に調整できる。

さらに、本発明の他の態様は、複数のウェハが収納されたウェハカセットが載置されるベース部と、前記ウェハカセットの一側面に設けられた開口部から挿入されて前記ウェハを搬送する搬送アームと、を具備するウェハ搬送装置であって、前記ベース部上の前記ウェハカセットの前記開口部の側面となる領域に設けられて、積層方向で隣り合う２つのウェハの間隔以上の幅を有する光を前記開口部の設けられた面方向に沿って照射する照射手段と、前記ベース部上の前記ウェハカセットの前記照射手段とは前記開口部を挟んだ反対の側面に設けられて、前記照射手段が照射した光を受光すると共に撮像する撮像手段と、を具備することを特徴とするウェハ搬送装置にある。

かかる態様では、ウェハカセットの開口部を介してウェハカセットの外部から搬送アームとウェハとの距離を取得することができるため、搬送アームの位置調整を容易に且つ高精度に行うことができる。これにより、搬送アームや搬送するウェハが、他のウェハの表面に接触することによって発生するウェハ表面への傷や異物の付着を防止できる。また、ウェハカセットを改造することなく、従来のウェハカセットを利用することもできるため、コストを低減することができる。

また、前記搬送アームを駆動する駆動手段をさらに具備すると共に、前記撮像手段が、前記２つのウェハと前記搬送アームとの距離情報を取得し、該距離情報に基づいて前記駆動手段を制御することにより、前記２つのウェハに対する前記搬送アームの位置を調整する制御手段をさらに具備することが好ましい。これによれば、制御手段によって搬送アームの位置調整を自動化することができる。

本発明は、ウェハカセットの開口部を介して外部から搬送アームの位置を取得して、搬送アームの位置を容易に且つ高精度に調整することができる。また、ウェハカセットを改造することなく、従来のウェハカセットを利用することもできるため、コストを低減することができる。

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。

（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係るウェハカセット及び搬送アームの位置調整治具の分解斜視図であり、図２は、搬送アームの位置調整治具をウェハカセットに装着した斜視図である。また、図３は、図２の上面図である。

まず、本実施形態のウェハカセットについて説明する。図１に示すように、ウェハカセット１０は、中空の筒形状を有し、内部に複数の凸部１１が高さ方向（鉛直方向）に櫛歯状となるように所定の間隔で設けられている。そして、この凸部１１上にウェハ１が載置されることで、ウェハカセット１０の内部には複数枚のウェハ１が所定の間隔で積層されて収納されている。

また、ウェハカセット１０の一側面には、開口部１２が設けられている。具体的には、この開口部１２は、ウェハカセット１０のウェハ１が収納される内部と外部とを連通するものであり、開口部１２は、複数のウェハ１に亘る高さで、且つウェハ１の外周よりも大きな幅で設けられている。ウェハ１は、この開口部１２を介してウェハカセット１０の内部への収納やウェハカセット１０から外部への取り出しが行われる。

ちなみに、本実施形態のウェハカセット１０に保持されるウェハ１としては、例えば、シリコンやヒ化ガリウムなどの半導体結晶を板状に加工したものなどが挙げられる。

また、ウェハカセット１０の開口部１２とは反対側の側面には、開口部１２と同じ高さを有するスリット１３が設けられている。このスリット１３は、ウェハ１の外周よりも幅狭に設けられており、ウェハ１がスリット１３を介して外部に突出したり、落下するのを防止している。なお、このようなスリット１３は、詳しくは後述する搬送アーム２０の位置を確認するためなどの目的で設けられているものであり、従来からウェハカセット１０に設けられているものである。

搬送アーム２０は、先端がウェハカセット１０の開口部１２から挿入されて、先端部の鉛直方向上側にウェハ１の底面を保持するものである。本実施形態では、搬送アーム２０の先端を板形状として、ウェハ１の底面に面接触するようにしているが、搬送アーム２０の形状はこれに限定されるものではなく、例えば、搬送アーム２０の先端がウェハ１の底面に点接触するようにしてもよい。このような搬送アーム２０は、例えば、図示しない駆動モータ等の駆動手段によって駆動されるようになっている。

このような搬送アーム２０は、図示しない駆動手段によって駆動されて、ウェハカセット１０の開口部１２を介してウェハ１の積層方向で隣り合う２つのウェハ１の間に挿入されて、鉛直方向上側に移動されることで、その上面にウェハ１の底面を当接させて保持する。この状態で、開口部１２からウェハ１を取り出す。これとは逆の手順で搬送アーム２０を移動させることで、ウェハカセット１０内にウェハ１を収納する。

ここで、このような搬送アーム２０の挿入位置を調整するための搬送アームの位置調整治具について詳細に説明する。

図１及び図２に示すように、搬送アームの位置調整治具３０は、ウェハカセット１０に着脱自在に保持される支持部３１と、支持部３１に固定された照射手段４０及び撮像手段５０と、を具備する。

支持部３１は、板状部材の両端を同一方向に直角に屈曲した形状、すなわち、コの字形状を有する。

支持部３１の屈曲された両端部の間の幅は、ウェハカセット１０の外周の幅よりも若干大きな形状となっており、支持部３１は、図２に示すように屈曲された両端部の間をウェハカセット１０の外周に鉛直方向上側から嵌合させることで、ウェハカセット１０の外周に固定される。このように固定された支持部３１は、鉛直方向に持ち上げることで、ウェハカセット１０から容易に取り外すことができる。このため、本実施形態では、支持部３１のウェハカセット１０の上端面とは反対側の面にハンドル３２を設けている。

また、支持部３１は、ウェハカセット１０の開口部１２及びスリット１３が設けられていない一対の側面側にその両端部が配置されるように、ウェハカセット１０に嵌合される。

このような支持部３１の両端部、すなわち、ウェハカセット１０の開口部１２を挟んだ両側面側には、それぞれ照射手段４０及び撮像手段５０が支持されている。

照射手段４０は、ウェハカセット１０に支持部３１を嵌合させた際に、ウェハカセット１０の側面に配置されて、ウェハカセット１０の開口部１２が設けられた面方向に沿って光を照射するものである。本実施形態の照射手段４０は、光を照射する照射部４１と、照射部４１が照射した光を屈曲させる照射側鏡部４２と、を具備する。

照射部４１は、電球や蛍光灯、発光ダイオード、半導体レーザなどの光源を有するものが挙げられるが、できるだけ直進性の高い光源であることが好ましいため、レーザ光を照射するもの好適である。本実施形態の照射部４１は、四角柱形状を有し、長手方向の一端部から光を照射するものである。

また、照射部４１は、ウェハ１の積層方向において２枚の隣り合うウェハ１の間隔よりも幅広の光を照射するものである。これは、詳しくは後述するが、２枚のウェハ１の間に搬送アーム２０を挿入した状態で、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離を測定するため、照射部４１が照射する光は、少なくとも２枚のウェハ１の間隔と同じ幅を有するものであればよい。ただし、照射部４１が照射する光の幅を２枚のウェハ１の間隔とほぼ同じにしてしまうと、２枚のウェハ１に対する光の照射位置の調整が煩雑になるため、照射部４１が照射する光は、積層方向において２枚のウェハ１の間隔よりも広い幅とするのが好適である。なお、照射部４１が照射する光の幅を、例えば、積層された全てのウェハ１に亘る大きさにすることで、搬送アーム２０を挿入する位置に制限がなくなるが、照射部４１や詳しくは後述する撮像部５１の素子が大型化してしまう。

このような照射部４１は、ウェハカセット１０の開口部１２が設けられた面の一方の側面に、開口部１２の開口方向（開口部１２の開口面とは直交する方向）に向かって光を照射可能な向きで取り付けられている。すなわち、照射部４１は、上述のように四角柱形状を有し、長手方向の一端部が光を照射するようになっているため、照射部４１の長手方向が、ウェハカセット１０の外周の側面に沿って設けられている。

照射手段４０の照射側鏡部４２は、照射部４１が照射した光を開口部１２の開口面方向に向かって、すなわち、開口部１２を横切る方向に屈曲させるものであり、照射部４１の照射方向に対して約４５度傾斜した状態で固定されている。このような照射側鏡部４２としては、例えば、鏡やプリズム（山稜鏡）などを用いることができる。

このような、照射手段４０では、四角柱形状を有する照射部４１を、その長手方向がウェハカセット１０の外周の側面に沿う向きで配置し、照射部４１の照射した光を照射側鏡部４２によって屈曲させて、照射部４１が照射した光がウェハカセット１０の開口部１２の直前を横切るようにしている。これにより、照射手段４０のウェハカセット１０の側面方向（開口部１２の開口面方向）に突出する幅を最小に留めている。

撮像手段５０は、ウェハカセット１０に支持部３１を嵌合させた際に、ウェハカセット１０の照射手段４０とは反対側の側面に配置されて、照射手段４０が照射した光を受光して、撮像するものである。本実施形態の撮像手段５０は、画像を撮像する撮像部５１と、照射手段４０が照射した光を撮像部５１に向かって屈曲する撮像側鏡部５２と、を具備する。

撮像部５１は、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子を具備し、照射手段４０が照射した光を撮像側鏡部５２を介して受光して画像を撮像するものである。この撮像部５１は、ウェハカセット１０の照射手段４０が設けられた側面とは反対側の側面に、開口部１２の開口方向に向かって撮像可能な向きで設けられている。なお、撮像部５１も照射部４１と同様に四角柱形状を有し、長手方向の一端部で撮像するようになっているため、撮像部５１の長手方向が、ウェハカセット１０の外周の側面に沿って設けられている。

撮像側鏡部５２は、開口部１２の照射側鏡部４２とは反対側に設けられて、照射側鏡部４２によって屈曲された光（開口部１２を横切った光）を、ウェハカセット１０の外周に沿って撮像部５１に向かって屈曲させるものであり、撮像部５１の撮像方向に対して約４５度傾斜した状態で取り付けられている。

このような、照射部４１及び撮像部５１は、例えば、高速・高精度デジタル寸法測定器（株式会社キーエンス製：製品名ＬＳ−７０７０Ｍ）のセンサを用いることができる。ちなみに、高速・高精度デジタル寸法測定器（株式会社キーエンス製：製品名ＬＳ−７０７０Ｍ）は、照射部４１と撮像部５１とを直接相対向させるように配置したものであり、支持部３１や、照射側鏡部４２及び撮像側鏡部５２などが設けられていない。

ちなみに、照射側鏡部４２及び撮像側鏡部５２は、それぞれ照射側角度調整つまみ４３及び撮像側角度調整つまみ５３によって光を屈曲させる角度が容易に調整可能となっている。

このような照射手段４０及び撮像手段５０は、本実施形態では、支持部３１をウェハカセット１０に嵌合させた際に、ウェハカセット１０の底面側（鉛直方向下端部側）の２枚のウェハ１に対応する両側に配置するように設けられている。すなわち、照射手段４０及び撮像手段５０の位置は、照射手段４０及び撮像手段５０の支持部３１への取付位置（支持部３１の屈曲された端部の長さ）によって調整できる。

また、本実施形態では、撮像部５１には、表示装置６０が接続されている。表示装置６０は、撮像部５１が撮像した画像を表示すると共に撮像部５１が撮像した画像を画像処理することで、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離情報を算出して、その距離を表示するものである。

このような搬送アームの位置調整治具３０を用いて、搬送アームの位置調整を行う方法について図２、図４及び図５を参照して説明する。なお、図４は、搬送アームの位置調整方法を示す上面図及び側面図であり、図５は表示装置を示す図である。

まず、図２に示すように、搬送アームの位置調整治具３０をウェハカセット１０の外周に嵌合させる。このとき、搬送アームの位置調整治具３０を、照射手段４０及び撮像手段５０がウェハカセット１０の開口部１２の両側の側面に配置される向きとする。

次に、図４（ａ）に示すように、ウェハ１を開口部１２から突出させると共に搬送アーム２０を２つのウェハ１の間に挿入した状態で、照射手段４０から光を照射させて、撮像手段５０によって受光させると共に撮像させる。

具体的には、照射部４１からから光を照射させて、照射側鏡部４２によって屈曲させることで、ウェハカセット１０の開口部１２の直前で光が横切るように照射する。このように照射された光は、撮像側鏡部５２によって撮像部５１に向かって屈曲させ、撮像部５１によって受光すると共に撮像させる。すなわち、照射手段４０から照射された光は、ウェハカセット１０の開口部１２が設けられた外周に沿って回り込むことで、撮像手段５０に受光される。

このとき、ウェハ１をウェハカセット１０の開口部１２から突出させることで、ウェハ１が光を遮断する。ウェハ１を開口部１２から突出させるには、例えば、上述のようにウェハカセット１０の開口部１２とは反対側に設けられたスリット１３を介して、ウェハ１を開口部１２側に押圧することで行うことができる。ちなみに、ウェハカセット１０にスリット１３が設けられていない場合には、ウェハカセット１０を開口部１２側が鉛直方向下側となるように傾斜させるなどによっても、ウェハ１を開口部１２から突出させることができる。

また、搬送アーム２０を測定する２枚のウェハ１の間、すなわち、照射手段４０から照射した光が通過するウェハ１の間に挿入する。これにより、照射手段４０から照射された光は、少なくとも２枚のウェハ１と、搬送アーム２０とによって一部が遮蔽される。

そして、撮像手段５０が、少なくとも２枚のウェハ１と搬送アーム２０とによって遮蔽された光を受光して画像を取得し、取得した画像を画像処理することで、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離（ウェハ１の積層方向の距離）を距離情報として表示装置６０に表示する（図５参照）。このとき、図４（ｂ）に示すように、撮像部５１は、照射部４１から照射された光の一部が２枚のウェハ１及び搬送アーム２０によって遮蔽された画像を取得するため、明暗によってウェハ１及び搬送アーム２０のエッジ位置を画像処理により高精度に取得して、高精度な距離情報を算出することができる。ちなみに、図５に示す例では、表示装置６０の表示部６１に、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との画像が表示され、表示部６２に搬送アーム２０と鉛直方向上側のウェハ１との距離情報が、表示部６３に搬送アーム２０と鉛直方向下側のウェハ１との距離情報が表示される。

このように、搬送アームの位置調整治具３０によって２つのウェハ１と搬送アーム２０との距離を把握することで、表示装置６０に表示された距離情報に基づいて２つのウェハ１に対する搬送アーム２０の位置を調整することができる。具体的には、本実施形態では、２つのウェハ１と搬送アーム２０との距離がウェハ１の積層方向において同じ距離となるように、すなわち、搬送アーム２０と鉛直方向上側のウェハ１との距離と、搬送アーム２０と鉛直方向下側のウェハ１との距離とが同じとなるように、搬送アーム２０を鉛直方向の上下に移動する。ちなみに、搬送アーム２０と鉛直方向上側のウェハ１との距離は、搬送アーム２０の表面と鉛直方向上側のウェハ１の底面との距離であり、搬送アーム２０と鉛直方向下側のウェハ１の距離は、搬送アーム２０の底面と鉛直方向下側のウェハ１の表面との距離となる。したがって、本実施形態では、搬送アーム２０を２つのウェハ１の中間位置となるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、ウェハ１の半導体素子が形成される表面が鉛直方向上側を向いている場合には、搬送アーム２０と鉛直方向下側のウェハ１との距離が、搬送アーム２０と鉛直方向上側のウェハ１との距離に比べて大きくなるように搬送アーム２０の位置を調整してもよい。すなわち、形成される半導体素子の大きさなどに応じて、搬送アーム２０の位置は適宜調整してもよい。

このように、搬送アームの位置調整治具３０によって、搬送アーム２０の位置を調整することで、搬送アーム２０によってウェハ１の取り出し及び収納を行った際に、搬送アーム２０がウェハ１の表面に接触するのを防止することができる。なお、ウェハカセット１０に収納された各ウェハ１の間隔は、凸部１１のピッチによって規定されているため、任意の２枚のウェハ１の間で搬送アーム２０の位置決めを行うことで、搬送アーム２０を規定された２つのウェハ１の間隔に基づいて制御すればよい。すなわち、全てのウェハ１の間で搬送アーム２０の位置調整を行わなくても、任意の２枚のウェハ１の間で搬送アーム２０の位置調整を行うだけで、全てのウェハ１の取り出し及び収納時に搬送アーム２０や搬送するウェハ１が、他のウェハ１に接触するのを防止できる。

ここで、６名の作業者に搬送アーム２０の位置調整を目視により行わせた。すなわち、搬送アーム２０をウェハカセット１０に収納された２枚のウェハ１の間に挿入し、搬送アーム２０とウェハ１との距離をスリット１３を介して直接目視しながら、搬送アーム２０が２枚のウェハ１の中間位置となるように調整させた。このときの２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離を下記表１に示す。なお、この試験では、ウェハ１の厚さが０．７ｍｍ、ウェハカセット１０の２枚のウェハ１の間隔（上ウェハ１の裏面と下ウェハ１の表面との距離）が６．７ｍｍ、搬送アーム２０の厚さが３．１ｍｍ、のものを用いたが、これらの数値は本試験で用いた一例に過ぎず、これらの数値は特に限定されるものではない。

本試験では、搬送アームが２枚のウェハ１から同じ距離（中間）となる上隙間及び下隙間は、｛２枚のウェハ１の間隔（６．７）−搬送アーム２０の厚さ（３．１）｝／２＝１．８ｍｍであるが、表１に示すように、６名の作業者で、上隙間（搬送アーム２０と鉛直方向上側のウェハ１との距離）と、下隙間（搬送アーム２０と鉛直方向下側のウェハ１との距離）とに、ばらつきが生じていることが分かる。このばらつきは、経験の異なる作業者の間で生じるものであると共に、同一の作業者が繰り返し行ったとしても、そのときの体調などによって生じるものであると考えられる。

これに対して、上述した実施形態１の搬送アームの位置調整治具３０を用いれば、搬送アーム２０と上下ウェハ１との距離（上隙間及び下隙間）を数値化できるため、作業者の習熟度や、体調、環境などの変化に拘わらず、搬送アーム２０を上下ウェハ１の中間などの所望の位置に調整することが可能である。ちなみに、表１の上隙間、下隙間及び搬送アーム２０の厚さの合計が、６．７ｍｍとならない場合もあるが、これは測定誤差（０．０２以下）であり、上隙間及び下隙間にばらつきが生じていることは明確である。

また、搬送アームの位置調整治具３０をウェハカセット１０に着脱自在とすることで、複数のウェハカセット１０に同様の治具を設ける必要がなく、１つの搬送アームの位置調整治具３０で複数のウェハカセット１０に対する搬送アーム２０の位置調整を行うことができる。また、搬送アームの位置調整治具３０をウェハカセット１０に着脱自在にすることで、従来のウェハカセット１０を利用することができるため、センサ等を設けた新たなウェハカセットを製造する必要がなく、コストを低減することができる。

さらに、本実施形態の搬送アームの位置調整治具３０は、照射手段４０及び撮像手段５０のそれぞれに照射側鏡部４２及び撮像側鏡部５２を設けることで、照射部４１及び撮像部５１の長手方向がウェハカセット１０の側面に沿って配置することができる。したがって、照射手段４０及び撮像手段５０のウェハカセット１０の側面からの突出量を最小限に留めることができ、例えば、ウェハカセット１０の側面に隙間を設け難い半導体処理装置に用いられるウェハ搬送装置においても、本実施形態の搬送アームの位置調整治具３０を用いることができる。すなわち、例えば、ウェハ搬送装置などのベース部上に複数のウェハカセット１０を載置する際に、幅広の治具を用いるためには、隣り合うウェハカセット１０の間隔を広げなくてはならず、装置自体の設計変更が必要になると共に、同時に扱えるウェハカセット１０の量が減って、作業効率が低下してしまうという不具合が生じる。これに対して、上述のように本実施形態の搬送アームの位置調整治具３０であれば、従来のウェハ搬送装置を変更することなく利用することができ、コストを低減することができると共に、同時に扱えるウェハカセット１０の数を減少させることなく、作業効率が低下するのを防止できる。

また、本実施形態では、表示装置６０を設け、表示装置６０の表示部６１にウェハ１と搬送アーム２０との画像を表示することで、搬送アーム２０の開口部１２からの挿入位置を把握することができる。これにより、搬送アーム２０の挿入量の違いによる２つのウェハ１と搬送アーム２０との距離の変化量を取得することができ、搬送アーム２０の鉛直方向の傾きを把握することができる。例えば、搬送アーム２０の先端が鉛直方向下側に傾斜していた場合、搬送アーム２０の挿入量が小さく、搬送アーム２０の先端側が測定されて２つのウェハ１と搬送アーム２０との距離が同じ距離となったとしても、搬送アーム２０の挿入量が大きくなる（搬送アーム２０が深く挿入される）にしたがって、搬送アーム２０の根元側が測定されて搬送アーム２０の鉛直方向上側のウェハ１との距離が徐々に大きく、搬送アーム２０の鉛直方向下側のウェハ１との距離が徐々に小さくなる。また、搬送アーム２０の先端が鉛直方向上側に傾斜していた場合、これとは逆に、搬送アーム２０を挿入するにしたがって、搬送アーム２０の鉛直方向上側のウェハ１との距離が徐々に小さく、搬送アーム２０の鉛直方向下側のウェハ１との距離が徐々に大きくなる。このように、搬送アーム２０の挿入位置による２つのウェハ１と搬送アーム２０と距離の変化を把握することによって、搬送アーム２０の傾きを取得することができる。この搬送アーム２０の傾きを取得することで、搬送アーム２０の位置（２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離）を搬送アームの傾きを考慮して調整することができる。もちろん、搬送アーム２０の傾きの閾値を設定し、搬送アーム２０の傾きが閾値以上となった場合には、搬送アーム２０を駆動する駆動手段の調整を行うなどの対応をすることも可能である。

なお、本実施形態では、ウェハカセット１０の底面側の２枚のウェハ１の間に搬送アーム２０を挿入して、搬送アーム２０の位置調整を行うようにしたが、本実施形態の搬送アームの位置調整治具３０は、ウェハカセット１０の上端部に嵌合するように設けられているため、例えば、図６に示すように、ウェハカセット１０の上端面に所望の厚さのスペーサ７０を設けることで、照射手段４０から照射される光をウェハカセット１０の任意のウェハ１に対して行うことができる。すなわち、スペーサ７０として比較的厚いものを用いれば、ウェハカセット１０の鉛直方向上端部側の２枚のウェハ１に対して搬送アーム２０の位置調整を行うことができる。このようにスペーサ７０の厚さを調整することで、ウェハカセット１０の任意の位置の２枚のウェハ１に対して搬送アーム２０の位置調整を行うことができる。もちろん、スペーサ７０に代わって、支持部３１の屈曲された端部を伸縮自在に設けることや、支持部３１への照射手段４０及び撮像手段５０の取り付け位置を変更可能とすることなどでも、ウェハカセット１０の任意の位置の２枚のウェハ１において、搬送アーム２０の位置調整を行うことができる。このように、搬送アームの位置調整治具３０をウェハカセット１０に着脱自在とすることで、所望のウェハ１に対して搬送アーム２０の位置を調整することができるため、ウェハカセット１０の鉛直方向上側のウェハ１から処理を行う半導体処理装置などにも容易に対応することができる。

また、上述した実施形態１では、照射手段４０から照射される光を、ウェハカセット１０に収納された全てのウェハ１の積層方向の幅よりも幅狭としたが、特にこれに限定されず、例えば、ウェハカセット１０に収納された全てのウェハ１の積層方向の幅と同じ幅以上の光を照射して、撮像手段５０がこの幅で撮像するようにすれば、スペーサ７０等が不要となることは言うまでもない。

（実施形態２）
図７は、本発明の実施形態２に係るウェハカセットと搬送アームの位置調整治具の概略構成を示す斜視図であり、図８は、図７の正面図である。なお、上述した実施形態１と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。

図７に示すように、実施形態２の搬送アームの位置調整治具３０Ａは、支持部３１と、照射手段４０Ａと、撮像手段５０Ａと、表示装置６０とを具備する。

支持部３１は、上述した実施形態１と同様に、ウェハカセット１０の鉛直方向上側に嵌合する。

照射手段４０Ａは、照射部４１Ａと、照射側鏡部４２Ａとを具備する。照射部４１Ａは、積層方向で隣り合う２枚のウェハ１の間の間隔の２倍以上の幅の光を照射するものである。なお、照射部４１Ａが照射する光の幅は、上述した実施形態１と同様に、ウェハ１間の間隔の２倍だと位置決めが困難であるため、実質的にはウェハ１の間隔の２倍よりも大きくするのが好ましい。

照射側鏡部４２Ａは、第１照射側鏡部４４、第２照射側鏡部４５、第３照射側鏡部４６及び第４照射側鏡部４７で構成されている。

第１照射側鏡部４４は、照射部４１Ａが照射した光の一部、本実施形態では、光の鉛直方向下側の約半分の長さを有する。第１照射側鏡部４４は、上述した実施形態１の照射側鏡部４２と同様に、開口部１２の設けられた面方向に向かって照射部４１Ａから照射された光の一部（鉛直方向下半分）を屈曲させるように、光の照射方向に対して開口部１２側に約４５度の傾斜で設けられている。

第２照射側鏡部４５は、第１照射側鏡部４４よりも照射方向にずれた位置に設けられて、且つ第１照射側鏡部４４の鉛直方向上側に設けられており、第１照射側鏡部４４が屈曲した光以外の光、本実施形態では、光の鉛直方向上側の約半分の光を、鉛直方向上側に向かって屈曲させるものである。すなわち、第２照射側鏡部４５は、光の照射方向に対して鉛直方向上向きに４５度の傾斜で設けられている。

第３照射側鏡部４６は、開口部１２の鉛直方向上方の側面に設けられて、第２照射側鏡部４５が屈曲した光を、照射部４１Ａの照射方向とは反対方向に向かって屈曲させるものである。すなわち、第３照射側鏡部４６は、鉛直方向下向きに４５度の傾斜で設けられている。

第４照射側鏡部４７は、第１照射側鏡部４４の鉛直方向上側に設けられて、第３照射側鏡部４６が屈曲した光を、開口部１２の設けられた面方向に向かって屈曲させるように、開口部１２の開口方向に対して４５度の傾斜で設けられている。

そして、図８に示すように、照射部４１Ａが照射した光の一部は、第１照射側鏡部４４によって開口部１２の鉛直方向下側で開口部１２を水平方向に横断するように照射される（図８に示すＡ）。また、照射部４１Ａが照射した光の一部は、第２照射側鏡部４５によって開口部１２の鉛直方向上側に屈曲され、第３照射側鏡部４６及び第４照射側鏡部４７によって、開口部１２の鉛直方向上側で開口部１２を水平方向に横断するように照射される（図８に示すＢ）。

すなわち、照射部４１Ａが照射した光は、第１照射側鏡部４４と第２照射側鏡部４５とで２つに分けられて、２つに分けられた光は開口部１２の鉛直方向上下で、それぞれ開口部１２を水平方向に横断するように照射される。

撮像手段５０Ａは、撮像部５１Ａと、撮像側鏡部５２Ａとを具備する。撮像部５１Ａは、照射部４１Ａの照射する光の幅の画像を撮像できるものである。

撮像側鏡部５２Ａは、第１撮像側鏡部５４、第２撮像側鏡部５５、第３撮像側鏡部５６及び第４撮像側鏡部５７を有する。これら第１撮像側鏡部５４、第２撮像側鏡部５５、第３撮像側鏡部５６及び第４撮像側鏡部５７は、それぞれ第１照射側鏡部４４、第２照射側鏡部４５、第３照射側鏡部４６及び第４照射側鏡部４７に対応して設けられたものであり、その長さ及び傾きは、第１〜第４照射側鏡部４４〜４７に対応して設けられている。

このような照射手段４０Ａ及び撮像手段５０Ａは、ウェハカセット１０のウェハ１の積層方向において、異なる位置に光を分岐して照射して、分岐された光を集光して撮像することができるように設けられている。本実施形態の搬送アームの位置調整治具３０Ａでは、ウェハカセット１０に収納された複数のウェハ１の鉛直方向上下端のウェハ１において、搬送アーム２０の位置調整を行うことができる。これにより、半導体処理装置などのウェハ搬送装置おいて、ウェハ１をウェハカセット１０の底面側から取り出す装置であっても、ウェハ１をウェハカセット１０の上面側から取り出す装置であっても、一つの搬送アームの位置調整治具３０Ａで対応することができる。

また、搬送アームの位置調整を、ウェハカセット１０の上下両側で行うことで、ウェハカセット１０の寸法誤差などを考慮した搬送アーム２０の位置調整を行うことができる。これは、すなわち、搬送アーム２０の位置調整をウェハカセット１０の底面側のウェハ１で行った場合、ウェハカセット１０の寸法誤差によって、ウェハカセット１０の上面側で搬送アーム２０を出し入れした際に、２枚のウェハ１の中間位置ではなく、どちらか一方に偏ってしまう。このため、ウェハカセット１０の底面側で搬送アーム２０の位置調整を行った後、搬送アーム２０をウェハカセット１０の上面側に移動して、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離を測定し、この距離の１／２だけ搬送アーム２０を移動すれば、ウェハカセット１０の上面及び底面において、搬送アーム２０とウェハ１との位置の誤差が平均化される。もちろん、ウェハカセット１０の底面側で搬送アーム２０の位置調整を行い、ウェハカセット１０の上面側で測定した搬送アーム２０と２枚のウェハ１との距離の誤差を、搬送アーム２０を移動させる駆動手段等で調整するようにしてもよい。

このような搬送アームの位置調整治具３０Ａによれば、照射部４１Ａ及び撮像部５１Ａの光の照射幅及び撮像幅が、実施形態１に比べて若干幅広なものの、全てのウェハ１に亘る幅の光を照射して撮像する場合に比べて、低価格な光源や撮像素子等を用いることができ、コストを低減することができる。

（実施形態３）
図９は、本発明の実施形態３に係るウェハ搬送装置の概略構成を示す斜視図である。なお、上述した実施形態と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。

図９に示すように、実施形態３のウェハ搬送装置１００は、ウェハカセット１０が載置されるベース部８０と、ウェハカセット１０のウェハ１を搬送する搬送アーム２０と、搬送アーム２０を駆動する駆動手段２１と、ベース部８０上に設けられた照射手段４０及び撮像手段５０とを具備する。

ベース部８０は、平坦な上面にウェハカセット１０が単数又は複数載置されるものである。

搬送アーム２０は、上述した実施形態１と同様に、板状部材からなる。また、搬送アーム２０は、駆動モータ等の駆動手段２１によってウェハカセット１０の開口部１２への挿入方向及びウェハ１の積層方向（本実施形態では鉛直方向）に移動自在に設けられている。また、ベース部８０に複数のウェハカセット１０が載置される場合には、駆動手段２１とベース部８０とが、ウェハカセット１０の並設方向に相対的に移動するようにしてもよい。

照射手段４０及び撮像手段５０は、ベース部８０上にウェハカセット１０が載置された際に、ウェハカセット１０の開口部１２の両側面となる位置にそれぞれ配置されている。

このような照射手段４０及び撮像手段５０としては、上述した実施形態１と同様の構成のものを用いることができる。もちろん、本実施形態においても、上述した実施形態２と同様の照射手段４０Ａ及び撮像手段５０Ａを用いることもできる。

また、撮像手段５０には、上述した実施形態１と同様に表示装置６０が接続されている。

なお、ウェハ搬送装置１００には、特に図示していないが、駆動手段２１を制御してウェハ１の搬送を制御する制御手段が設けられている。この制御手段は、表示装置６０と接続することで、搬送アーム２０の動作と距離情報の取得とを連動させることもできる。

このようなウェハ搬送装置１００では、ベース部８０上の照射手段４０と撮像手段５０との間にウェハカセット１０を載置して、搬送アーム２０を２つのウェハ１の間に挿入するだけで、照射手段４０及び撮像手段５０によって２枚のウェハ１に対する搬送アーム２０の位置（距離情報）を取得することができる。そして、距離情報に基づいて搬送アーム２０を駆動する駆動手段２１を制御すれば、搬送アーム２０の位置を調整することができる。このため、例えば、図示しない制御部によって、搬送アーム２０の駆動、照射手段４０及び撮像手段５０による距離情報の取得、並びに搬送アーム２０の２つのウェハ１に対する位置調整を全て自動化することもできる。

もちろん、上述した搬送アームの位置調整治具３０のように、表示装置６０に表示された距離情報に基づいて搬送アーム２０の位置調整を手動又は半自動などにより行うようにしてもよい。

また、本実施形態では特に図示していないが、例えば、ベース部８０上に載置されたウェハカセット１０において、スリット１３を介してウェハ１を開口部１２から突出させる押圧手段等を設けるようにしてもよい。このような押圧手段を設けることにより、完全な自動化を行うこともできる。また、詳しくは後述する実施形態４の調整用スリットが設けられたウェハカセット、すなわち、ウェハ１を開口部１２から突出させずに調整用スリットを介して光を照射及び撮像して２枚のウェハ１に対する搬送アーム２０の距離を取得可能なウェハカセットを用いる場合には、押圧手段を設けなくても完全な自動化が可能である。

このようなウェハ搬送装置１００では、上述した実施形態１と同様に、照射側鏡部４２を有する照射手段４０及び撮像側鏡部５２を有する撮像手段５０を設けたため、ベース部８０上に載置される２つのウェハカセット１０の間が狭くても、照射手段４０及び撮像手段５０を配置することができる。すなわち、例えば、ベース部８０上に複数のウェハカセット１０を載置する際に、幅広の照射手段及び撮像手段を用いるためには、隣り合うウェハカセット１０の間隔を広げなくてはならず、装置自体の設計変更が必要になると共に、同時に扱えるウェハカセット１０の量が減って、作業効率が低下してしまうという不具合が生じる。これに対して、上述のように本実施形態の照射手段４０及び撮像手段５０であれば、従来のウェハ搬送装置を変更することなくベース部上に配置することができ、コストを低減することができると共に、同時に扱えるウェハカセット１０の数を減少させることなく、作業効率が低下するのを防止できる。

もちろん、このような本実施形態のウェハ搬送装置１００は、ウェハ１に半導体素子を形成する半導体処理装置に組み込むこともできる。

（実施形態４）
図１０は、本発明の実施形態４に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の概略斜視図であり、図１１は、図１０の断面図である。なお、上述した実施形態１と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。

図示するように、本実施形態のウェハカセット１０Ａは、内部に複数の凸部１１と、一側面に開口する開口部１２とが設けられている。また、ウェハカセット１０Ａの開口部１２が設けられた面の両側面には、相対向する一対の調整用スリット１４が設けられている。

このようなウェハカセット１０Ａに、上述した実施形態１と同様の搬送アームの位置調整治具３０を装着する。このとき、照射手段４０が照射した光が２つの調整用スリット１４を通過し、撮像手段５０が調整用スリット１４を通過した光を受光して撮像できるように配置する。もちろん、本実施形態のウェハカセット１０Ａには、実施形態２の搬送アームの位置調整治具３０Ａを用いることもできる。

このようなウェハカセット１０Ａでは、搬送アーム２０の位置調整を行う際に、開口部１２からウェハ１を突出させることなく、ウェハカセット１０Ａに搬送アームの位置調整治具３０を装着した状態で、搬送アーム２０を開口部１２から挿入するだけで、２枚のウェハ１に対する搬送アーム２０の位置を取得することができる。

このため、スリット１３からウェハ１を押圧して開口部１２からウェハ１を突出させる工程や、ウェハ１を元に戻す工程が不要となって、調整を容易に且つ短時間で行うことができる。また、凸部１１上でウェハ１を移動させることがないため、ウェハ１の破壊や異物の付着などを低減することができる。

もちろん、ウェハカセット１０Ａの調整用スリット１４の位置は、開口部１２側又はスリット１３側の何れかに偏っていてもよい。ちなみに、従来から存在するスリット１３（実施形態１のウェハカセット１０のスリット１３）を調整用スリット１４と利用してもよいが、搬送アーム２０をスリット１４に達するまで挿入しなくてはならず、また、搬送アーム２０の傾きを取得することができないため、調整用スリット１４は開口部１２側に設けるのが好適である。

また、照射側鏡部４２及び撮像側鏡部５２を複数設け、調整用スリット１４を開口部１２側と、開口部１２とは反対側（スリット１３と兼用も可能）とに設け、搬送アーム２０を開口部１２とは反対側の調整用スリット１４に達するまで挿入するだけで、照射手段４０及び撮像手段５０によって搬送アーム２０の傾きを取得するようにしてもよい。

（他の実施形態）
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。

例えば、上述した実施形態１〜４では、照射手段４０、４０Ａ及び撮像手段５０、５０Ａによって、少なくとも２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離を取得するようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、図１２に示すように、ウェハカセット１０Ｂの開口部１２の開口縁部を切り欠くことによって、ウェハカセット１０Ｂの凸部１１を側面から撮像可能な場合には、２枚のウェハ１ではなく、２つの凸部１１と搬送アーム２０との距離を取得して搬送アーム２０の位置調整を行うようにしてもよい。すなわち、２つの凸部１１と搬送アーム２０との距離は、ウェハ１の厚さを加算すれば実質的に２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離と同じになる。このため、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離情報とは、ウェハ１と同等のウェハカセット１０Ｂの凸部１１と搬送アーム２０との距離情報も含むものである。このように、２つの凸部１１とウェハ１とを照射、計測することにより、搬送アーム２０によるウェハ１の搬送時に、ウェハ１が上下凸部１１に摺接させないように調整することが可能となる。また、ウェハ１が上下凸部１１に摺接することで、搬送アーム２０上の任意の位置からウェハ１が移動することを防止して、搬送精度を向上することができる。さらに、ウェハ１が上下凸部１１に摺接することで削られるゴミの発生を防止して、半導体素子に異物が付着するのを確実に防止することができる。

また、上述した実施形態１〜４では、搬送アームの位置調整治具３０、３０Ａ及びウェハ搬送装置１００に表示装置６０を設けるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、表示装置６０に代わって、２枚のウェハ１と搬送アーム２０との距離が異なる距離となった場合に警報音を鳴らして作業者に知らせるなどの警報装置等を設けるようにしてもよい。もちろん、搬送アーム２０の位置調整を自動化する場合には、表示装置６０や警報装置などの作業者に距離情報を伝える手段は不要となる。

ウェハカセットのウェハを搬送する搬送アームの位置を調整する方法（サービス）、治具、装置などの産業分野で利用することができる。

本発明の実施形態１に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の概略構成を示す分解斜視図である。 本発明の実施形態１に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の概略構成を示す組み立て斜視図である。 本発明の実施形態１に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の上面図である。 本発明の実施形態１に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の上面図及び側面図である。 本発明の実施形態１に係る表示装置の平面図である。 本発明の実施形態１に係るウェハカセット、搬送アームの位置調整治具の他の例を示す斜視図である。 本発明の実施形態２に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の概略構成を示す組み立て斜視図である。 本発明の実施形態２に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の正面図である。 本発明の実施形態３に係るウェハ搬送装置の概略構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態４に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の概略構成を示す組み立て斜視図である。 本発明の実施形態４に係るウェハカセット、搬送アーム及び位置調整治具の断面図である。 本発明の他の実施形態に係るウェハカセットの断面図である。

符号の説明

１ ウェハ
１０、１０Ａ、１０Ｂ ウェハカセット
１２ 開口部
２０ 搬送アーム
２１ 駆動手段
３０、３０Ａ 搬送アームの位置調整治具
４０、４０Ａ 照射手段
５０、５０Ａ 撮像手段
６０ 表示装置
７０ スペーサ
８０ ベース部
１００ ウェハ搬送装置

Claims (12)

1. 複数のウェハが収納されたウェハカセットに、積層方向で隣り合うウェハの間に挿入されて、前記ウェハを搬送する搬送アームの前記積層方向の位置を調整する搬送アームの位置調整方法であって、
   前記ウェハカセットの一側面に設けられた開口部を介して、前記ウェハの積層方向で隣合う２つのウェハの間に前記搬送アームを挿入した状態で、当該２つのウェハの間隔以上の幅を有する光を前記ウェハ及び前記搬送アームに照射すると共に、前記開口部を介して前記２つのウェハと前記搬送アームとで遮蔽された光を受光して、前記２つのウェハと前記搬送アームとの距離情報を取得し、該距離情報に基づいて前記２つのウェハに対する前記搬送アームの位置を調整することを特徴とする搬送アームの位置調整方法。
2. 前記搬送アームの挿入位置を挿入位置情報としてさらに取得することを特徴とする請求項１記載の搬送アームの位置調整方法。
3. 前記位置情報の取得を、前記ウェハカセットの前記ウェハの積層方向の両端部側で行うことを特徴とする請求項１又は２記載の搬送アームの位置調整方法。
4. 複数のウェハが収納されたウェハカセットに対して前記ウェハを搬送する搬送アームの位置調整に用いられる搬送アームの位置調整治具であって、
   前記ウェハカセットの外周に着脱自在に設けられた支持部と、
   該支持部に支持されて前記ウェハカセットの一側面に設けられた開口部の側面に設けられて、積層方向で隣り合う２つのウェハの間隔以上の幅を有する光を前記開口部の設けられた面方向に沿って照射する照射手段と、
   前記支持部に支持されて、前記ウェハカセットの前記照射手段とは前記開口部を挟んだ反対の側面に設けられて、前記照射手段が照射した光を受光すると共に撮像する撮像手段と、を具備することを特徴とする搬送アームの位置調整治具。
5. 前記照射手段が、前記開口部の開口方向に向かって光を照射する照射部と、該照射部から照射された光を前記開口部が設けられた面方向に屈曲させる照射側鏡部と、を具備することを特徴とする請求項４記載の搬送アームの位置調整治具。
6. 前記照射側鏡部が、前記照射部が照射した光を、鉛直方向で異なる少なくとも２つの光に分岐させることを特徴とする請求項５記載の搬送アームの位置調整治具。
7. 前記撮像手段が、前記開口部の開口方向に向かって撮像する撮像部と、前記照射手段によって前記開口部の設けられた面方向に沿って照射された光を前記撮像部の撮像方向に向かって屈曲させる撮像側鏡部と、を具備することを特徴とする請求項４〜６の何れか一項に記載の搬送アームの位置調整治具。
8. 前記撮像側鏡部が、鉛直方向で異なる位置の光を一つの前記撮像部に集光するものであることを特徴とする請求項７記載の搬送アームの位置調整治具。
9. 前記支持部が、前記ウェハカセットの鉛直方向上側に、前記開口部が設けられた面の両側面に嵌合するように設けられていることを特徴とする請求項４〜８の何れか一項に記載の搬送アームの位置調整治具。
10. 前記支持部と前記ウェハカセットの上端面との間に、着脱自在に設けられたスペーサ部をさらに有することを特徴とする請求項４〜９の何れか一項に記載の搬送アームの位置調整治具。
11. 複数のウェハが収納されたウェハカセットが載置されるベース部と、
    前記ウェハカセットの一側面に設けられた開口部から挿入されて前記ウェハを搬送する搬送アームと、を具備するウェハ搬送装置であって、
    前記ベース部上の前記ウェハカセットの前記開口部の側面となる領域に設けられて、積層方向で隣り合う２つのウェハの間隔以上の幅を有する光を前記開口部の設けられた面方向に沿って照射する照射手段と、
    前記ベース部上の前記ウェハカセットの前記照射手段とは前記開口部を挟んだ反対の側面に設けられて、前記照射手段が照射した光を受光すると共に撮像する撮像手段と、を具備することを特徴とするウェハ搬送装置。
12. 前記搬送アームを駆動する駆動手段をさらに具備すると共に、前記撮像手段が、前記２つのウェハと前記搬送アームとの距離情報を取得し、該距離情報に基づいて前記駆動手段を制御することにより、前記２つのウェハに対する前記搬送アームの位置を調整する制御手段をさらに具備することを特徴とするウェハ搬送装置。

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