JP2010122603A - 低屈折率層形成用組成物、光学積層体及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バインダー樹脂、レベリング剤及び帯電防止剤を含有する低屈折率層形成用組成物であって、レベリング剤は、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物であり、帯電防止剤は、リチウム化合物であり、レベリング剤と帯電防止剤との合計含有量は、低屈折率層形成用組成物の固形成分に対して、0.1〜10質量%であり、レベリング剤と帯電防止剤との質量比は、95:5〜5:95であることを特徴とする低屈折率層形成用組成物。
【選択図】 なし
Description
上記レベリング剤は、電離放射線硬化基を有することが好ましい。
本発明の低屈折率層形成用組成物は、更に、低屈折率材料を含有することが好ましい。
上記バインダー樹脂は、低屈折率材料であることが好ましい。
また、上記レベリング剤と上記帯電防止剤との質量比(レベリング剤:帯電防止剤)は、90:10〜55:45であり、上記レベリング剤が上記帯電防止剤よりも多く含有されていることが好ましい。
上記低屈折率層形成用組成物は、低屈折率材料を含有することが好ましい。
上記バインダー樹脂は、低屈折率材料であることが好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において使用するレベリング剤は、塗膜表面の表面張力が不均一となることによって生じる、ハジキ、凹み、ピンホール、ユズハダ等の欠陥を防止し、表面を滑らかにする機能以外に、防汚性や滑り性を兼ね備えるものが好ましい。
防汚性とは、油、指紋、マジック等が付着し難い、付着しても目立ち難い又は付着しても拭き取り易い性質をいう。
で表される化合物を挙げることができる。
上記ポリエーテル基は、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド又はこれらの共重合鎖であることが望ましい。
(B)は、OCF2CF2、OCF2CF(CF2)、OCF2C(CF2)2、OCF(CF2)CF(CF2)、OCF(CF2)C(CF2)2、OC(CF2)2CF(CF2)、OC(CF2)2C(CF2)2からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
(C)は、OCH2CH2、OCH2CH2CH2、OC(O)(CH2)zからなる群から選択される一種又は二種以上の基を表し、
w、x、y、zは1以上50以下の数を表す。)
で表される化合物を挙げることができる。
シロキサン結合とフッ素原子とを含有する化合物からなるレベリング剤としては、例えば、シリコーンモノマーとフッ素原子を含有するモノマーとを共重合することにより得られる化合物を挙げることができる。
また、電離放射線硬化基を有しない市販のレベリング剤としては、大日本インキ社製のメガファックシリーズ(MCF350−5、F445、F444、F455、F178、F470、F475、F479、F477、TF1025、F478、F178K);信越化学社製のX22−3710、X22−162C、X22−3701E、X22160AS、X22170DX、X224015、X22176DX、X22−176F、X224272、KF8001、X22−2000;チッソ社製のFM4421、FM0425、FMDA26、FS1265;東レダウコーニング社製のBY16−750、BY16880、BY16848、SF8427、SF8421、SH3746、SH8400、SF3771、SH3749、SH3748、SH8410;GE東芝シリコーン社製のTSFシリーズ(TSF4460、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4453、TSF4452、TSF4730、TSF4770)、FGF502、SILWETシリーズ(SILWETL77、SILWETL2780、SILWETL7608、SILWETL7001、SILWETL7002、SILWETL7087、SILWETL7200、SILWETL7210、SILWETL7220、SILWETL7230、SILWETL7500、SILWETL7510、SILWETL7600、SILWETL7602、SILWETL7604、SILWETL7604、SILWETL7605、SILWETL7607、SILWETL7622、SILWETL7644、SILWETL7650、SILWETL7657、SILWETL8500、SILWETL8600、SILWETL8610、SILWETL8620、SILWETL720)等を挙げることができる。
本発明の低屈折率層形成用組成物においては、上記レベリング剤と上記帯電防止剤との質量比(レベリング剤:帯電防止剤)が、90:10〜55:45であることが最も好ましく、上記レベリング剤が帯電防止剤よりも多く含有されていることが好ましい。これは、レベリング剤がポリエーテル結合を有する場合、該ポリエーテル結合部分とリチウムイオンとが作用して帯電防止性能が発現するため、安定した帯電防止性能を得るには、レベリング剤が、帯電防止剤よりも多いことが好ましいからである。
多官能アクリレートとしては、例えば、2官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1、3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1、4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1、9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1、10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ(メタ)アクリレート(イソシアヌル酸EO変性ジ(メタ)アクリレート)、2官能ウレタン(メタ)アクリレート、2官能ポリエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。3官能(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ(メタ)アクリレート、3官能ポリエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。4官能(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。5官能以上の(メタ)アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
特に、高い硬度を有する光学積層体を作製するという面から、3官能以上のものが好ましい。3官能以上の(メタ)アクリレート樹脂としては、市販品を使用することができ、具体的には、日本化薬社製のKAYARAD、KAYAMERシリーズ(例えば、DPHA、PET30、GPO303、TMPTA、THE330、TPA330、D310、D330、PM2、PM21、DPCA20、DPCA30、DPCA60、DPCA120);東亞合成社製のアロニックスシリーズ(例えば、M305、M309、M310、M315、M320、M327、M350、M360、M402、M408、M450、M7100、M7300K、M8030、M8060、M8100、M8530、M8560、M9050);新中村化学社製のNKエステルシリーズ(例えば、TMPT、A−TMPT、A−TMM−3、A−TMM3L、A−TMMT、A−TMPT−6EO、A−TMPT−3CL、A−GLY−3E、A−GLY−6E、A−GLY−9E、A−GLY−11E、A−GLY−18E、A−GLY−20E、A−9300、AD−TMP−4CL、AD−TMP);新中村化学社製のNKエコノマーシリーズ(例えば、ADP51、ADP33、ADP42、ADP26、ADP15);第一工業製薬社製のニューフロンティアシリーズ(例えば、TMPT、TMP3、TMP15、TMP2P、TMP3P、PET3、TEICA);ダイセル・サイテック社製のEbecrylシリーズ、(例えば、TMPTA、TMPTAN、160、TMPEOTA、OTA480、53、PETIA、2047、40、140、1140、PETAK、DPHA);サーマー社製のCD501、CD9021、CD9052、SR351、SR351HP、SR351LV、SR368、SR368D、SR415、SR444、SR454、SR454HP、SR492、SR499、SR502、SR9008、SR9012、SR9020、SR9020HP、SR9035、CD9051、SR350、SR9009、SE9011、SR295、SR355、SR399、SR399LV、SR494、SR9041等が挙げられる。
電離放射線硬化型樹脂としては、多官能ウレタン(メタ)アクリレートも挙げることができる。
ウレタン(メタ)アクリレートとしては、2官能以上のもの、好ましくは4官能以上のものが使用できる。ウレタン(メタ)アクリレート系の官能基を有するものとしては、市販品を使用することができ、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ(例えば、UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B);根上工業社製のアートレジンシリーズ(例えば、アートレジンHDP、アートレジンUN9000H、アートレジンUN3320HA、アートレジンUN3320HB、アートレジンUN3320HC、アートレジンUN3320HS、アートレジンUN901M、アートレジンUN902MS、アートレジンUN903);新中村化学社製のUA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI;ダイセル・サイテック社製のEbecrylシリーズ(例えば、1290、5129、254、264、265、1259、1264、4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450);荒川化学社製のビームセットシリーズ(例えば、371、577);三菱レーヨン社製のRQシリーズ;大日本インキ社製のユニディックシリーズ;日本化薬社製のDPHA40H;サーマー社製のCN9006、CN968等が挙げられる。この中でも、UV1700B(日本合成社製)、DPHA40H(日本化薬社製)、アートレジンHDP(根上工業社製)、ビームセット371(荒川化学社製)、ビームセット577(荒川化学社製)、U15HA(新中村化学社製)が好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、多官能ウレタンアクリルアクリレートも使用でき、市販品としては、例えば、日立化成社製のヒタロイド7975等を挙げることができる。
上記有機微粒子としては粒子内部に適度な架橋構造を有しており、活性エネルギー線硬化樹脂やモノマー、溶剤等による膨潤が少ない硬質な微粒子を用いることができる。例えば、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等を主成分とするものを使用することができる。
上記シェル部は、重合性官能基が直接又は重合性官能基を備えるモノマー、オリゴマー、ポリマーがグラフト形態となって化学反応によりコアに結合した構造;粒子部分(コア)の表面に重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーが被膜形態となって化学反応により結合した構造等を挙げることができる。
光重合開始剤の添加量は、上記低屈折率層形成用組成物100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましく、1〜7質量部であることがより好ましい。
光重合促進剤の市販品としては、例えば、SpeedcureMBB、SpeedcurePBZ(LAMBSON Fine Chemicals製)が挙げられる。
このような、最表面に本発明の光学積層体を備える画像表示装置もまた、本発明の一つである。
光学積層体を構成する各層の組成物を下記組成に従い調製した。
ハードコート組成物(実施例1〜8、比較例1〜8で使用)
ウレタンアクリレート(UV1700B;日本合成社製) 5質量部
イソシアヌル酸変性トリアクリレート(M315;東亞合成社製) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
メチルエチルケトン 10質量部
低屈折率層形成用組成物1
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
カルビノール変性シリコーンオイル(X22−176F;信越化学工業社製)
0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナしノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル/メタクリレート変性シリコーンオイル(Tego Rad 2200N;Degussa社製) 0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(TSF4460;GE東芝シリコーン社製)
0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(SILWETL720;GE東芝シリコーン社製)
0.1質量部
メタクリレート変性シリコーンオイル(X22164E;信越化学工業社製)
0.05質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.15質量部
帯電防止剤(フロラードL13858;住友スリーエム社製) 0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
フッ素系低屈折率樹脂(AR110;ダイキン化学工業製)
67質量部(固形分15%;MIBK溶剤使用)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 10質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.8質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.5質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.1質量部
メチルイソブチルケトン 340質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.05質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア127;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.1質量部
メタクリレート変性シリコーンオイル(サイラプレーンFM7726;チッソ社製)
0.05質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
フッ素系低屈折率樹脂(LINC3A;共栄社化学社製) 0.8質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 0.8質量部
重合開始剤(イルガキュア127;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.1質量部
メタクリレート変性シリコーンオイル(サイラプレーンFM7726;チッソ社製)
0.05質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性フッ素(メガファックF445;大日本インキ化学工業社製)
0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
カルボキシル変性シリコーンオイル(X22162C;信越化学社製) 0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
アクリレート変性シリコーンオイル(UT3971;日本合成社製) 0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.02質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
変性なしシリコーンオイル(SH200;東レダウコーニング社製) 0.1質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.05質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 1.8質量部
帯電防止剤入りハードコート樹脂(ユニレジンUVASH26、新中村化学社製)
1.8質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.7質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
変性なしシリコーンオイル(SH200;東レダウコーニング社製) 0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.05質量部
メチルイソブチルケトン 16質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
帯電防止剤入りハードコート樹脂(ユニレジンUVASH26、新中村化学社製)
1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
変性なしシリコーンオイル(SH200;東レダウコーニング社製) 0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.05質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
変性なしシリコーンオイル(SH200;東レダウコーニング社製) 0.15質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.5質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.05質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.3質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製)
0.0015質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製)
0.0005質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア369;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル(X22−4272;信越化学工業社製) 3質量部
帯電防止剤(LJ−603010(Li−TFSI);住友スリーエム社製) 1質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
n−ブタノール 20質量部
トリアセテートセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム製、TF80UL、厚さ80μm)上に上記ハードコート組成物を、湿潤質量20g/m2(乾燥質量10g/m2)で塗布(バーコーティング)し、次いで、50℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株))を用いて、照射線量50mJ/cm2で紫外線照射を行うことにより組成物を硬化させ、ハードコート層を形成させた。次に、ハードコート層の表面に、低屈折率層形成用組成物1を乾燥質量0.1g/m2)で塗布(バーコーティング)し、次いで、40℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株))を用いて、照射線量200mJ/cm2で紫外線照射を行い、樹脂層(低屈折率層)を形成し、光学積層体を作製した。低屈折率層は、反射率の極小値が波長550nm付近となり、且つ、膜厚が0.10μmとなるように形成した。
低屈折率層形成用組成物1の代わりに低屈折率層形成用組成物2〜13を使用した以外は、実施例1と同様にして光学積層体を作製した。
低屈折率層形成用組成物1の代わりに低屈折率層形成用組成物1’〜 8’を使用した以外は、実施例1と同様にして光学積層体を作製した。
実施例および比較例で作製した光学積層体について、低屈折率層が形成されていない側のTAC表面をポリエステル布にて20往復擦り、その擦った面にタバコの灰を近づけて塵埃付着防止効果を下記基準にて評価し、これを表1に示した。
評価 ○:灰の付着がなく、塵埃付着防止効果があった。
評価 ×:灰の付着が多数あり、塵埃付着防止効果が無かった。
実施例および比較例で作製した光学積層体の表面抵抗値(Ω)を表面抵抗率測定器(三菱化学製、製品番号;Hiresta IP MCP−HT260)にて測定した。
実施例および比較例で作製した光学積層体の低屈折率層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重200g/cm2で10往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視し、下記の基準にて評価した。
評価○:塗膜の剥がれが全くなかった。
評価×:塗膜の剥がれがあった。
低屈折率層が形成されていない側のTAC表面に裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から、島津製作所製分光反射率測定機PC−3100を用い、波長域380〜780nmでの最低反射率を測定した。
Claims (11)
- バインダー樹脂、レベリング剤及び帯電防止剤を含有する低屈折率層形成用組成物であって、
前記レベリング剤は、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有する化合物であり、
前記帯電防止剤は、リチウム化合物であり、
前記レベリング剤と前記帯電防止剤との合計含有量は、前記低屈折率層形成用組成物の固形成分に対して、0.1〜10質量%であり、
前記レベリング剤と前記帯電防止剤との質量比(レベリング剤:帯電防止剤)は、95:5〜5:95であることを特徴とする低屈折率層形成用組成物。 - 前記レベリング剤は、シリコーン系、フッ素系、又は、その混合系である請求項1記載の低屈折率層形成用組成物。
- 前記レベリング剤は、電離放射線硬化基を有する請求項1又は2記載の低屈折率層形成用組成物。
- 前記レベリング剤と前記帯電防止剤との質量比(レベリング剤:帯電防止剤)は、90:10〜55:45であり、前記レベリング剤が前記帯電防止剤よりも多く含有されている請求項1、2又は3記載の低屈折率層形成用組成物。
- 更に、低屈折率材料を含有する請求項1、2、3又は4記載の低屈折率層形成用組成物。
- 前記バインダー樹脂は、低屈折率材料である請求項1、2、3又は4記載の低屈折率層形成用組成物。
- 光透過性基材及び前記光透過性基材に設けられた樹脂層を有する光学積層体であって、
前記樹脂層は、バインダー樹脂と、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、アクリレート基、メタクリレート基、カルビノール基又は水酸基を有するレベリング剤と、リチウム化合物である帯電防止剤とを含有し、
前記レベリング剤と前記帯電防止剤との合計含有量は、前記樹脂層を形成するための低屈折率層形成用組成物の固形成分に対して、0.01〜10質量%であり、
前記レベリング剤と前記帯電防止剤との質量比(レベリング剤:帯電防止剤)は、95:5〜5:95である
ことを特徴とする光学積層体。 - 前記レベリング剤は、シリコーン系、フッ素系、又は、その混合系である請求項7記載の光学積層体。
- 前記低屈折率層形成用組成物は、低屈折率材料を含有する請求項7又は8記載の光学積層体。
- 前記バインダー樹脂は、低屈折率材料である請求項7又は8記載の光学積層体。
- 最表面に請求項7、8、9又は10記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
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