JP2010114394A - Suction pad cleaning device and chuck table having suction pad - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ウェーハを吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置および吸着パッドを備えたチャックテーブルに関する。 The present invention relates to a suction pad cleaning device for cleaning a suction pad that sucks a wafer and a chuck table including the suction pad.
半導体製造分野においてはウェーハが年々大型化する傾向にあり、また、実装密度を高めるためにウェーハの薄膜化が進んでいる。ウェーハを薄膜化するために、半導体ウェーハの裏面を研削するいわゆる裏面研削（バックグラインド）が行われる。例えば特許文献１には、真空の吸引力を利用したチャックにウェーハを吸着保持させてウェーハの裏面を研削する技術が開示されている。 In the semiconductor manufacturing field, wafers tend to increase in size year by year, and the wafers are becoming thinner to increase the mounting density. In order to reduce the thickness of the wafer, so-called back grinding is performed to grind the back surface of the semiconductor wafer. For example, Patent Document 1 discloses a technique for grinding a back surface of a wafer by attracting and holding the wafer on a chuck using a vacuum suction force.
図９は特許文献１に開示されるような従来技術におけるウェーハ研削装置の略図である。ウェーハの裏面を研削するときには、ウェーハ２０の表面２１には表面保護フィルム１１が貼付けられる。この表面保護フィルム１１は、表面２１に形成された回路パターン（図示しない）を保護する役目を果たす。また、従来技術におけるウェーハ研削装置の部分断面図である図１０から分かるように、ウェーハ２０の縁部には面取部２５が形成されている。このため、表面保護フィルム１１はウェーハ２０の縁部において面取部２５に沿って貼付けられる。
FIG. 9 is a schematic diagram of a conventional wafer grinding apparatus as disclosed in Patent Document 1. When grinding the back surface of the wafer, the
図１０に示されるように、ウェーハ２０はその裏面２２が上方を向くように、吸着パッド５１０に吸着保持される。吸着パッド５１０は通常は多孔質材料から形成されており、図示しない真空手段により真空を吸着面５２０に適用することでウェーハ２０が吸着パッド５１０に吸着保持される。そして、図９に実線矢印で示されるように、互いに回転する研削砥石２８０とウェーハ２０との接点に研削水が供給され、研削砥石２８０により、ウェーハ２０の裏面２２が研削されるようになる。
しかしながら、表面保護フィルム１１はウェーハ２０の面取部２５に沿って貼付けられているので、ウェーハ２０の縁部においては隙間Ｇが表面保護フィルム１１と吸着パッド５１０との間に形成される。研削の進行により生じた研削屑は、研削水と共にスラッジＳとして隙間Ｇを通じて吸着パッド５１０内に流入し、スラッジＳが吸着パッド５１０内部で詰まるようになる。
However, since the surface
一つのウェーハ２０の研削が終了すると、吸着パッド５１０の吸引作用を解除してウェーハ２０を吸着パッド５１０から取外す。そして、従来技術における吸着パッドの部分断面図である図１１に示されるように、吸着パッド５１０の中心における底面側から吸着面５２０に向かって洗浄液を供給する。これにより、洗浄液は半径方向に広がって吸着パッド５１０の吸着面５２０全体からから流出する。そして、洗浄液を供給しつつ、洗浄装置の回転砥石（図９、図１０および図１１には示さない）により吸着パッド５１０の吸着面５２０を微量だけ研削することにより吸着パッド５１０が洗浄される。
When grinding of one
しかしながら、図１１における矢印の寸法から分かるように、洗浄液の流量は吸着パッド５１０の中心領域において大きいものの、吸着パッド５１０の外側領域においては小さくなる。また、前述したように吸着パッド５１０の外側領域にはスラッジＳが詰まっているので、洗浄液は吸着パッド５１０の外側領域には到達し難い場合もある。また、洗浄液の供給のみによってスラッジＳを吸着パッド５１０から完全に排出するためには、洗浄液の流量をかなり大きくする必要があり、経済的でない。
However, as can be seen from the dimensions of the arrows in FIG. 11, the flow rate of the cleaning liquid is large in the central region of the
さらに、回転砥石は吸着パッド５１０の吸着面５２０に堆積したスラッジＳを除去できるものの、吸着パッド５１０内部に詰まったスラッジＳを除去することはできない。また、吸着パッド５１０の研削時には、回転砥石がスラッジＳを吸着パッド５１０内部に押込む場合があり、このような場合には、スラッジにより吸着パッド５１０が却って詰まることになる。
Further, although the rotating grindstone can remove the sludge S accumulated on the
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出することのできる吸着パッド洗浄装置およびチャックテーブルを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a suction pad cleaning device and a chuck table that can reliably discharge sludge clogged in the suction pad.
前述した目的を達成するために１番目の発明によれば、支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記吸着面における前記吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部とを具備する、吸着パッド洗浄装置が提供される。 In order to achieve the above-described object, according to the first invention, in the suction pad cleaning device for cleaning the suction pad supported by the support member and sucking the workpiece, the suction pad is formed from the inside of the suction pad. A suction pad comprising: cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid toward the suction surface; and an inner region covering portion that covers an inner region of the suction pad on the suction surface so as to be sealed from an outer region around the inner region. A cleaning device is provided.
すなわち１番目の発明においては、内側領域被覆部が吸着パッドの内側領域を閉鎖しているので、洗浄液は吸着パッドの外側領域においてのみ流出する。このため、洗浄液は吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。なお、内側領域被覆部と吸着パッドの吸着面との間に隙間があってもよい。 That is, in the first invention, since the inner region covering portion closes the inner region of the suction pad, the cleaning liquid flows out only in the outer region of the suction pad. For this reason, the cleaning liquid can reliably discharge sludge clogged in the outer region of the suction pad. There may be a gap between the inner region covering portion and the suction surface of the suction pad.
２番目の発明によれば、１番目の発明において、さらに、前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する。
すなわち２番目の発明においては、吸着パッドの内側領域に供給された洗浄液を気体が押出すことにより、吸着パッドの外側領域に供給される洗浄液の流量を増加させられる。従って、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをさらに確実に排出できる。
According to a second aspect, in the first aspect, the apparatus further comprises gas supply means for supplying gas from the inner region covering portion toward the suction surface of the suction pad.
That is, in the second aspect of the invention, the flow rate of the cleaning liquid supplied to the outer region of the suction pad can be increased by extruding the cleaning liquid supplied to the inner region of the suction pad. Therefore, sludge clogged in the outer region of the suction pad can be discharged more reliably.
３番目の発明によれば、支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記吸着面における前記吸着パッドの外側領域を該外側領域に囲まれる内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、前記外側領域被覆部により被覆された前記吸着パッドの前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置が提供される。 According to the third invention, in the suction pad cleaning device for cleaning the suction pad that is supported by the support member and sucks the workpiece, the cleaning liquid is supplied from the inside of the suction pad toward the suction surface of the suction pad. Cleaning liquid supply means, an outer region covering portion that covers an outer region of the suction pad on the suction surface so as to be sealable from an inner region surrounded by the outer region, and the suction pad coated with the outer region covering portion And a vacuum means for applying a vacuum to the outer region of the suction pad.
すなわち３番目の発明においては、真空手段によって洗浄液は吸着パッドの外側領域を通って吸引される。このため、洗浄液は吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。 That is, in the third invention, the cleaning liquid is sucked through the outer region of the suction pad by the vacuum means. For this reason, the cleaning liquid can reliably discharge sludge clogged in the outer region of the suction pad.
４番目の発明によれば、３番目の発明において、さらに、前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を前記外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部を具備する。
すなわち４番目の発明においては、内側領域被覆部が吸着パッドの内側領域を閉鎖しているので、真空手段による吸引の効果をさらに高めることができる。
According to a fourth aspect, in the third aspect, further comprising an inner region covering portion that covers the inner region of the suction pad on the suction surface so as to be sealable from the outer region.
That is, in the fourth aspect of the invention, since the inner region covering portion closes the inner region of the suction pad, the suction effect by the vacuum means can be further enhanced.
５番目の発明によれば、支持部材に支持されていて被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部と、前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置が提供される。 According to a fifth aspect of the present invention, in the suction pad cleaning device for cleaning the suction pad that is supported by the support member and sucks the workpiece, the inner region of the suction pad on the suction surface is arranged outside the periphery of the inner region. There is provided a suction pad cleaning device comprising: an inner region covering portion that covers the region in a sealable manner; and gas supply means that supplies gas from the inner region covering portion toward the suction surface of the suction pad.
すなわち５番目の発明においては、気体供給手段から供給された気体は吸着パッドの内側領域を通って外側領域から流出するようになる。このため、気体は吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。なお、内側領域被覆部と吸着パッドの吸着面との間に隙間があってもよい。また、気体の代わりに、洗浄液を内側領域被覆部から供給するようにしてもよい。 That is, in the fifth aspect, the gas supplied from the gas supply means flows out from the outer region through the inner region of the suction pad. For this reason, the gas can reliably discharge sludge clogged in the outer region of the suction pad. There may be a gap between the inner region covering portion and the suction surface of the suction pad. Moreover, you may make it supply cleaning liquid from an inner area | region coating | coated part instead of gas.
６番目の発明によれば、５番目の発明において、さらに、前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段を具備する。
すなわち６番目の発明においては、洗浄液が気体と一緒に吸着パッドの外側領域から流出する。このため、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをさらに確実に排出できる。
According to a sixth aspect, in the fifth aspect, the apparatus further comprises cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid from the inside of the suction pad toward the suction surface of the suction pad.
That is, in the sixth aspect, the cleaning liquid flows out from the outer region of the suction pad together with the gas. For this reason, sludge clogged in the outer region of the suction pad can be discharged more reliably.
７番目の発明によれば、５番目または６番目の発明において、さらに、前記吸着面における前記吸着パッドの前記外側領域を前記内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、前記外側領域被覆手段により被覆された前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する。
すなわち７番目の発明においては、真空手段により気体および／または洗浄液が吸引されるので、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをさらに確実に排出できる。
According to a seventh aspect, in the fifth or sixth aspect, the outer region covering portion that covers the outer region of the suction pad on the suction surface so as to be sealable from the inner region, and the outer region Vacuum means for applying a vacuum to the outer region covered by the covering means.
That is, in the seventh aspect, since the gas and / or cleaning liquid is sucked by the vacuum means, the sludge clogged in the outer region of the suction pad can be discharged more reliably.
８番目の発明によれば、被加工物を吸着する吸着パッドと、該吸着パッドを支持する支持部材と、該支持部材に形成されていて前記吸着パッドの内側領域周りに位置する外側領域まで延びる外側領域通路と、洗浄液を前記外側領域通路に通して前記外側領域における前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を具備するチャックテーブルが提供される。 According to the eighth aspect of the invention, the suction pad that sucks the workpiece, the support member that supports the suction pad, and the outer region that is formed on the support member and is positioned around the inner region of the suction pad. A chuck table is provided that includes an outer region passage and cleaning liquid supply means that supplies cleaning liquid to the suction surface of the suction pad in the outer region through the outer region passage.
すなわち８番目の発明においては、洗浄液を吸着パッドの外側領域に直接的に供給しているので、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できる。 That is, in the eighth aspect, since the cleaning liquid is directly supplied to the outer region of the suction pad, sludge clogged in the outer region of the suction pad can be reliably discharged.
９番目の発明によれば、８番目の発明において、さらに、前記支持部材に形成されていて前記吸着パッドの前記内側領域まで延びる内側領域通路を具備し、前記洗浄液供給手段は、洗浄液を前記外側領域通路および前記内側領域通路に通して前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する。
すなわち９番目の発明においては、吸着パッドの内側領域に供給される洗浄液の量が不足するのを避けられる。また、洗浄液供給手段が外側領域通路における洗浄液の流量を内側領域通路における流量よりも大きくし、それにより、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをより確実に排出できる。
According to a ninth aspect, in the eighth aspect, the apparatus further comprises an inner region passage formed in the support member and extending to the inner region of the suction pad, and the cleaning liquid supply means supplies the cleaning liquid to the outer side. The liquid is supplied toward the suction surface of the suction pad through the region passage and the inner region passage.
That is, in the ninth aspect, it is possible to avoid a shortage of the amount of cleaning liquid supplied to the inner region of the suction pad. Further, the cleaning liquid supply means makes the flow rate of the cleaning liquid in the outer region passage larger than the flow rate in the inner region passage, so that sludge clogged in the outer region of the suction pad can be discharged more reliably.
１０番目の発明によれば、９番目の発明において、さらに、前記吸着パッドの前記外側領域と前記内側領域とを仕切る仕切手段を具備する。
すなわち１０番目の発明においては、吸着パッドの外側領域における洗浄液の流量が低下するのを避けることができる。
According to a tenth aspect, in the ninth aspect, further comprising partition means for partitioning the outer region and the inner region of the suction pad.
That is, in the tenth aspect, it is possible to avoid a decrease in the flow rate of the cleaning liquid in the outer region of the suction pad.
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の図面において同様の部材には同様の参照符号が付けられている。理解を容易にするために、これら図面は縮尺を適宜変更している。
図１は本発明の第一の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。ウェーハ処理装置１０には、複数の回路パターン（図示しない）が形成された表面２１が表面保護フィルム１１により保護されている複数のウェーハ２０がカセット１１ａにより供給されるものとする。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the following drawings, the same members are denoted by the same reference numerals. In order to facilitate understanding, the scales of these drawings are appropriately changed.
FIG. 1 is a top view of a wafer processing apparatus including a suction pad cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention. It is assumed that the
図１に示されるウェーハ処理装置１０は、四つのチャックテーブル１２ａ〜１２ｄを備えていて矢印Ａ方向にインデックス回転するターンテーブル１３と、チャックテーブル１２ａ〜１２ｄのそれぞれの吸着パッド５１ａ〜５１ｄを洗浄する吸着パッド洗浄装置１８と、ウェーハ２０を搬送する搬送ロボット１５とを主に含んでいる。
The
さらに、図１に示されるように、ウェーハ処理装置１０においては、粗研削ユニット４１、仕上研削ユニット４２および研磨ユニット４３がターンテーブル１３の回転方向Ａに沿って順番に配置されている。なお、粗研削ユニット４１は粗研削砥石（図示しない）によりウェーハ２０の裏面２２を粗研削し、仕上研削ユニット４２は仕上研削砥石（図示しない）により裏面２２を仕上研削し、研磨ユニット４３は研磨布を備えた研磨ヘッド（図示しない）により裏面２２を研磨する。
Further, as shown in FIG. 1, in the
図２（ａ）および図２（ｂ）はそれぞれ図１に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図および側断面図である。これら図面には、チャックテーブル１２ａが代表して示されているが、他のチャックテーブル１２ｂ〜１２ｄも同様の構成である。図２（ｂ）に示されるように、チャックテーブル１２ａは、凹部を備えた枠体５３ａと、枠体５３ａの凹部に嵌込まれて支持される吸着パッド５１ａとを主に含んでいる。
2A and 2B are a top view and a side sectional view of the suction pad cleaning device shown in FIG. 1, respectively. In these drawings, the chuck table 12a is representatively shown, but the other chuck tables 12b to 12d have the same configuration. As shown in FIG. 2B, the chuck table 12a mainly includes a
図２（ｂ）に示されるように、吸着パッド５１ａの吸着面５２ａは枠体５３ａの上面と同一平面になっており、吸着パッド５１ａの下面と枠体５３ａとの間には隙間５５ａが形成されている。図２（ｂ）に示されるように、吸着パッド５１ａはその中心を含む内側領域Ｚ１と、内側領域Ｚ１周りに環状に広がる外側領域Ｚ２とを含んでいる。内側領域Ｚ１の半径は、吸着パッド５１ａの半径の約５０％から９０％であるものとする。
As shown in FIG. 2B, the
なお、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１および外側領域Ｚ２は多孔質材料、例えば多孔性のアルミナから形成されている。枠体５３ａは中実材料、例えば緻密なアルミナから形成されている。
The inner region Z1 and the outer region Z2 of the
また、図２（ｂ）に示されるように、中心通路５６ａが枠体５３ａの中心から隙間５５ａまで延びている。中心通路５６ａは第一真空手段５９に接続されており、第一真空手段５９が起動すると、吸着パッド５１ａの吸着面５２ａに真空が適用されるようになる。
Further, as shown in FIG. 2B, the
図２（ｂ）に示されるように、中心通路５６ａは、洗浄液を供給する洗浄液供給手段５８にも接続されている。後述するように、中心通路５６ａは洗浄液供給手段５８から洗浄液を吸着面５２ａに供給するときにも使用される。
As shown in FIG. 2B, the
図２（ａ）および図２（ｂ）においては、吸着パッド洗浄装置１８は、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１を封止可能に被覆する内側領域被覆部３０を含んでいる。図示されるように、内側領域被覆部３０は、枠体５３ａの外形に概ね等しい外形を有する蓋部３１と、蓋部３１の中心から上方に延びる連結部３２を含む。連結部３２は吸着パッド洗浄装置１８の本体に連結されていて、内側領域被覆部３０は所望の位置まで水平方向および鉛直方向に移動される。
2A and 2B, the suction
蓋部３１の下面には、枠体５３ａの上面に載置する複数、例えば三つの脚部３３が設けられている。図２（ｂ）に示されるように、脚部３３が枠体５３ａに載置されると、蓋部３１と枠体５３ａとの間には、脚部３３の高さに応じた隙間が形成される。なお、脚部３３の数は限定されるものではなく脚部３３が一つのみであってもよい。しかしながら、そのような場合であっても、蓋部３１と枠体５３ａとの間に隙間が形成されることが必要とされる。
A plurality of, for example, three
さらに、蓋部３１の下面には、封止部材３５が内側領域Ｚ１と外側領域Ｚ２との間の環状の境界線に沿って延びている。封止部材３５は、弾性体、例えばエラストマから形成されている。また、封止部材３５は脚部３３よりもわずかながら高く形成されている。従って、図２（ｂ）に示されるように脚部３３が枠体５３ａに載置されると、封止部材３５は吸着パッド５１ａの吸着面５２ａに接触し、封止部材３５により囲まれた領域（内側領域Ｚ１に対応する）を外部から封止するようになる。
Furthermore, the sealing
また、封止部材３５は弾性体から形成されているので、封止部材３５が吸着面５２ａを損傷させることはない。この目的のために、図２（ｂ）に示されるように封止部材３５の断面は三角形であるのが好ましい。
Further, since the sealing
以下、図１、図２（ａ）および図２（ｂ）を参照しつつ、本発明のウェーハ処理装置１０の動作について説明する。はじめに、搬送ロボット１５によって、カセット１１ａから一つのウェーハ２０が取出されて、チャックテーブル１２ａまで搬送される。
Hereinafter, the operation of the
次いで、第一真空手段５９を起動させて、チャックテーブル１２ａの吸着パッド５１ａに真空が適用される。そして、ウェーハ２０はその裏面２２が上方を向いた状態でチャックテーブル１２ａに吸引保持される。次いで、ターンテーブル１３がインデックス回転し、チャックテーブル１２ａは粗研削ユニット４１まで移動される。このとき、別のチャックテーブル１２ｄには別のウェーハ２０が搬送ロボット１５により搬送され、同様な処理が順次行われる。しかしながら、このことは公知であるので説明を省略する。
Next, the first vacuum means 59 is activated and a vacuum is applied to the
粗研削ユニット４１においてはウェーハ２０の裏面２２が粗研削砥石（図示しない）により公知の手法で粗研削される。次いで、ターンテーブル１３がインデックス回転して、チャックテーブル１２ａは粗研削ユニット４１から仕上研削ユニット４２まで移動される。仕上研削ユニット４２においては、ウェーハ２０の裏面２２は仕上研削砥石（図示しない）により公知の手法で仕上研削される。
In the rough grinding unit 41, the
次いで、研磨ユニット４３においては、研磨布からスラリーを吐出しつつ、ウェーハ２０の裏面２２に対してウェットポリッシュが行われる。ウェットポリッシュの終了後には、第一真空手段５９は停止され、それにより、チャックテーブル１２ａの保持作用が解除される。そして、搬送ロボット１５によってウェーハ２０がチャックテーブル１２ａからカセット１１ｂまで搬送される。
Next, in the polishing
前述した一連の工程が終了すると、ターンテーブル１３がさらにインデックス回転して、チャックテーブル１２ａは図１に示される位置まで帰還する。図１に示されるこの位置においては、前述した研削作用および研磨作用により生じたスラッジが隙間Ｇを通じて吸着パッド５１ａ内に進入し、吸着パッド５１ａの外側領域に部分的に詰まっている（図１０を参照されたい）。
When the series of steps described above is completed, the
本発明においては、新たなウェーハ２０が載置される前に、チャックテーブル１２ａの吸着パッド５１ａは、第一の実施形態における吸着パッド洗浄装置１８によって洗浄される。吸着パッド洗浄装置１８による洗浄作用は他の吸着パッド５１ｂ〜５１ｄでも同様であるが、以下においては、吸着パッド洗浄装置１８による吸着パッド５１ａの洗浄作用を代表して説明する。
In the present invention, before the
吸着パッド５１ａを洗浄するときには、吸着パッド洗浄装置１８を起動して、蓋部３１を吸着パッド５１ａ上に位置決めする。これにより、脚部３３および封止部材３５がそれぞれ枠体５３ａおよび吸着面５２ａ上に載置され、従って、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１が蓋部３１により閉鎖されるようになる。その結果、内側領域Ｚ１に対応する吸着面５２ａと蓋部３１との間には空間Ａ１が形成される。
When cleaning the
次いで、洗浄液供給手段５８から洗浄液を中心通路５６ａに供給する。これにより、洗浄液は吸着パッド５１ａの隙間５５ａを通って吸着パッド５１ａの半径方向に広がり、次いで吸着パッド５１ａの吸着面５２ａ全体から流出する。前述したように、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２にはスラッジが詰まっているものの、そのようなスラッジは外側領域Ｚ２を通過する洗浄液によって吸着面５２ａから押出され、蓋部３１と枠体５３ａとの間を通って排出される。
Next, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply means 58 to the
また、洗浄液の一部は、内側領域Ｚ１において吸着面５２ａから流出する。しかしながら、蓋部３１と吸着面５２ａとの間の空間Ａ１が蓋部３１および封止部材３５により閉鎖されているので、空間Ａ１に流出した洗浄液およびスラッジは、空間Ａ１と吸着パッド５１ａとの間で循環し、最終的には蓋部３１と枠体５３ａとの間を通って排出される。つまり、一旦、空間Ａ１に流出した洗浄液も最終的には吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２におけるスラッジを排出するのに寄与する。このような構成であるので、本発明においては、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。
In addition, a part of the cleaning liquid flows out from the
図３（ａ）および図３（ｂ）は本発明の第二の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。これら図面に示されるように、第二の実施形態においては、貫通孔３６が封止部材３５の内側において蓋部３１に形成されている。図３（ａ）から分かるように、貫通孔３６はチャックテーブル１２ａの中心通路５６ａから偏心した位置に形成されている。そして、貫通孔３６は、気体、例えば不活性ガスを供給する気体供給手段３９に接続されている。
3 (a) and 3 (b) are a top view and a side sectional view, respectively, of a suction pad cleaning device according to the second embodiment of the present invention. As shown in these drawings, in the second embodiment, a through
第二の実施形態および後述する実施形態における吸着パッド洗浄装置１８は第一の実施形態の場合と同じタイミングで使用される。このとき、気体が気体供給手段３９から空間Ａ１に供給される。なお、このときには、洗浄液供給手段５８および第一真空手段５９は動作していない。
The suction
次いで、空間Ａ１内の気体は吸着面５２ａから吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１内に進入し、半径方向外側に広がる。そして、気体は外側領域Ｚ２に対応する吸着面５２ａから流出し、蓋部３１と枠体５３ａとの間を通って排出される。従って、前述した実施形態と同様に、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。なお、内側領域被覆部３０が吸着面５２ａに概ね接触していて空間Ａ１が存在しない場合でも、第二の実施形態の内側領域被覆部３０を適用することが可能である。
Next, the gas in the space A1 enters the inner region Z1 of the
また、気体供給手段３９に加えて、洗浄液供給手段５８を起動してもよい。このような場合には、気体が吸着面５２ａに吹付けけられるので、洗浄液は内側領域Ｚ１の吸着面５２ａから空間Ａ１に進入し難くなる。そして、このことによって低下した吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に供給される洗浄液の流量は、外側領域Ｚ２に供給される洗浄液の流量に加算される。すなわち吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給される洗浄液の流量が増すので、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジをより確実に排出できる。
In addition to the gas supply means 39, the cleaning liquid supply means 58 may be activated. In such a case, since the gas is blown onto the
さらに、洗浄液供給手段５８の駆動時には、洗浄液供給手段５８からの洗浄液は吸着面５２ａの中心部分において最も多量に流出する。この点に関し、図３（ａ）および図３（ｂ）から分かるように、第二の実施形態においては貫通孔３６が中心通路５６ａから偏心している。このため、洗浄液供給手段５８からの洗浄液と気体供給手段３９からの気体とが空間Ａ１内で直接的に衝突することはない。このような構成であるので、より効率的にスラッジが排出されるのが分かるであろう。なお、図３（ａ）および図３（ｂ）においては単一の貫通孔３６が示されているが、気体供給手段３９に接続された複数の貫通孔３６を備える構成であってもよい。
Further, when the cleaning liquid supply means 58 is driven, the cleaning liquid from the cleaning liquid supply means 58 flows out in the largest amount at the central portion of the
図４（ａ）および図４（ｂ）は本発明の第三の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。第三の実施形態においては、吸着パッド洗浄装置１８は吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２（図２（ａ）を参照されたい）を封止可能に被覆する外側領域被覆部６０を含んでいる。
4 (a) and 4 (b) are a top view and a side sectional view, respectively, of a suction pad cleaning device according to the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the suction
図４（ａ）および図４（ｂ）に示されるように、外側領域被覆部６０は断面Ｌ字形状の環状部材６２と、この環状部材６２に挿入された筒体６１とから主に構成されている。筒体６１の直径は、前述した吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１の直径に概ね等しい。図示されるように、これら筒体６１および環状部材６２の底端面には、弾性体、例えばエラストマから形成された環状の封止部材６５、６６がそれぞれ取付けられている。
As shown in FIGS. 4A and 4B, the outer
図４（ｂ）から分かるように、外側領域被覆部６０をチャックテーブル１２ａ上に配置すると、環状部材６２の封止部材６６が枠体５３ａの頂面に載置されると共に、筒体６１の封止部材６５が吸着パッド５１ａの吸着面５２ａ上に載置される。これにより、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２は外側領域被覆部６０によって被覆される。そして、筒体６１と環状部材６２との間には外側領域Ｚ２に対応した環状空間Ａ２が形成される。
As can be seen from FIG. 4B, when the outer
さらに、図４（ａ）に示されるように、環状部材６２の頂面には複数の貫通孔６４が等間隔で周方向に形成されている。図示されるように、貫通孔６４は第二真空手段６９に接続されており、第二真空手段６９が起動すると、筒体６１と環状部材６２との間の環状空間Ａ２に真空が適用されるようになる。
Further, as shown in FIG. 4A, a plurality of through
第三の実施形態において吸着パッド５１ａを洗浄するときには、洗浄液が洗浄液供給手段５８から吸着パッド５１ａに供給されると共に第二真空手段６９によって真空が環状空間Ａ２に適用される。なお、第一真空手段５９は動作していない。
When cleaning the
洗浄液供給手段５８からの洗浄液は吸着パッド５１ａの隙間５５ａを通って吸着パッド５１ａの半径方向に広がる。次いで、洗浄液は外側領域Ｚ２において吸着面５２ａから環状空間Ａ２を通って第二真空手段６９に吸引される。このように、洗浄液が吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２を通過するので、前述した実施形態と同様に、吸着パッドの外側領域に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。
The cleaning liquid from the cleaning liquid supply means 58 spreads in the radial direction of the
なお、第三の実施形態においては、洗浄液の一部が内側領域Ｚ１における吸着面５２ａから流出して、筒体６１内にわずかながら蓄積するのが好ましい。これにより、内側領域Ｚ１における吸着面５２ａも洗浄することができる。この目的のために、洗浄液供給手段５８による洗浄液の供給作用は、第二真空手段６９による洗浄液およびスラッジの吸引作用よりも強力にするのが好ましい。
In the third embodiment, it is preferable that a part of the cleaning liquid flows out of the
図５（ａ）および図５（ｂ）は本発明の第四の実施形態に基づく洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。これら図面に示されるように、第四の実施形態は筒体６１の底端部に蓋部６７が設けられている点において、第三の実施形態とは異なる。このような構成であるので、第四の実施形態においては、内側領域Ｚ１に対応する空間Ａ３が蓋部６７と吸着面５２ａとの間に形成される。図５（ｂ）から分かるように、空間Ａ３の高さは封止部材６５の高さに概ね等しい。
FIGS. 5A and 5B are a top view and a side sectional view, respectively, of a cleaning apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. As shown in these drawings, the fourth embodiment differs from the third embodiment in that a
内側領域Ｚ１における吸着面５２ａは露出しておらず、また、封止部材６５が筒体６１の底端部に取付けられているので、蓋部６７により形成される閉鎖空間Ａ３はかなり小さい。従って、第二真空手段６９による吸引の効果を高められ、その結果、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジをより確実に排出することが可能となる。
Since the
さらに、図６（ａ）および図６（ｂ）は本発明の第五の実施形態に基づく洗浄装置のそれぞれ頂面図および側断面図である。これら図面に示されるように、第五の実施形態は蓋部６７に貫通孔６８が形成されていると共に、貫通孔６８が気体供給手段３９に接続されている点において、第四の実施形態とは異なる。
Furthermore, FIG. 6A and FIG. 6B are a top view and a side sectional view, respectively, of a cleaning apparatus based on the fifth embodiment of the present invention. As shown in these drawings, the fifth embodiment is different from the fourth embodiment in that a through
第五の実施形態においては、吸着パッド５１ａの洗浄時に、気体、例えば不活性ガスが気体供給手段３９から空間Ａ３に供給される。これにより、洗浄液供給手段５８から空間Ａ３に流出した洗浄液が気体によって吸着パッド５１ａ内部に押戻され、半径方向に広がって環状空間Ａ２を通って吸引される。第五の実施形態においては、吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に供給された洗浄液を気体が押出すことにより、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給される洗浄液の流量を増加させられる。それゆえ、より効率的にスラッジが排出されるのが分かるであろう。
In the fifth embodiment, a gas, for example, an inert gas is supplied from the gas supply means 39 to the space A3 when the
なお、図６（ａ）および図６（ｂ）においては単一の貫通孔６８が示されているが、気体供給手段３９に接続された複数の貫通孔６８を備える構成であってもよい。また、第五の実施形態において気体供給手段３９のみを起動してもよい。この場合には、第二の実施形態と同様な効果が得られる。
6A and 6B, a single through
ところで、前述した第一から第五の実施形態においては、吸着パッド洗浄装置１８の内側領域被覆部３０または外側領域被覆部６０等を準備して、既存のチャックテーブル１２ａ〜１２ｄに単に配置すればよい。言い換えれば、これら第一から第五の実施形態においてはチャックテーブル１２ａ〜１２ｄを新たに作成する必要はなく、従って、製造費用を抑えることが可能となる。
By the way, in the first to fifth embodiments described above, the inner
ただし、本発明の他の実施形態においては、新たな構成のチャックテーブル１２ａ〜１２ｄを用いて、吸着パッドに詰まったスラッジを排出するようにしてもよい。図７は本発明の他の実施形態に基づくチャックテーブルの側断面図である。図７および後述する図８には、チャックテーブル１２ａを代表して示しているが、他のチャックテーブル１２ｃ〜１２ｄも同様の構成である。 However, in another embodiment of the present invention, sludge clogged in the suction pad may be discharged using the chuck tables 12a to 12d having a new configuration. FIG. 7 is a side sectional view of a chuck table according to another embodiment of the present invention. Although FIG. 7 and FIG. 8 described later show the chuck table 12a as a representative, the other chuck tables 12c to 12d have the same configuration.
図７に示されるチャックテーブル１２ａの枠体５３ａはテーブルベース５７上に載置されている。テーブルベース５７の下面には中心通路７０が形成されており、洗浄液供給手段５８および第一真空手段５９に接続されている。図示されるように、中心通路７０は、テーブルベース５７内において半径方向外側に延びる複数の外側領域通路７１に分岐している。
The
これら外側領域通路７１は、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に対応する部分において枠体５３ａの隙間５５ａに接続する。図７においては外側領域通路７１は吸着パッド５１ａの外周面近傍まで延びているが、外側領域通路７１は外側領域Ｚ２に対応する部分であれば、隙間５５ａのどの部分に接続されていてもよい。
These
図７に示される実施形態において吸着パッド５１ａを洗浄するときには、第一真空手段５９を停止させつつ、洗浄液供給手段５８を起動する。洗浄液供給手段５８からの洗浄液は外側領域通路７１を通って半径方向外側に流れ、次いで、外側領域Ｚ２における吸着面５２ａから流出する。さらに、一部の洗浄液は、隙間５５ａを通って半径方向内側に流れつつ、内側領域Ｚ１における吸着面５２ａから流出する。
In cleaning the
本発明の他の実施形態においては、洗浄液を外側領域通路７１に通して吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に直接的に供給している。従って、図７における矢印の寸法から分かるように、吸着面５２ａから流出する洗浄液の流量は、吸着パッド５１ａの外周面近傍で最も大きく、吸着パッド５１ａの中心付近において最も小さい。このように洗浄液の流量が吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２おいて最大となるので、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを確実に排出することが可能となる。
In another embodiment of the present invention, the cleaning liquid is directly supplied to the outer region Z2 of the
さらに、図８は本発明のさらに他の実施形態に基づくチャックテーブルの側断面図である。図８に示されるテーブルベース５７には、半径方向外側に延びる複数の外側領域通路７１に分岐する中心通路７０が形成されている。さらに、テーブルベース５７には、内側領域Ｚ１に対応する隙間５５ａに接続する内側領域通路７２が、中心通路７０に隣接して形成されている。これら中心通路７０および内側領域通路７２は、洗浄液供給手段５８および第一真空手段５９の両方に接続されている。
FIG. 8 is a side sectional view of a chuck table according to still another embodiment of the present invention. The
図８に示される実施形態において吸着パッド５１ａを洗浄するときには、第一真空手段５９を停止させつつ、洗浄液供給手段５８を起動する。洗浄液供給手段５８からの洗浄液は中心通路７０および外側領域通路７１を通って吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給されると共に、内側領域通路７２を通って吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に供給される。従って、吸着パッド５２ａの内側領域Ｚ１に供給される洗浄液の量が不足することはない。それゆえ、スラッジが吸着パッド５１ａの内側領域Ｚ１に詰まっている場合であっても、そのようなスラッジを排出することが可能になる。
In the embodiment shown in FIG. 8, when cleaning the
また、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを排出するのが困難である場合には、洗浄液供給手段５８によって外側領域通路７１に供給される洗浄液の流量を内側領域通路７２に供給される流量よりも増大させることも可能である。このような構成であるので吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジを確実に排出できるのが分かるであろう。
Further, when it is difficult to discharge the sludge clogged in the outer region Z2 of the
さらに、図８に示されるように、環状突起７５が内側領域Ｚ１と外側領域Ｚ２との間の境界線に沿って延びている。この環状突起７５は、吸着パッド５１ａ内部において内側領域Ｚ１と外側領域Ｚ２とを仕切る。図示されるように、環状突起７５の先端は吸着パッド５１ａの吸着面５２ａよりもわずかながら低い。また、環状突起７５は中実材料、例えば緻密なアルミナから形成されている。
Furthermore, as shown in FIG. 8, the
このような環状突起７５が備えられている場合には、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に供給された洗浄液は、内側領域Ｚ１にほとんど流れることなしに、外側領域Ｚ２における吸着面５２ａから流出する。言い換えれば、この場合には、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２における洗浄液の流量が低下することはなく、従って、吸着パッド５１ａの外側領域Ｚ２に詰まったスラッジをより確実に排出できる。
When such an
なお、複数の実施形態について説明したが、前述した実施形態のいくつかを適宜組み合わせることは本発明の範囲に含まれる。また、気体供給手段３９から気体の代わりに、液体、例えば洗浄液を供給してもよい。 Although a plurality of embodiments have been described, it is within the scope of the present invention to appropriately combine some of the above-described embodiments. Further, a liquid, for example, a cleaning liquid may be supplied from the gas supply means 39 instead of the gas.
１０ ウェーハ処理装置
１１ 表面保護フィルム
１１ａ、１１ｂ カセット
１２ａ〜１２ｄ チャックテーブル
１３ ターンテーブル
１５ 搬送ロボット
１８ 吸着パッド洗浄装置
２０ ウェーハ
３０ 内側領域被覆部
３１ 蓋部
３２ 連結部
３３ 脚部
３５ 封止部材
３６ 貫通孔
３９ 気体供給手段
４１ 粗研削ユニット
４２ 仕上研削ユニット
４３ 研磨ユニット
５１ａ〜５１ｄ 吸着パッド
５２ａ 吸着面
５３ａ 枠体（支持手段）
５５ａ 隙間
５６ａ 中心通路
５７ テーブルベース（支持手段）
５８ 洗浄液供給手段
５９ 第一真空手段
６０ 外側領域被覆部
６１ 筒体
６２ 環状部材
６４ 貫通孔
６５、６６ 封止部材
６７ 蓋部
６８ 貫通孔
６９ 第二真空手段
７０ 中心通路
７１ 外側領域通路
７２ 内側領域通路
７５ 環状突起（仕切手段）
Ｚ１ 内側領域
Ｚ２ 外側領域
DESCRIPTION OF
58 cleaning liquid supply means 59 first vacuum means 60 outer
Z1 inner area Z2 outer area
Claims (10)
前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記吸着面における前記吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部とを具備する、吸着パッド洗浄装置。 In the suction pad cleaning device for cleaning the suction pad that is supported by the support member and sucks the workpiece,
Cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid from the inside of the suction pad toward the suction surface of the suction pad;
A suction pad cleaning device comprising: an inner region covering portion that covers an inner region of the suction pad on the suction surface so as to be sealed from an outer region around the inner region.
前記吸着パッドの内部から前記吸着パッドの吸着面に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記吸着面における前記吸着パッドの外側領域を該外側領域に囲まれる内側領域から封止可能に被覆する外側領域被覆部と、
前記外側領域被覆部により被覆された前記吸着パッドの前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置。 In the suction pad cleaning device for cleaning the suction pad that is supported by the support member and sucks the workpiece,
Cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid from the inside of the suction pad toward the suction surface of the suction pad;
An outer region covering portion that covers an outer region of the suction pad on the suction surface so as to be sealed from an inner region surrounded by the outer region;
A suction pad cleaning apparatus comprising: vacuum means for applying a vacuum to the outer area of the suction pad covered with the outer area covering portion.
前記吸着面における前記吸着パッドの前記内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部と、
前記内側領域被覆部から前記吸着パッドの吸着面に向かって気体を供給する気体供給手段とを具備する、吸着パッド洗浄装置。 In the suction pad cleaning device for cleaning the suction pad that is supported by the support member and sucks the workpiece,
An inner region covering portion for covering the inner region of the suction pad on the suction surface so as to be sealed from an outer region around the inner region;
A suction pad cleaning device comprising: a gas supply unit configured to supply gas from the inner region covering portion toward the suction surface of the suction pad.
前記外側領域被覆手段により被覆された前記外側領域に真空を適用する真空手段とを具備する、請求項５または６に記載の吸着パッド洗浄装置。 Further, an outer region covering portion that covers the outer region of the suction pad on the suction surface so as to be sealable from the inner region;
The suction pad cleaning device according to claim 5, further comprising a vacuum unit that applies a vacuum to the outer region covered by the outer region covering unit.
該吸着パッドを支持する支持部材と、
該支持部材に形成されていて前記吸着パッドの内側領域周りに位置する外側領域まで延びる外側領域通路と、
洗浄液を前記外側領域通路に通して前記外側領域における前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を具備するチャックテーブル。 A suction pad for sucking the workpiece;
A support member for supporting the suction pad;
An outer region passage formed in the support member and extending to an outer region located around the inner region of the suction pad;
And a cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid to the suction surface of the suction pad in the outer region through the outer region passage.
前記洗浄液供給手段は、洗浄液を前記外側領域通路および前記内側領域通路に通して前記吸着パッドの吸着面に向かって供給する、請求項８に記載のチャックテーブル。 And an inner region passage formed in the support member and extending to the inner region of the suction pad.
The chuck table according to claim 8, wherein the cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid to the suction surface of the suction pad through the outer region passage and the inner region passage.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008288175A JP2010114394A (en) | 2008-11-10 | 2008-11-10 | Suction pad cleaning device and chuck table having suction pad |
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Publications (1)
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012004204A (en) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Disco Abrasive Syst Ltd | Pad cleaning device and pad cleaning method |
| JP2018078208A (en) * | 2016-11-10 | 2018-05-17 | 株式会社ディスコ | Chuck table |
-
2008
- 2008-11-10 JP JP2008288175A patent/JP2010114394A/en active Pending
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