JP2010089094A - レーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学系55のミラー56とリレーレンズ57との間に、レーザ光線Lの光軸と直交する平板状のマスク60を配設する。マスク60は水平方向に移動可能とし、マスク60に形成した移動方向に延びる細長い台形状の開口61に、レーザ光線Lを透過させる。ウェーハ1には開口61を透過する部分のレーザ光線Lの断面形状が結像する。マスク60を移動させることにより、ウェーハ1へのレーザ光線Lの結像幅を調整可能とした。
【選択図】図4
Description
[1]半導体ウェーハ
図1の符号1は、一実施形態でのワークである半導体ウェーハ(以下、ウェーハと略称)を示している。このウェーハ1はシリコン等の単結晶材料からなる円板状のもので、外周部の一部には、結晶方位を示すマークとしてオリエンテーションフラット1aが形成されている。
[2−1]全体構成
本実施形態のレーザ加工装置10では、ウェーハ1は、円板状のチャックテーブル(保持手段)41に表面を上に向けて水平にセットされる。そして、レーザ加工手段50のレーザヘッド52から分割予定ライン2にレーザ光線が照射されるようになっている。
以上がレーザ加工装置10の基本構成であり、該装置10によるレーザ加工は次のようにしてなされる。まず、レーザ加工すべきウェーハ1は、図1に示したように粘着テープ4を介してフレーム5に保持される。そしてこのウェーハ1は、チップ3が形成されている表面が上に向けられて、予め真空運転されているチャックテーブル41の上面に同心状に載置され、真空吸着作用で吸着、保持される。また、フレーム5がクランプ42によって保持される。
・光源…YAGレーザまたはYVO4レーザ
・波長…355nm
・出力(パルスエネルギー)…1.0〜2.0W
・繰り返し周波数…50kHz
・パルス幅…10ns
全ての分割予定ライン2にレーザ光線が照射されて1枚のウェーハ1に対するレーザ加工が終了したら、該レーザ加工の形態に応じた後工程にウェーハ1は移され、最終的に各チップ3を得る。例えばレーザ加工が溝形成であった場合には、残りの厚さがブレードでフルカットされてダイシングされ、各チップ3が粘着テープ4から剥離されてピックアップされる。また、レーザ加工がフルカットの場合はダイシングは完了であり、この後は各チップ3が粘着テープ4から剥離されてピックアップされる。
[3−1]マスクの構成
次に、上記集光光学系55のマスク60について説明する。
マスク60は、図4に示すように矩形板状のものであって、上記ミラー56とリレーレンズ57との間の適宜な位置に、水平な状態で設置されている。マスク60の長手方向一端部には、マスク移動手段の一部を構成するアーム65が接続されている。このアーム65の先にはシリンダ等の駆動手段が連結されており、この駆動手段によってマスク60は矢印で示す方向に往復移動させられる。この往復移動方向は、上記加工送りと平行な方向(図2、図4でX方向)であって、ミラー56で反射されてマスク60方向に照射されるZ方向と平行なレーザ光線Lの光軸に直交している。
上記マスク60を含む集光光学系55によれば、ミラー56でマスク60方向に反射されたレーザ光線Lは、マスク60の開口61を透過することにより、レーザ光線Lの照射領域の一部が開口61の両端縁で遮光され、かつ、横断面形状が開口61に対応する形状に形成される。そしてそのレーザ光線Lは、リレーレンズ57と対物レンズ58を透過してウェーハ1の分割予定ライン2に照射して結像される。図4に示すように、ウェーハ1へのレーザ光線Lの結像L1の形状は、開口61を透過する部分の断面形状に相似した形状となり、結像L1の幅は、レーザ加工によって分割予定ライン2に形成される加工ライン2Aの幅となる。例えばレーザ加工が溝を形成する加工であれば、結像の幅は溝の幅に相当する。
マスク60に形成される開口61の形状は上記実施形態に限定はされず、マスク60の移動に伴ってウェーハ1に対するレーザ光線の結像の幅を可変できる形状であれば、いかなる形状でも適用可能である。図6(a)〜(g)は、開口61の種々の形状を例示しており、マスク60は矢印方向に往復移動する。以下、開口61の形状を述べると、(a)は上記実施形態と同様に台形状、(b)は二等辺三角形状、(c)は台形状であるが左右の両端縁が内側に膨出している。これら開口61によると、マスク60を一方向に移動させると、レーザ光線の結像の幅がしだいに大から小、あるいは小から大に変化する。
本発明のマスクおよびマスク移動手段は、上記実施形態に限定はされず、様々な形態が考えられる。以下、マスクおよびマスク移動手段の別形態を例示する。
図7の符号80は、第1の別形態のマスクを示している。このマスク80は可撓性を有する帯状のもので、レーザ光線Lの光軸に対して直交する状態に配設される。マスク80の幅方向中央には、レーザ光線Lが透過するスリット状の開口(透過部)81が形成されている。開口81はマスク80の長手方向に延びる細長い左右対称のテーパ状に形成されている。開口81の幅は、マスク80の一端側から他端側に向かうにしたがい一定の割合で変化している。
図8の符号90は、第2の別形態のマスクを示している。このマスク90は円板状で、矩形板状のフレーム95に回転可能に嵌め込まれ、支持されている。マスク90は、中心の回転軸がレーザ光線Lの光軸と平行であって、面方向がレーザ光線Lと直交する状態に配設される。マスク90には、環状の開口(透過部)91が形成されている。この開口91は全周にわたっては形成されておらず、一端と他端が近接した不連続な環状である。開口91の幅は、一端から他端に向かうにしたがい一定の割合で変化している。開口91の幅方向中央を通る環状の中心線91aは、マスク90と同心状となっている。
10…レーザ加工装置
41…チャックテーブル(保持手段)
50…レーザ加工手段
53…発振器
53a…パルスレーザ光線発振器
55…集光光学系
60,80,90…マスク
61,81,91…開口(透過部)
65…アーム(マスク移動手段)
85,86…ローラ(マスク移動手段)
L…レーザ光線
L1…結像
Claims (2)
- ワークを保持する保持手段と、
該保持手段に保持された前記ワークにレーザ光線を照射する発振器、および該レーザ光線を前記ワークに導いて該レーザ光線の焦点を該ワークの所望箇所に結ぶ光学系を備えたレーザ加工手段と
を含むレーザ加工装置であって、
前記レーザ加工手段の前記光学系は、
前記レーザ光線が透過する透過部を有し、該透過部を透過させることにより前記レーザ光線の照射領域の一部を遮光するマスクと、
該マスクを、前記レーザ光線の光軸と略直交する方向に移動させることにより、前記透過部を透過する前記レーザ光線の遮光領域を変化させて、前記ワークへの該レーザ光線の結像幅を変化させるマスク移動手段と
を少なくとも備えることを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記透過部は、前記マスクの移動方向に向かうにしたがって幅が変化するテーパ状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012236204A (ja) * | 2011-05-11 | 2012-12-06 | V Technology Co Ltd | レンズおよびそのレンズを搭載したレーザ加工装置 |
JP2014212178A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ光遮蔽部材、レーザ処理装置およびレーザ光照射方法 |
JPWO2019082310A1 (ja) * | 2017-10-25 | 2020-11-19 | 株式会社ニコン | 加工装置、及び、移動体の製造方法 |
KR102236166B1 (ko) * | 2019-12-13 | 2021-04-02 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판의 자구 미세화 장치 |
KR20240007604A (ko) | 2022-07-08 | 2024-01-16 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011001474A1 (de) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Laser-Mikrodissektionsverfahren und Laser-Mikrodissektionsvorrichtung |
JP6882045B2 (ja) * | 2017-04-13 | 2021-06-02 | 株式会社ディスコ | 集光点位置検出方法 |
CN110545947B (zh) * | 2017-04-19 | 2021-05-28 | 沃尔沃卡车集团 | 具有用于接触钎焊焊丝并与检测器相关联地阻挡激光束的第一部分的夹具的激光钎焊***、监测激光钎焊***的方法 |
CN110468273A (zh) * | 2018-05-11 | 2019-11-19 | 株式会社东芝 | 激光喷丸装置以及激光喷丸方法 |
JP7123652B2 (ja) | 2018-06-20 | 2022-08-23 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
EP3761344A1 (en) * | 2019-07-05 | 2021-01-06 | Laser Systems & Solutions of Europe | System and method for spatially controlling an amount of energy delivered to a processed surface of a substrate |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60162218A (ja) * | 1984-02-02 | 1985-08-24 | Canon Inc | 露光装置 |
JPS62164311U (ja) * | 1987-03-30 | 1987-10-19 | ||
JPS6434612U (ja) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | ||
JP2005095936A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置及びレーザ加工工法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3947093A (en) * | 1973-06-28 | 1976-03-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical device for producing a minute light beam |
US4732148A (en) * | 1983-11-17 | 1988-03-22 | Lri L.P. | Method for performing ophthalmic laser surgery |
US5739502A (en) * | 1983-12-27 | 1998-04-14 | General Electric Company | Laser intensity redistribution |
US4908656A (en) * | 1988-01-21 | 1990-03-13 | Nikon Corporation | Method of dimension measurement for a pattern formed by exposure apparatus, and method for setting exposure conditions and for inspecting exposure precision |
IT1242932B (it) * | 1990-11-14 | 1994-05-18 | Guido Maria Nizzola | Apparecchiatura per la correzione della presbiopia mediante modellazione della superficie corneale per foto ablazione |
JP2773661B2 (ja) * | 1994-11-28 | 1998-07-09 | 日本電気株式会社 | ビームスキャン式レーザマーキング方法および装置ならびにこのためのマスク |
JPH1147965A (ja) * | 1997-05-28 | 1999-02-23 | Komatsu Ltd | レーザ加工装置 |
JP3800795B2 (ja) * | 1998-02-23 | 2006-07-26 | 富士ゼロックス株式会社 | レーザ加工条件自動設定方法およびレーザ加工条件自動設定装置 |
US6951627B2 (en) * | 2002-04-26 | 2005-10-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of drilling holes with precision laser micromachining |
JP2005262299A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
US7363180B2 (en) * | 2005-02-15 | 2008-04-22 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method for correcting systematic errors in a laser processing system |
US8278590B2 (en) * | 2005-05-27 | 2012-10-02 | Resonetics, LLC | Apparatus for minimizing a heat affected zone during laser micro-machining |
WO2007062130A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-31 | J.P. Sercel Associates Inc. | System and method for laser machining of three-dimensional structures |
JP2008180983A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Sei Tsunezo | レーザー微細加工方法 |
-
2008
- 2008-10-03 JP JP2008258187A patent/JP2010089094A/ja active Pending
-
2009
- 2009-08-25 TW TW098128512A patent/TW201015629A/zh unknown
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60162218A (ja) * | 1984-02-02 | 1985-08-24 | Canon Inc | 露光装置 |
JPS62164311U (ja) * | 1987-03-30 | 1987-10-19 | ||
JPS6434612U (ja) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | ||
JP2005095936A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置及びレーザ加工工法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012236204A (ja) * | 2011-05-11 | 2012-12-06 | V Technology Co Ltd | レンズおよびそのレンズを搭載したレーザ加工装置 |
JP2014212178A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ光遮蔽部材、レーザ処理装置およびレーザ光照射方法 |
JPWO2019082310A1 (ja) * | 2017-10-25 | 2020-11-19 | 株式会社ニコン | 加工装置、及び、移動体の製造方法 |
JP7238781B2 (ja) | 2017-10-25 | 2023-03-14 | 株式会社ニコン | 加工装置、及び、移動体の製造方法 |
KR102236166B1 (ko) * | 2019-12-13 | 2021-04-02 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판의 자구 미세화 장치 |
WO2021118011A1 (ko) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판의 자구 미세화 장치 |
KR20240007604A (ko) | 2022-07-08 | 2024-01-16 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US20100084386A1 (en) | 2010-04-08 |
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