JP2010081176A - 撮像装置及びその方法 - Google Patents

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賢造 五十川
Sunao Mishima
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Abstract

【課題】様々なカラーフィルタに対応して画質を高めることができる撮像装置及びその方法を提供する。
【解決手段】スペクトル強度関数は低い空間周波数に対応するスペクトル低周波強度関数と、高い空間周波数に対応するスペクトル高周波強度関数の和で構成されている。そして、前記スペクトル強度関数と撮像装置の撮像データ入力部201から得られた撮像データから定義されるモデル誤差を最小にするスペクトル強度関数のパラメータをスペクトル強度関数パラメータ推定部202によって推定して、ブロック内に入射する光のスペクトル毎の強度をスペクトル強度関数パラメータ推定部203で算出し、画像を生成する。
【選択図】 図2

Description

本発明は、撮像装置及びその方法に関する。
小型カメラの実現のために、撮像素子に数種類の分光透過スペクトルを持つカラーフィルタを並べたカラーフィルタ配列を装着した単板撮像素子によって得た撮像データから、カラー画像を得るというニーズがある。
カラーフィルタには主に、R,G,BのカラーフィルタからなるBayer配列が用いられている。単板撮像素子の撮像データからカラー画像を得るためにはデモザイキングという処理が必要であるが、単純な方法では偽色が発生する。
ACPI法(例えば、特許文献1参照)は、画像上の各点においてRGB信号の強度に相関を持たせて偽色を防いでいる。しかし、本来RGB信号が相関を持たない場所に適用した場合に鋸歯状に見えるノイズであるZipperノイズ(例えば、非特許文献3参照)が発生する問題点がある。また、このACPI法はBayer配列にしか適用できない。
非特許文献1,2の方法はともに高周波信号のみ相関を持たせているのでZipperノイズが軽減すると考えられる。しかし、Bayer配列に対する処理しか開示されていない。また、特許文献1の方法のようにエッジに応じて処理を変えることに対応できず、充分な画質が得られない可能性がある。
特許第3510037号公報 J. H. Glotzbach, et. al., 「A method of color filter array interpolation with alias cancellation properties,」 in Proc. IEEE Int. Conf. Image Processing, vol. 1, 2002, pp.141-144. D. Alleysson, et. al., 「Color demosaicing by estimating luminance and opponent chromatic signal in the fourier domain,」 in Proc. Color Imaging Conf.: Color Science, Systems, Applications, 2002, pp.331-336 W. Lu and Y. P. Tan, 「Color Filter Array Demosaicking: New Method and Performance Measures,」 Trans. on IP, vol. 12, pp. 1194--1210, 2003.
上述したように、従来技術では偽色の発生を抑えると色が変化する部分にZipperノイズが発生するという問題点があった。
また、Zipperノイズを抑える方法は、エッジに応じた処理が出来ず画質を上げられない可能性があるという問題点があった。
そこで本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、様々なカラーフィルタに対応して画質を高めることができる撮像装置及びその方法を提供することを目的とする。
本発明は、カラーフィルタによって異なる分光感度を持つ複数の画素から構成される撮像素子上の任意のブロックに含まれる各画素について、前記各画素の前記撮像素子上での位置を示す画素位置、分光感度及び測定信号量を含む撮像データを入力する入力部と、(1)前記ブロック内における、互いに異なるスペクトルを持つ光毎の強度を記述する複数のスペクトル強度関数のパラメータのそれぞれを、前記撮像データから推定するものであって、(2)前記スペクトル強度関数は、スペクトル低周波強度関数とスペクトル高周波強度関数の和で表され、(3)前記スペクトル高周波強度関数は、前記スペクトル低周波強度関数に比べて、前記カラーフィルタの配列のナイキスト周波数に基づいた高い空間周波数成分を多く含み、(4)前記スペクトル低周波強度関数のパラメータのそれぞれと前記スペクトル高周波強度関数のパラメータのそれぞれとを、前記撮像データから推定するパラメータ推定部と、前記複数のスペクトル強度関数と前記推定したパラメータとから、前記ブロック内の位置のそれぞれの前記光毎の強度を推定する強度推定部と、を備えた撮像装置である。
本発明によれば、様々なカラーフィルタに対応して画質を高めることができる。
以下、本発明の一実施形態の撮像装置について図1〜図4に基づいて説明する。
(1)撮像装置の概要
本実施形態の撮像装置では、撮像素子上の任意の大きさのブロック毎に処理を行う。また、ブロックをずらしながら処理を行うことで撮像素子上の全点に入射した光の強度を推定する。
以後の説明は、Bayer配列を用い図1に示すような7×7画素のブロックを例に行う。図1のブロック内の画素100〜148にはRGBいずれかのカラーフィルタが付与されているものとする。なお、図1では色が表現できないため、赤色(R)はドットで表現し、緑色(G)は左上がりのハッチで表現し、青色(B)は右上がりのハッチで表現している。
また、図1に示すように、ブロック中心の画素124の中心を原点とするx,yの2次元座標系を定義し、画素の間隔を1とする。すなわち、画素124の座標はp124=(x124,y124)=(0,0)となり、その左隣の座標はp125=(x125,y125)=(0,1)と表記する。
また、画素124から得られた測定信号量はs124というように、画素の番号に対応した添字をつけて表記する。つまり49の測定信号量s100〜s148を用い、ブロック中心p124におけるRGB信号を推定する。
次に、以下の実施形態の説明に必要となる「スペクトル強度関数」「モデル誤差E」について説明する。
(2)スペクトル強度関数
まず、スペクトル強度関数について述べる。
本実施形態の撮像装置では、ブロック内に入射した光の強度をx,yの関数であるスペクトル強度関数で記述する。スペクトル強度関数は予め定められたスペクトル毎に個別に定義される。以後の説明は、Bayerのカラーフィルタの分光透過スペクトルと同じRGBの3色のスペクトルに対応するスペクトル強度関数f(x,y),f(x,y),f(x,y)を用いる場合を例に説明する。
撮像データからスペクトル強度関数を正しく推定できれば、ブロック中心のRGB信号はf(0,0),f(0,0),f(0,0)として算出することができる。
本実施形態ではスペクトル強度関数を有限個の基底関数及び各基底関数に付与される実数であるスペクトル強度関数パラメータからなる形で定義する。以後は基底関数を三角関数とした下記の式(1)の場合を例に説明する。
Figure 2010081176
なお、基底関数のパラメータaRi,bRi,aGi,bGi,aBi,bBi,は全てデモザイキング処理の前にユーザーによって決定され撮像装置に記憶される実数である。これらの決定方法については後述する。
また、スペクトル強度関数パラメータαRi,βRi,αGi,βGi,αBi,βBi,は、全て実数であり撮像データから推定する。
なお、スペクトル強度関数のパラメータの総数は、ブロック内の画素数以下であることが必要である。例えば、図1のブロックで処理を行う場合は、スペクトル強度関数のパラメータの個数は49個以下でなくてはならない。
(3)モデル誤差E
次に、モデル誤差Eについて説明する。
(3−1)第1の説明
本実施形態ではモデル誤差Eを下記の式(2)のように定義する。
Figure 2010081176
なお、式(2)に登場するf(x,y)をモデル信号量と呼び、下記の式(3)によって定義される。
Figure 2010081176
但し、分光重みwiRはユーザーが決める実数であり、画素iに付与されたカラーフィルタの分光感度とスペクトル強度関数fに対応付けられたスペクトルが近いほど大きくする。他の分光重みwiG,wiBについても、同様の方法で決定する。例えば、画素iがRであるときにのみ1とし、他の場合は0とすることができる。この場合は分光重みw124R=1,w124G=0,w124B=0であり、w125R=0,w125G=1,w125B=0であり、w118R=0,w118G=0,w118B=1となる。
ブロック内に入射した光の分布とスペクトル強度関数が類似していれば、モデル信号量f(x,y)と測定信号量sは近い値をとる。すなわち、モデル誤差Eが小さくなると考えられる。逆に、モデル誤差Eを最小にするスペクトル強度関数パラメータαRi,βRi,αGi,βGi,αBi,βBiが得られれば、ブロック内の光の分布に近いスペクトル強度関数が得られると考えられる。
(3−2)第2の説明
なお、モデル誤差Eは正の数であり、|s−f(x,y)|と正の相関を持つものであれば式(2)の形である必要はないが、モデル誤差Eを最小にするスペクトル強度関数パラメータを求めるアルゴリズムが存在することが望ましい。例えば、スペクトル強度関数が式(1)の形を取る場合、画素から得られた測定信号量sを一列に並べた列ベクトルを測定信号量sとしスペクトル強度関数パラメータを並べた列ベクトルをpとすると、式(2)は実数の行列Wを用いて下記の式(4)の形に変形できる。
Figure 2010081176
式(4)の形のモデル信号量Eを最小にするパラメータp’を算出する方法は、最急降下法、共役勾配法など多数が提案されている。
また、パラメータp’は行列Wから算出される擬似逆行列Wを用いて、下記の式(5)としても得られる。
Figure 2010081176
式(5)は、画素から得られた測定信号量sを用いたフィルタリング演算でパラメータp’が算出可能であることを示しており、このフィルタ係数を事前に撮像装置内部に記憶しておくことで、反復解法である最急降下法や共役勾配法と比較して容易にパラメータp’を算出できる。
(3−3)第3の説明
また、式(2)では全ての画素を同等に扱っているが、下記の式(6)のように、正の実数である重みwを用いて画素毎に重みをつけても良い。
Figure 2010081176
例えば、図1のブロックのデータを用いて画素124のGB信号を推定する場合、ブロック中心に近い画素の重みを大きくすることにより、解像度感が向上する。式(6)の形のエネルギーはwの平方根を要素にもつ対角行列Kを用いると、下記の式(7)のように変形できる。
Figure 2010081176
そして、式(7)は、式(4)のエネルギーと同様に最急降下法、共役勾配法で解ける。また、下記の式(8)のように
Figure 2010081176
とすることで、フィルタリング演算でp’を算出することも可能である。
(3−4)第4の説明
他には、エッジに沿って並んだ画素に重みをつけると解像度感とS/Nを同時に高めることが可能である。
このような重みwを算出するには、例えば、米国出願公開2007/0047838号公報に記載の「Steering Kernel」を用いることができる。以後では、Steering Kernelの導出について述べる。
まず、同一のカラーフィルタを付与された3つの画素p,p,pの近傍の信号量を示す平面f(x,y)を式(9)で表す。
Figure 2010081176
すなわち、図4の平面401のx軸方向微分dxとy軸方向微分dyからなる2次元ベクトルである局所エッジをブロック内から取得する。ブロック内で同一のカラーフィルタを持つ3画素の組は多数定義できるため、局所エッジも複数求めることができる。
次に、この局所エッジの自己相関行列Cは下記の式(10)のようになる。
Figure 2010081176
この自己相関行列Cを用いて下記の式(11)に示す2次元ガウス分布N(x,y)を定義する。
Figure 2010081176
そして、2次元ガウス分布N(x,y)を用いて、wを式(12)の様に定義する。
Figure 2010081176
2次元ガウス分布N(x,y)の等高線は、エッジの形に応じて図5のように変化する。
例えば、図5(a)に示すように、斜め45度のエッジが入力されたときは楕円501のように長軸の向きが斜め45度の楕円が得られる。
また、図5(b)に示すように、水平のエッジが入力されたときは楕円502のように長軸の向きが水平の楕円が得られる。
さらに、図5(c)に示すように、コーナーやテクスチャのように線状でないエッジの場合は、楕円503のように直径の小さい円が得られる。
このようにして求めた対角行列Kを用いても、式(8)はそのまま用いることができる、すなわちフィルタリング演算を用いてモデル誤差Eを最小にするスペクトル強度関数のパラメータp’を算出することが可能である。
但し、エッジの形状に応じて対角行列Kを変化させる場合はフィルタ係数が対角行列Kに応じて変化する。そのためフィルタリング演算でパラメータp’を算出する場合には、異なる対角行列Kに対応する複数のフィルタ係数を事前にメモリに蓄積する必要がある。
(4)撮像装置の構成
以下、本実施形態の撮像装置の構成について説明する。
図2は、本実施形態に係わる撮像装置を示すブロック図である。
撮像装置は、単板撮像素子から撮像データを取得する撮像データ入力部(以下、単に「入力部」という)201と、単板撮像素子上の各点に入射する光の強度を波長毎に記述するスペクトル強度関数パラメータ推定部(以下、単に「パラメータ推定部」という)202と、スペクトル強度関数のパラメータから各画素に入射した光の強度を推定するスペクトル強度推定部(以下、単に「強度推定部」という)203とを備える。
なお、この撮像装置は、例えば、汎用のコンピュータ装置を基本ハードウェアとして用いることでも実現することが可能である。すなわち、入力部201、パラメータ推定部202、及び、強度推定部203は、上記のコンピュータ装置に搭載されたプロセッサにプログラムを実行させることにより実現することができる。このとき、本実施形態の撮像装置は、上記のプログラムをコンピュータ装置に予めインストールすることで実現してもよいし、CD−ROMなどの記憶媒体に記憶して、あるいはネットワークを介して上記のプログラムを配布して、このプログラムをコンピュータ装置に適宜インストールすることで実現してもよい。
(5)基底関数
パラメータ推定部202には、基底関数とモデル誤差Eを予め記憶させておく必要がある。基底関数は式(1)の形を保つべく、図1のブロックサイズと同じ7×7の画像をフーリエ級数展開するために用いる基底の中から、画質を見つつ取捨選択して生成する。
本実施形態ではスペクトル強度関数f(x,y)、f(x,y)、f(x,y)を式(13)のように定義してパラメータ推定部202の第1記憶部204に記憶させておく。
Figure 2010081176
そして、F(x,y)、F(x,y)、F(x,y)をスペクトル低周波強度関数と呼び、下記の式(14)のように定義する。
Figure 2010081176
また、F(x,y)をスペクトル高周波強度関数と呼び、下記の式(15)のように定義する。
Figure 2010081176
式(13)のスペクトル強度関数の独立なパラメータの個数は23個であり、図1のブロックに含まれる画素の数49個より少ない。
このスペクトル強度関数は、低周波数成分に相当するスペクト低周波強度関数F(x,y),F(x,y),F(x,y)と、高周波数成分に相当するスペクトル高周波強度関数F(x,y)に分かれており、またスペクトル高周波強度関数のみがRGBで共通化されている。スペクトル高周波強度関数を共通とすることで、RGB信号の相関を利用し偽色を抑圧することができる。また、スペクトル低周波強度関数を別にすることで、RGB信号の相関が無い場合に対処できる。
そして、高空間周波数と低空間周波数を分ける境界の空間周波数は、カラーフィルタ配列のナイキスト周波数を基準にするものである。例えば、カラーフィルタ配列のうち、最も配置間隔が広い、すなわち、最も疎なもののナイキスト周波数と、最も配置間隔が狭い、すなわち、最も密なもののナイキスト周波数との間に前記境界の空間周波数をユーザーが定める。
また、スペクトル高周波強度関数F(x,y)を構成する三角関数の空間周波数(以下、「高空間周波数」という)とスペクトル低周波強度関数F(x,y),F(x,y),F(x,y)を構成する三角関数の空間周波数(以下、「低空間周波数」という)は、ユーザーが画質をみて判断する。
例えば、次のように行う。まず、高空間周波数として最も疎なもののナイキスト周波数と、最も配
置間隔が狭い、すなわち、最も密なもののナイキスト周波数との間の空間周波数から1つ以上の周波数を選択する。次に低空間周波数を高空間周波数より低い空間周波数のなかから1つ以上選択する。
さらに説明すると、図1に示すカラーフィルタ配列のうち、最も配置間隔が広く、すなわち、最も疎なもののナイキスト周波数以上を、高空間周波数とする。言い換えると、スペクトル高周波強度関数は、撮像素子内における密度が最も低いカラーフィルタを付与された画素の配置間隔に着目して、その配置間隔の2倍以上の波長に対応する空間周波数以上の周波数からなる。一方、スペクトル低周波強度関数は、高空間周波数より低い周波数成分を持つ。
これによりエッジに沿った高周波の形で発生するZipperノイズを軽減することが出来る。
(6)モデル誤差E
本実施形態では、式(6)のモデル誤差Eを利用し、各画素に付与する分光重みwは(3−4)第4の説明の通りに決定して、パラメータ推定部202の第2記憶部205に記憶させておく。
また、式(2)のモデル誤差Eを利用することも可能であるが、f(x,y),f(x,y),f(x,y)には高周波成分が無いため、出力画像にボケが発生する可能性がある。しかし、式(6)のモデル誤差を利用し、エッジの方向と強度に応じた処理を行うことで、出力画像のボケを低減できる。
(7)撮像装置の動作
次に、図2及び図3を用いて、本実施形態に係わる撮像装置の動作について説明する。なお、図3は、撮像装置の動作を示すフローチャートである。
まず、入力部201は、ブロック内の各画素が持つ分光感度と各画素において得られた測定信号量からなる撮像データを取得する(ステップ1)。
次に、パラメータ推定部202は、ブロック内の画素に位置やエッジに応じた正の実数である分光重みwをつける(ステップ2)。
その後、式(6)のモデル誤差Eを最小にするスペクトル強度関数のパラメータを算出する(ステップ3)。
最後に、強度推定部203は、パラメータ推定部202から得られたスペクトル強度関数のパラメータを用いて、ブロック中心(x,y)=(0,0)における光の強度を算出する(ステップ4)。既にこれまでの処理でスペクトル強度関数が得られているので、スペクトル強度関数にx=0,y=0を代入することでブロック中心の光の強度を算出することができる。
(8)効果
このように本実施形態によれば、ブロック内の光の強度のモデルであるスペクトル強度関数のパラメータを測定信号量から推定することで、ブロック内の異なるスペクトルを持つ光の強度を個別に推定することが可能になる。
(変更例)
本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
例えば、本発明の実施形態は以下に述べる要素を変更して実施することも可能である。
(1)変更例1
ブロックの形状は必ずしも図1に示すような7×7の正方形のブロックである必要はない。但し、以下の2条件を満たすことが望ましい。
第1の条件は、スペクトル強度関数の定義の項で述べたが、ブロックに含まれる画素の数がスペクトル強度関数の独立なパラメータの数より多いことが望ましい。
第2の条件は、各色の画素の数は低周波成分が持つ独立なパラメータの数より多いことが望ましい。例えば、式(14)ではF(x,y),F(x,y),F(x,y)がそれぞれ独立な5つのパラメータを持っているため、ブロック内のRGBの各画素の数も5つ以上であることが望ましい。図1のブロックは、最も少ないRの画素でもブロック内に9個存在しており、この条件を満たしている。
上記の2条件を満たしている限り、ブロックの形状は正方形ではなく例えば8角形、ひし形、円形など、任意の形を選ぶことが出来る。但し、ブロック中心に対し点対称の形が望ましい。
(2)変更例2
スペクトル強度関数は式(14)、式(15)の形である必要はない。
まず、基底関数の個数は必要に応じて増減させても良い。
また、最終的にF(x,y),F(x,y),F(x,y),F(x,y)に持たせる空間周波数は画質を見て調整してもよい。但し、スペクトル高周波強度関数に高周波成分を含めるとZipperノイズが発生する可能性が高まり、スペクトル低周波強度関数に高周波成分を含めると偽色が発生する可能性が高まる。
(3)変更例3
スペクトル強度関数の元となる基底関数は、必ずしも式(1)の形である必要はない。例えば、多項式を用いて、スペクトル低周波強度関数を下記の式(16)のように定義する。
Figure 2010081176
また、スペクトル高周波強度関数を下記の式(17)のように定義する。
Figure 2010081176
4つの関数F,F,F,Fにどの次数の多項式を割り当てるかはユーザーが指定する。すなわち、スペクトル低周波強度関数は定数項と次数の低い多項式から構成し、スペクトル高周波強度関数の各項はスペクトル低周波強度関数より高い次数の多項式から構成する。
なお、スペクトル低周波強度関数とスペクトル高周波強度関数は、有限個の基底関数を実数で重み付けして加算する形で実現される。例えば、式(14)、式(15)では基底関数として三角関数が使われており、式(16)、式(17)では基底関数として多項式が使われている。基底関数としては他の関数を用いることも可能であるが、ウェーブレットの基底など高周波を表現するものと低周波を表現するものを分けられることが望ましい。
また、スペクトル低周波強度関数で表される低空間周波数とスペクトル高周波強度関数で表される高空間周波数とは、式(14)と式(15)のようにそれぞれ低空間周波数成分のみと高空間周波数成分のみを含むものである必要がない。すなわち、上記のような式(16)と式(17)の多項式で表現した場合には、低空間周波数であっても高い空間周波数成分が含まれていても、低い空間周波数の成分の比率が高い空間周波数成分より高ければよい。なお、高空間周波数成分も同様に低い空間周波数の成分が少し含まれていても良い。
(4)変更例4
カラーフィルタ配列は、必ずしもBayer配列である必要はない。
例えば、特開2006−211631公報記載のカラーフィルタのように画素が正方配列でないものを用いても、式(1)〜式(13)は変化しないため、そのまま実施することが可能である。
但し、Zipperノイズとなりやすい空間周波数は画素の配置間隔によるため、スペクトル強度関数が持つ空間周波数は、カラーフィルタ毎に画質を見て調整する必要がある。
(5)変更例5
本実施形態は、分光重みを変更することで、RGB以外のカラーフィルタにも適用が可能である。
例えば、黄色(Ye)は赤(R)と緑(G)を混ぜたものであるため、Yeのカラーフィルタが付与された画素pにおいては、分光重みをwiR,=1, wiG,=1,wiB,=0とすればよい。
同様に、シアン(Cy)では、wiR,=0,wiG,=1,wiB,=1、マゼンタ(Mg)ではwiR,=1,wiG,=0,wiB,=1、白もしくはカラーフィルタなし(W)ではwiR,=1,wiG,=1,wiB,=1とすればよい。
(6)変更例6
スペクトル強度関数はRGBの3つに限定する必要は無い。
例えば、マルチスペクトル撮像に対応するため、スペクトル強度関数を4つ以上に増やし、各スペクトル強度関数に異なる光の波長を関連付けことも可能である。
その場合の分光重みは、スペクトル強度関数に対応付けられた波長における、当該カラーフィルタの透過率が高いほど分光重みを大きくすれば良い。
本発明の一実施形態の処理単位であるブロックを示す図である。 本実施形態に係わる撮像装置の構成を示すブロック図である。 本実施形態の動作を示すフローチャートである。 平面404の説明図である。 エッジの形に応じて変化した2次元ガウス分布の等高線の説明図である。
符号の説明
201 撮像データ入力部
202 スペクトル強度関数パラメータ推定部
203 スペクトル強度推定部

Claims (14)

  1. カラーフィルタによって異なる分光感度を持つ複数の画素から構成される撮像素子上の任意のブロックに含まれる各画素について、前記各画素の前記撮像素子上での位置を示す画素位置、分光感度及び測定信号量を含む撮像データを入力する入力部と、
    (1)前記ブロック内における、互いに異なるスペクトルを持つ光毎の強度を記述する複数のスペクトル強度関数のパラメータのそれぞれを、前記撮像データから推定するものであって、(2)前記スペクトル強度関数は、スペクトル低周波強度関数とスペクトル高周波強度関数の和で表され、(3)前記スペクトル高周波強度関数は、前記スペクトル低周波強度関数に比べて、前記カラーフィルタの配列のナイキスト周波数に基づいた高い空間周波数成分を多く含み、(4)前記スペクトル低周波強度関数のパラメータのそれぞれと前記スペクトル高周波強度関数のパラメータのそれぞれとを、前記撮像データから推定するパラメータ推定部と、
    前記複数のスペクトル強度関数と前記推定したパラメータとから、前記ブロック内の位置のそれぞれの前記光毎の強度を推定する強度推定部と、
    を備えた撮像装置。
  2. 前記スペクトル高周波強度関数が、前記異なるスペクトルに対応する複数の前記スペクトル強度関数の間で共通である、請求項1記載の撮像装置。
  3. 前記スペクトル低周波強度関数が、前記異なるスペクトルに対応する複数の前記スペクトル強度関数の間でそれぞれ異なる、請求項1記載の撮像装置。
  4. 前記スペクトル強度関数は、前記ブロック内の前記位置の関数である複数の基底関数のそれぞれを、実数である前記パラメータで重み付けして加算した関数である、請求項1記載の撮像装置。
  5. 前記スペクトル低周波強度関数と前記スペクトル高周波強度関数をなす前記基底関数が三角関数である、請求項4記載の撮像装置。
  6. 前記スペクトル低周波強度関数と前記スペクトル高周波強度関数をなす前記基底関数は多項式であり、前記スペクトル低周波数強度関数の各項は次数の低い多項式から成り、前記スペクトル高周波強度関数の各項は、前記スペクトル低周波強度関数より高い次数の多項式からなる、請求項4記載の撮像装置。
  7. 前記パラメータ推定部は、
    前記複数のスペクトル強度関数を記憶する第1記憶部と、
    前記撮像素子の各画素において、前記各スペクトル強度関数にそれぞれ対応付けられた前記スペクトルと、前記画素が持つ前記分光感度が類似しているほど大きくなる実数である分光重みを記憶する第2記憶部と、
    前記分光重みを用いた前記スペクトル強度関数の重み付け和であるモデル信号量を求め、
    前記モデル信号量と、前記各画素の前記測定信号量の差の絶対値が小さくなるほど小さくなるモデル誤差が、最小となるように前記パラメータを求める演算部と、
    を備える請求項1記載の撮像装置。
  8. 前記パラメータ推定部は、
    前記複数のスペクトル強度関数を記憶する第1記憶部と、
    前記撮像素子の各画素において、前記各スペクトル強度関数にそれぞれ対応付けられた前記スペクトルと、前記画素が持つ前記分光感度が類似しているほど大きくなる実数である分光重みを記憶する第2記憶部と、
    前記分光重みを用いた前記スペクトル強度関数の重み付け和であるモデル信号量を求め、
    前記各画素の前記測定信号量と、前記モデル信号量の差の二乗の和が小さくなるほど小さくなるモデル誤差が、最小となるように前記パラメータを求める演算部と、
    を備える請求項1記載の撮像装置。
  9. 前記パラメータ推定部は、
    前記複数のスペクトル強度関数を記憶する第1記憶部と、
    前記撮像素子の各画素において、前記各スペクトル強度関数にそれぞれ対応付けられた前記スペクトルと、前記画素が持つ前記分光感度が類似しているほど大きくなる実数である分光重みを記憶する第2記憶部と、
    前記分光重みを用いた前記スペクトル強度関数の重み付け和であるモデル信号量を求め、
    前記各画素の前記測定信号量と前記モデル信号量の差の二乗の値に、正の実数である重みを乗じて加算した値が小さくなるほど小さくなるモデル誤差が、最小となるように前記パラメータを求める演算部と、
    を備える請求項1記載の撮像装置。
  10. 前記第1記憶部が記憶している2つ以上、または、全ての前記スペクトル強度関数について、同一の基底関数に対応するパラメータが同一である、
    請求項6乃至9のいずれか一項に記載の撮像装置。
  11. 前記スペクトル高周波強度関数で表される空間周波数は、前記スペクトル低周波強度関数で表される空間周波数より高い周波数成分のみを有する、
    請求項1記載の撮像装置。
  12. 前記スペクトル高周波強度関数で表される空間周波数は、前記カラーフィルタの配列の中で、最も配置間隔が広い画素のナイキスト周波数以上の空間周波数を有し、
    前記スペクトル低周波強度関数で表される空間周波数は、前記スペクトル高周波強度関数で表される空間周波数より低い周波数成分を有する、
    請求項1記載の撮像装置。
  13. カラーフィルタによって異なる分光感度を持つ複数の画素から構成される撮像素子上の任意のブロックに含まれる各画素について、前記各画素の前記撮像素子上での位置を示す画素位置、分光感度及び測定信号量を含む撮像データを入力する入力ステップと、
    (1)前記ブロック内における、互いに異なるスペクトルを持つ光毎の強度を記述する複数のスペクトル強度関数のパラメータのそれぞれを、前記撮像データから推定するものであって、(2)前記スペクトル強度関数は、スペクトル低周波強度関数とスペクトル高周波強度関数の和で表され、(3)前記スペクトル高周波強度関数は、前記スペクトル低周波強度関数に比べて、前記カラーフィルタの配列のナイキスト周波数に基づいた高い空間周波数成分を多く含み、(4)前記スペクトル低周波強度関数のパラメータのそれぞれと前記スペクトル高周波強度関数のパラメータのそれぞれとを、前記撮像データから推定するパラメータ推定ステップと、
    前記複数のスペクトル強度関数と前記推定したパラメータとから、前記ブロック内の位置のそれぞれの前記光毎の強度を推定する強度推定ステップと、
    を備えた撮像方法。
  14. カラーフィルタによって異なる分光感度を持つ複数の画素から構成される撮像素子上の任意のブロックに含まれる各画素について、前記各画素の前記撮像素子上での位置を示す画素位置、分光感度及び測定信号量を含む撮像データを入力する入力機能と、
    (1)前記ブロック内における、互いに異なるスペクトルを持つ光毎の強度を記述する複数のスペクトル強度関数のパラメータのそれぞれを、前記撮像データから推定するものであって、(2)前記スペクトル強度関数は、スペクトル低周波強度関数とスペクトル高周波強度関数の和で表され、(3)前記スペクトル高周波強度関数は、前記スペクトル低周波強度関数に比べて、前記カラーフィルタの配列のナイキスト周波数に基づいた高い空間周波数成分を多く含み、(4)前記スペクトル低周波強度関数のパラメータのそれぞれと前記スペクトル高周波強度関数のパラメータのそれぞれとを、前記撮像データから推定するパラメータ推定機能と、
    前記複数のスペクトル強度関数と前記推定したパラメータとから、前記ブロック内の位置のそれぞれの前記光毎の強度を推定する強度推定機能と、
    をコンピュータによって実現させるための撮像プログラム。
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