JP2010055095A - ハイブリッド光学フィルム及びこれを具備したディスプレイ装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】構造を単純化することで軽量・薄型化を達成し且つコストを節減することができるハイブリッド光学フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学フィルムであって、単一フィルムからなり、フィルム基材と、上記フィルム基材の一面に直接形成される第１光学パターン、及び上記フィルム基材の他面に直接形成される第２光学パターンとを具備し、上記第１光学パターン及び上記第２光学パターンは、外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターン、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターン及びアンチグレアのための凹凸パターンのいずれかである。また、ハイブリッド光学フィルムの製造方法であって、フィルム基材の一面に直接第１光学パターンを形成し、上記フィルム基材の他面に直接第２光学パターンを形成するパターン形成ステップを含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、ディスプレイモジュールの前方に具備される光学フィルムに係り、より詳しくは、構造を単純化することでコストを節減し、製造工程を短縮することで生産性を向上させることができるハイブリッド光学フィルム、ディスプレイ装置、及びその製造方法に関する。

情報化社会が進展するにつれ、映像ディスプレイ関連部品及び機器が顕著に進歩し且つ高速で普及してきている。その中でも、画像を表示するディスプレイ装置は、テレビ専用、パーソナルコンピューターのモニター用などとして顕著に普及してきており、ディスプレイ装置の大型化と薄型化が同時に進行している。

一般に、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、以下、ＰＤＰ）装置は、既存のディスプレイ装置を代表するＣＲＴ装置に比べ、大型化及び薄型化を同時に満足することができ、次世代ディスプレイ装置として脚光を浴びている。かかるＰＤＰ装置は、ガス放電現象を利用して画像を表示するものであって、表示容量、輝度、コントラスト、残像、視野角などの各種の表示能力に優れている。また、ＰＤＰ装置は、他の表示装置よりも大型化が容易で且つ薄型の発光型表示装置であって、今後、高品質のテレビ向けとして最も適合した特性を取り揃えているものと評価されており、ＣＲＴ装置を代替できるディスプレイ装置として脚光を浴びている。

ＰＤＰ装置は、電極に印加される直流または交流電圧によって電極間のガスから放電が発生し、これに伴う紫外線の放射によって蛍光体を励起させることで可視光を発光するものである。しかし、ＰＤＰ装置は、人体に有害な電磁波（ＥｌｅｃｔｒｏＭａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）、リモコンなどの誤作動を引き起こす近赤外線（Ｎｅａｒ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｒａｙ：ＮＩＲ）及び色純度に悪い影響を及ぼすオレンジ色光を放出するという短所がある。

したがって、ＰＤＰ装置は、電磁波や近赤外線を遮蔽すると共に色純度を向上させ、且つ反射光を減少させるために、電磁波の遮蔽、近赤外線の遮蔽、色純度の改善及び／または表面の光反射防止などの機能を有するＰＤＰフィルターを採用している。

従来技術によるＰＤＰフィルターは、外光遮蔽フィルム、電磁波遮蔽フィルム、色補正フィルムなどのそれぞれの機能を果たす多数のフィルムを粘着剤にて透明基板上に粘着して製造する。

したがって、それぞれの機能を果たす多数のフィルムが透明基板に付着されるため構成フィルムの枚数が増加することで、軽量・薄型化を妨害し且つコストをアップさせるという問題点があった。また、多数の粘着工程を必要とすることから、製造工程が複雑となり生産性が良くないという問題点があった。さらには、構成フィルムの枚数及び粘着剤層の層数の増加は透過率の低下をもたらし、終局的にディスプレイ品質を低下させる問題点があった。

本発明は、上記のような従来技術の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、構造を単純化することで軽量・薄型化を達成し且つコストを節減することができるハイブリッド光学フィルム及びその製造方法を提供することである。

本発明の他の目的は、製造工程を短縮することで生産性を向上させることができるハイブリッド光学フィルム及びその製造方法を提供することである。

本発明のまた他の目的は、透過率の低下を防止することで、優れたディスプレイ品質を確保することができるようにすることである。

上記目的を達成するために、本発明は、ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行する光学フィルムであって、単一フィルムからなり、フィルム基材と、上記フィルム基材の一面に直接形成される第１光学パターン、及び上記フィルム基材の他面に直接形成される第２光学パターンと、を具備することを特徴とするハイブリッド光学フィルムを提供する。

好ましくは、上記第１光学パターン及び上記第２光学パターンは、外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターン、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターン及びアンチグレアのための凹凸パターンのいずれかである。

また、本発明は、ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行するハイブリッド光学フィルムの製造方法であって、フィルム基材の一面に直接第１光学パターンを形成し、上記フィルム基材の他面に直接第２光学パターンを形成するパターン形成ステップを含むことを特徴とするハイブリッド光学フィルムの製造方法を提供する。

好ましくは、上記パターン形成ステップは、上記フィルム基材に凹溝を形成する凹溝形成ステップと、上記凹溝に外部環境光を吸収する光吸収物質または電磁波遮蔽のための導電性物質を充填する充填ステップとを含む。

上記構成によれば、本発明は、単一フィルムからなるハイブリッド光学フィルムを提供することで、軽量・薄型化及びコストの節減を達成できるという利点がある。

一回の工程によりフィルム基材の両面にそれぞれ機能性光学パターンを形成することで、製造工程を短縮し生産性を向上させることができるという利点がある。従来の別個に製造してから貼り合わせなければならないという複雑な製造工程に比べ、大幅に製造工程を短縮し生産性を向上させることができるようになる。

特に、連続ロール・ツー・ロール工程、より好ましくは、単一連続流れの押出及びロール・ツー・ロール工程を利用する場合、その製造工程を革新的に促進させ且つ簡素化することで、大幅に生産性を向上させることができるようになる。

さらには、透明高分子樹脂に色補正用色素及び／または近赤外線吸収物質を含ませてフィルム基材を作製するか、色補正用色素及び／または近赤外線吸収物質を粘着剤に含ませてフィルム基材を作製することで、層一層コストを節減し生産性を向上させることができるという利点がある。

また、単一フィルムでハイブリッド光学フィルムを構成することで、透過率の低下を防止し、優れたディスプレイ品質を確保することができるという利点がある。

本発明の第１の実施形態によるハイブリッド光学フィルムの斜視図である。 本発明の第２の実施形態によるハイブリッド光学フィルムの断面図である。 図２のハイブリッド光学フィルムの製造工程を示す図である。 本発明の第３の実施形態によるハイブリッド光学フィルムを示す図である。 図４のハイブリッド光学フィルムの導電性メッシュパターンを示す図である。 図４のハイブリッド光学フィルムの製造工程を示す図である。 本発明の第４の実施形態によるディスプレイ装置を示す分解斜視図である。

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳しく説明する。

図１は、本発明の第１の実施形態によるハイブリッド光学フィルムの斜視図である。

本発明のハイブリッド光学フィルムは、ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備される。ハイブリッド光学フィルムは、ディスプレイフィルターの機能を遂行する。

図示したように、本発明のハイブリッド光学フィルムは、単一フィルムからなる。なお、「単一フィルムからなる」ということが、図２に示すようにフィルム基材の表面に粘着剤が塗布されるか、または本発明のハイブリッド光学フィルムに他の機能性フィルムが粘着されることを排除することを意味するものではない。例えば、本発明のハイブリッド光学フィルムにＡＲ（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルム、Ａｎｔｉ−Ｆｏｇフィルムなどの他の機能性フィルムを粘着してよい。さらには、外光遮蔽パターン、導電性メッシュパターン、凹凸パターンなどを有するハイブリッド光学フィルムであるとしても、機能強化のために別途の外光遮蔽フィルム、電磁波遮蔽フィルム、Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅフィルムなどが粘着されることを排除しない。

ハイブリッド光学フィルムは、フィルム基材と、第１光学パターンと、第２光学パターンを含む。第１光学パターンは、フィルム基材の一面に直接形成される。第２光学パターンは、フィルム基材の他面に直接形成される。

図１は、第１光学パターンが外光遮蔽パターンで、第２光学パターンがアンチグレアのための凹凸パターンである実施形態を示している。

外光遮蔽パターンには、外部からディスプレイモジュールに流入される外部環境光を吸収する光吸収物質が充填される。外光遮蔽パターンは、フィルム基材に所定の深さで形成され外部環境光の流入を遮蔽できるものであれば、特にその形状に制限はない。例えば、外光遮蔽パターンは、くさび状断面−ストライプ形状、くさび状断面−波形状、くさび状断面−マトリックス形状、くさび状断面−ハニカム形状、四角形断面−ストライプ形状、四角形断面−波形状、四角形断面−マトリックス形状、または四角形断面−ハニカム形状を有してよい。図１及び図２では、くさび状断面−ストライプ形状の外光遮蔽パターンを示している。

フィルム基材１００は、典型的に透明高分子樹脂からなる。その材質としては、高い透明性を有し光学パターンを形成することができる材質であれば特にその材質に制限はない。例えば、ポリエステル系、アクリル系、セルローズ系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート系、フェノール系、ウレタン系などを使用すればよい。

フィルム基材は、色補正色素、近赤外線吸収物質などを含むことができる。この場合、別途の色補正フィルム及び／または近赤外線遮蔽フィルムを設けなくて済み、これは、コストダウンや生産性の向上及び透過率の向上につながる。

色補正色素は、可視光線内の特定の波長を吸収する。色補正色素は、調色用色素及び／またはネオンカット色素を含む。

調色用色素は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｇ）の量を減少または調節することで色バランスを変化または調整する色補正機能を遂行する。

一般に、ＰＤＰ装置は、本質的にオレンジ色のネオン光を放出し、これによって色純度が低下する。このため、ネオンカット色素を利用して、５８０〜６００ｎｍの波長帯を有するオレンジ色のネオン光を吸収する。

ディスプレイの色再現範囲を増大させ、画面の鮮明度を向上させるために各種の色補正色素を使用することができる。このような色素としては、染料あるいは顔料を使用することができる。色素の種類としては、シアニン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、フフタロシアニン系、ジイモニウム系、ニッケルジチオール系、アゾ系、ストリル系、メチン系、ポルフィリン系、アザポルフィリン系などの色素がある。なお、色素の種類と濃度は、特定の種類と数値に限定されず、色素の吸収波長、吸収係数、ディスプレイに要求される透過特性に応じて変わり得る。

近赤外線吸収物質は、近赤外線波長領域の光を吸収する。本発明において使用可能な近赤外線吸収物質は、特に制限されず、ニッケル錯体系とジアンモニウム系の混合色素、銅イオンと亜鉛イオンを含む化合物色素、シアニン系色素、アントラキノン系色素、スクアリリウム系、アゾメチン系、オキソノール、アゾ系またはベンジリデン系化合物からなる群より選択される１種以上を使用することができる。

本発明のハイブリッド光学フィルムは、近赤外線透過率が１０％以下であることが好ましい。特に、８５０ｎｍ波長の近赤外線の透過率が上記値を満足することが好ましい。近赤外線の透過率が１０％を超える場合、近赤外線によってリモコンや精密機器が誤動作を引き起こす危険性が急増するようになる。

フィルム基材１００は、紫外線吸収剤を更に含むことができる。上記紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤を使用することができる。透明性の観点からは、有機系紫外線吸収剤の方がより好ましい。ここで、上記有機系紫外線吸収剤としては、公知のものであれば特に制限されずに使用することができるが、その中でも、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、環状イミノエステルが好適であり、特に、耐熱性の観点から環状イミノエステルが好ましい。また、上記紫外線吸収剤を２種以上併用することもできる。

外光遮蔽パターン２００は、典型的にフィルム基材１００の裏面においてその底面がディスプレイモジュールに向かうように形成されるが、必ずしもそれに限定されるものではない。図１において、外光遮蔽パターンは、所定の周期にて離間して並列する。

外光遮蔽パターン２００には光吸収物質が充填される。光吸収物質としては、光を吸収できる黒色の無機物、有機物、金属などを使用することができる。好ましくは、光吸収物質はカーボンブラックであればよい。金属粉末を添加して外光遮蔽パターン２００を形成する場合、金属粉末の濃度によって電気抵抗の調節が可能であるため、外光遮蔽パターン３００は電磁波遮蔽機能を遂行することができる。このために、表面が黒く処理されたまたは黒色の金属を使用するか、黒色の光吸収物質に金属を混合して使用することができる。また、外光遮蔽パターン２００には、上記光吸収物質の他、紫外線硬化性樹脂を充填することもできる。

外光遮蔽パターン２００は、ピッチＰ、深さＱ、広幅Ｈ１、狭幅Ｈ２及び傾き角θによって外光遮断効果、透過率、上下の視野角が左右される。外光遮蔽パターンの屈折率と上記フィルム基材の屈折率との差は、０．０５以内であることが好ましい。外光遮蔽パターン２００は、視聴者に対して横方向または縦方向に配列されてよい。

凹凸パターン３００は、光反射を減らし、モアレ除去機能を遂行する。図１は、凹凸パターンが、粗さパターンである実施形態を示している。なお、凸凹パターンの形状としては、エンボスパターンなど、アンチグレア効果が得られるパターンであれば、その形状に特に制限はない。

図２は、本発明の第２の実施形態によるハイブリッド光学フィルムの断面図である。

第２の実施形態によるハイブリッド光学フィルムは、フィルム基材の少なくともいずれか一面に粘着剤４００が塗布された構造を有する。

すなわち、フィルム基材１００の一面または他面の少なくともいずれか一方に粘着剤４００が塗布され、本発明のハイブリッド光学フィルムに他の機能性フィルムを更に貼り合わせるか、フィルム基材１００をディスプレイモジュールに貼り合わせるか、フィルム基材１００の強度を強化させるための透明基板を貼り合わせることができるようにする。

ここで、粘着剤４００は、その具体的な材料として、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラル接着剤（ＰＭＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂などが挙げられる。

粘着剤４００には、色補正色素、近赤外線吸収物質などを含めることもできる。

図３は、図２のハイブリッド光学フィルムの製造工程を概略的に説明するための図である。

ハイブリッド光学フィルムは、次のような工程を経て製造される。

先ず、フィルム基材１００を成形する。すなわち、フィルム基材１００を押出方式によって所定の厚さを有するフィルム形態に成形する。なお、必ずしも押出方式に限定されず、射出など、その他の各種の成形工程を適用することができる。このとき、透明高分子樹脂に色補正色素及び／または近赤外線吸収色素を含ませて混合溶融した後、押出方式で作製することができる。実施形態によっては、突条などが形成された押出ダイを利用して押出と凹溝などの形成を同時に行なうことも考えられる。

本発明のハイブリッド光学フィルムの製造工程では、押出工程と後述するロール成形工程とを連続して遂行することができるようにしている。これにより、製造工程が革新的に促進され且つ簡素化し、生産性を大幅に向上させることができる。すなわち、押出されてくるフィルム基材を成形ロールにかけて下方に搬送すると同時に成形を遂行することで、単一連続搬送流れ内で製造工程を終えている。

押出されてくるフィルム基材１００の一面には、第１成形ロール５００によって楔状の凹溝５２０が等間隔を置いて形成され、フィルム基材１００の他面には、第２成形ロール５３０によって凹凸パターン３００が形成される。第１成形ロールは、その外周面に上記凹溝に対応する突条を有する。第２成形ロールは、その外周面に上記凹凸パターンに対応する外周面パターンを有する。

すなわち、フィルム基材１００の一面に第１成形ロール５００が押圧されると、第１成形ロール５００の外周面に形成された第１外周面パターンがフィルム基材の一面に転写される。これにより、第１成形ロールの外周面に形成された突条５１０に対応する凹溝５２０がフィルム基材１００の一面に形成される。

そして、フィルム基材１００の他面に第２成形ロール５３０が押圧されると、第２成形ロールの外周面に形成された第２外周面パターン５４０がフィルム基材１００の他面に転写される。これにより、第２外周面パターンに対応する凹凸パターン３００がフィルム基材１００の他面に形成される。

第１成形ロール５００と第２成形ロール５３０とが対向して配置され、フィルム基材を両ロール５００、５３０の間に通過させることで、フィルム基材１００の一面に凹溝５２０を成形すると同時に、フィルム基材１００の他面に凹凸パターン３００を成形することができる。

次いで、光吸収物質が混合した紫外線硬化性樹脂を凹溝５２０に充填した後、紫外線を照射して外光遮蔽パターン２００を形成する。

図４は、本発明の第３の実施形態によるハイブリッド光学フィルムを示す図である。

図示したように、図４のハイブリッド光学フィルムは、第１光学パターンとして外光遮蔽パターン２００を有し、第２光学パターンとして図５に示したような導電性メッシュパターン６００を有する。導電性メッシュパターンには、電磁波遮蔽のための導電性物質が充填される。

導電性物質としては、例えば、銅、クロム、ニッケル、銀、モリブデン、タングステン、アルミニウムなどの優れた電気伝導性を有する金属であればいずれも使用可能である。

導電性メッシュパターン６００は、例えばケースなどに接地され、これにより、導電性メッシュパターンにトラップされた電磁波がケースに向けて放出されることで、視聴者には到達しなくなる。

図６は、図４のハイブリッド光学フィルムの製造工程を示す図である。

図示したように、第１成形ロール５００と第２成形ロール７００ともにその外周面に突条が形成されている。フィルム基材１００を、第１成形ロールと第２成形ロールに接触させて、その両面にそれぞれ凹溝を形成する。次いで、フィルム基材の一面に形成された凹溝には図３で説明した光吸収物質を充填し、他面に形成された凹溝には導電性物質を充填する。

前述した第１の実施形態ないし第３の実施形態では、成形方式を用いて外光遮蔽パターン及び導電性メッシュパターンを形成したが、必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、光吸収物質または導電性物質をフィルム基材に印刷して光学パターンを形成することができる。この場合でも、印刷ロールを利用して光学パターンを連続印刷することが好ましい。

前述した第１の実施形態ないし第３の実施形態では、フィルム基材の両面に外光遮蔽パターン２００及び凹凸パターン３００が形成されるか、または外光遮蔽パターン２００及び導電性メッシュパターン６００が形成された実施形態を例示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、フィルム基材の両面に凹凸パターン及び導電性メッシュパターンを形成することもできる。

図７は、本発明の第４の実施形態によるディスプレイ装置の分解斜視図である。

図示したように、ディスプレイ装置４３０は、ケース４１０と、ケース４１０の上部を覆うカバー１２０と、ケース４１０内に収容される駆動回路基板１４０と、ガス放電現象が起こる放電セルを含み、画像をディスプレイするディスプレイモジュール１３０、及びディスプレイ用フィルター１１０とで構成される。

ここで、ディスプレイ用フィルター１１０は、上述したハイブリッド光学フィルムのみからなるものであってもよく、該光学フィルムに他の機能性フィルムが更に粘着されてなるものであってもよい。

以上では、説明の便宜のために、本発明のハイブリッド光学フィルムをＰＤＰディスプレイ装置に適用した例を挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ＰＤＰ装置の他にも、ＬＣＤ装置、ＥＬＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｓｐｌａｙ）装置、ＶＦＤ（Ｖａｃｕｕｍ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｓｐｌａｙ）装置など、その他の各種の画像ディスプレイ装置に使用することができる。

以上、本発明の好適な実施形態を参照して説明したが、当該技術分野における熟練した当業者または当該技術分野における通常の知識を有する者ならば、特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び技術領域から逸脱することなく本発明を各種に修正及び変更させることができることは言うまでもない。

１００ フィルム基材
２００ 外光遮蔽パターン
３００ 凸凹パターン
４００ 粘着剤
５００ 成形ロール
５１０ 突条
５２０ 凹溝

Claims (19)

1. ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行する光学フィルムであって、
   単一フィルムからなり、
   フィルム基材と、
   前記フィルム基材の一面に直接形成される第１光学パターン、及び
   前記フィルム基材の他面に直接形成される第２光学パターンと、を具備することを特徴とするハイブリッド光学フィルム。
2. 前記第１光学パターンは、外部から前記ディスプレイモジュールに流入される外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターンであることを特徴とする請求項１に記載のハイブリッド光学フィルム。
3. 前記外光遮蔽パターンは、くさび状断面−ストライプ形状、くさび状断面−波形状、くさび状断面−マトリックス形状、くさび状断面−ハニカム形状、四角形断面−ストライプ形状、四角形断面−波形状、四角形断面−マトリックス形状、または四角形断面−ハニカム形状を有することを特徴とする請求項２に記載のハイブリッド光学フィルム。
4. 前記第２光学パターンは、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターンであることを特徴とする請求項２に記載のハイブリッド光学フィルム。
5. 前記第２光学パターンは、アンチグレアのための凹凸パターンであることを特徴とする請求項２に記載のハイブリッド光学フィルム。
6. 前記凹凸パターンは、粗さパターンであることを特徴とする請求項５に記載のハイブリッド光学フィルム。
7. 前記第１光学パターン及び前記第２光学パターンは、外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターン、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターン及びアンチグレアのための凹凸パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のハイブリッド光学フィルム。
8. 前記フィルム基材は、近赤外線を吸収する近赤外線吸収物質及び可視光線内の特定の波長を吸収する色補正色素の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項１に記載のハイブリッド光学フィルム。
9. 前記フィルム基材の前記一面及び前記他面の少なくともいずれか一方の面には粘着剤が塗布され、
   前記粘着剤は、近赤外線を吸収する近赤外線吸収物質及び可視光線内の特定の波長を吸収する色補正色素の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項１に記載のハイブリッド光学フィルム。
10. 画像をディスプレイするディスプレイモジュールと、
    前記ディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行するハイブリッド光学フィルムとを含んでなり、
    前記ハイブリッド光学フィルムは、単一フィルムからなり、
    フィルム基材と、
    前記フィルム基材の一面に直接形成される第１光学パターン、及び
    前記フィルム基材の他面に直接形成される第２光学パターンと、を具備することを特徴とするディスプレイ装置。
11. ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行するハイブリッド光学フィルムの製造方法であって、
    フィルム基材の一面に直接第１光学パターンを形成し、前記フィルム基材の他面に直接第２光学パターンを形成するパターン形成ステップを含むことを特徴とするハイブリッド光学フィルムの製造方法。
12. 前記パターン形成ステップは、第１成形ロールと第２成形ロールの外周面に形成された第１外周面パターンと第２外周面パターンを、前記フィルム基材の前記一面及び前記他面にそれぞれ転写する、転写ステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
13. 前記第２光学パターンはアンチグレアのための凹凸パターンであり、
    前記第２外周面パターンは前記凹凸パターンと逆のパターンであることを特徴とする請求項１２に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
14. 前記パターン形成ステップは、
    前記フィルム基材に凹溝を形成する凹溝形成ステップと、
    前記凹溝に外部環境光を吸収する光吸収物質または電磁波遮蔽のための導電性物質を充填する充填ステップとを含むことを特徴とする請求項１１に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
15. 前記凹溝形成ステップは、前記凹溝に対応する突条が外周面に形成された成形ロールと前記フィルム基材とを接触させて、前記フィルム基材に前記凹溝を形成する転写ステップであることを特徴とする請求項１４に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
16. 前記充填ステップにおいて、前記凹溝に前記光吸収物質または前記導電性物質とともに紫外線硬化性樹脂を充填した後、紫外線を照射して硬化させることを特徴とする請求項１４に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
17. 前記パターン形成ステップにおいて、前記フィルム基材に外部環境光を吸収する光吸収物質または電磁波遮蔽のための導電性物質を印刷して前記第１光学パターンまたは前記第２光学パターンを形成することを特徴とする請求項１１に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
18. 前記印刷ロールを利用して前記フィルム基材に前記光吸収物質または導電性物質を印刷することを特徴とする請求項１７に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
19. 前記パターン形成ステップに先立ち、前記フィルム基材を押出加工する押出ステップを施すことを特徴とする請求項１１に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。