JP2010055095A - ハイブリッド光学フィルム及びこれを具備したディスプレイ装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学フィルムであって、単一フィルムからなり、フィルム基材と、上記フィルム基材の一面に直接形成される第1光学パターン、及び上記フィルム基材の他面に直接形成される第2光学パターンとを具備し、上記第1光学パターン及び上記第2光学パターンは、外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターン、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターン及びアンチグレアのための凹凸パターンのいずれかである。また、ハイブリッド光学フィルムの製造方法であって、フィルム基材の一面に直接第1光学パターンを形成し、上記フィルム基材の他面に直接第2光学パターンを形成するパターン形成ステップを含む。
【選択図】図1
Description
200 外光遮蔽パターン
300 凸凹パターン
400 粘着剤
500 成形ロール
510 突条
520 凹溝
Claims (19)
- ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行する光学フィルムであって、
単一フィルムからなり、
フィルム基材と、
前記フィルム基材の一面に直接形成される第1光学パターン、及び
前記フィルム基材の他面に直接形成される第2光学パターンと、を具備することを特徴とするハイブリッド光学フィルム。 - 前記第1光学パターンは、外部から前記ディスプレイモジュールに流入される外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターンであることを特徴とする請求項1に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記外光遮蔽パターンは、くさび状断面−ストライプ形状、くさび状断面−波形状、くさび状断面−マトリックス形状、くさび状断面−ハニカム形状、四角形断面−ストライプ形状、四角形断面−波形状、四角形断面−マトリックス形状、または四角形断面−ハニカム形状を有することを特徴とする請求項2に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記第2光学パターンは、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターンであることを特徴とする請求項2に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記第2光学パターンは、アンチグレアのための凹凸パターンであることを特徴とする請求項2に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記凹凸パターンは、粗さパターンであることを特徴とする請求項5に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記第1光学パターン及び前記第2光学パターンは、外部環境光を吸収する光吸収物質が充填された外光遮蔽パターン、電磁波の遮蔽のための導電性物質が充填された導電性メッシュパターン及びアンチグレアのための凹凸パターンのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記フィルム基材は、近赤外線を吸収する近赤外線吸収物質及び可視光線内の特定の波長を吸収する色補正色素の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項1に記載のハイブリッド光学フィルム。
- 前記フィルム基材の前記一面及び前記他面の少なくともいずれか一方の面には粘着剤が塗布され、
前記粘着剤は、近赤外線を吸収する近赤外線吸収物質及び可視光線内の特定の波長を吸収する色補正色素の少なくともいずれか一方を含むことを特徴とする請求項1に記載のハイブリッド光学フィルム。 - 画像をディスプレイするディスプレイモジュールと、
前記ディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行するハイブリッド光学フィルムとを含んでなり、
前記ハイブリッド光学フィルムは、単一フィルムからなり、
フィルム基材と、
前記フィルム基材の一面に直接形成される第1光学パターン、及び
前記フィルム基材の他面に直接形成される第2光学パターンと、を具備することを特徴とするディスプレイ装置。 - ディスプレイ装置のディスプレイモジュールの前方に具備され、ディスプレイフィルターの機能を遂行するハイブリッド光学フィルムの製造方法であって、
フィルム基材の一面に直接第1光学パターンを形成し、前記フィルム基材の他面に直接第2光学パターンを形成するパターン形成ステップを含むことを特徴とするハイブリッド光学フィルムの製造方法。 - 前記パターン形成ステップは、第1成形ロールと第2成形ロールの外周面に形成された第1外周面パターンと第2外周面パターンを、前記フィルム基材の前記一面及び前記他面にそれぞれ転写する、転写ステップを含むことを特徴とする請求項11に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
- 前記第2光学パターンはアンチグレアのための凹凸パターンであり、
前記第2外周面パターンは前記凹凸パターンと逆のパターンであることを特徴とする請求項12に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。 - 前記パターン形成ステップは、
前記フィルム基材に凹溝を形成する凹溝形成ステップと、
前記凹溝に外部環境光を吸収する光吸収物質または電磁波遮蔽のための導電性物質を充填する充填ステップとを含むことを特徴とする請求項11に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。 - 前記凹溝形成ステップは、前記凹溝に対応する突条が外周面に形成された成形ロールと前記フィルム基材とを接触させて、前記フィルム基材に前記凹溝を形成する転写ステップであることを特徴とする請求項14に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
- 前記充填ステップにおいて、前記凹溝に前記光吸収物質または前記導電性物質とともに紫外線硬化性樹脂を充填した後、紫外線を照射して硬化させることを特徴とする請求項14に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
- 前記パターン形成ステップにおいて、前記フィルム基材に外部環境光を吸収する光吸収物質または電磁波遮蔽のための導電性物質を印刷して前記第1光学パターンまたは前記第2光学パターンを形成することを特徴とする請求項11に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
- 前記印刷ロールを利用して前記フィルム基材に前記光吸収物質または導電性物質を印刷することを特徴とする請求項17に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
- 前記パターン形成ステップに先立ち、前記フィルム基材を押出加工する押出ステップを施すことを特徴とする請求項11に記載のハイブリッド光学フィルムの製造方法。
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