JP2010002777A

JP2010002777A - Micromirror device, optical scanning device, and image forming apparatus

Info

Publication number: JP2010002777A
Application number: JP2008162575A
Authority: JP
Inventors: Shinji Uchiyama; 真志内山; Shigemi Suzuki; 成己鈴木
Original assignee: Canon Electronics Inc
Current assignee: Canon Electronics Inc
Priority date: 2008-06-20
Filing date: 2008-06-20
Publication date: 2010-01-07
Anticipated expiration: 2028-06-20
Also published as: JP5539628B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a micromirror device with improved smoothness of mirror surface. <P>SOLUTION: The micromirror device includes a torsion bar, a mirror supported at one end of the torsion bar, a substrate coupled to the other end of the torsion bar, and a swinging section swinging the mirror, wherein the mirror comprises a base material, a smoothing layer smoothing the surface roughness of the base material, and a reflecting surface formed on the smoothing layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、一般に、ミラー面が揺動するマイクロミラーデバイスに係り、とりわけ、マイクロミラーデバイスを採用した光走査装置、光走査装置を採用した画像形成装置に関する。 The present invention generally relates to a micromirror device whose mirror surface swings, and more particularly to an optical scanning device employing a micromirror device and an image forming apparatus employing an optical scanning device.

近年、ディスプレイ、プリンタなど多くの分野でＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ−Ｓｙｓｔｅｍ）技術を応用したデバイスの実用化が進んでいる。ＭＥＭＳ技術は、シリコン基板上に電気回路と共にセンサ、アクチュエーターなどのマイクロ構造体を半導体プロセスによって集積化する技術として発展してきた。 In recent years, devices using MEMS (Micro-Electro-Mechanical-System) technology have been put into practical use in many fields such as displays and printers. MEMS technology has been developed as a technology for integrating micro structures such as sensors and actuators together with electric circuits on a silicon substrate by a semiconductor process.

ＭＥＭＳ技術を応用したデバイス（光変調素子、マイクロアクチュエーター、力学量センサ等）は、エレクトロニクス機器の小型化、低コスト化など高機能化の要望に応えることが期待されている。例えば、光走査装置を用いて光走査を行う、レーザビームプリンタ、ヘッドマウントディスプレイ等の画像表示装置、バーコードリーダ等の入力デバイスの光取り入れ装置等にＭＥＭＳ技術が採用されつつある。より具体的には、マイクロマシニング技術を用いて微小ミラーを捩り振動させ、光を走査する光走査装置が提案されている。 Devices using MEMS technology (light modulation elements, microactuators, mechanical quantity sensors, etc.) are expected to meet the demand for higher functionality such as downsizing and cost reduction of electronic equipment. For example, MEMS technology is being adopted in image display devices such as laser beam printers and head mounted displays that perform optical scanning using an optical scanning device, and light input devices for input devices such as barcode readers. More specifically, an optical scanning device that scans light by twisting and vibrating a micromirror using a micromachining technique has been proposed.

このような、光を透過、反射、あるいは吸収する光学機能を持たせたデバイスは光学ＭＥＭＳと呼ばれており、その中でも、スキャナ等の描画機能を持つ反射ミラーとして作製されたＭＥＭＳミラーなどはマイクロミラーデバイスと呼ばれる。特許文献１によれば、このような光走査装置が提案されている。 Such a device having an optical function of transmitting, reflecting, or absorbing light is called an optical MEMS, and among them, a MEMS mirror manufactured as a reflective mirror having a drawing function such as a scanner is a micro mirror. Called a mirror device. According to Patent Document 1, such an optical scanning device is proposed.

図１は、ジンバルタイプの光走査装置を示した図である。光走査装置は、可動ミラー３をトーションバー１によって支持し、可動ミラー３とフレーム５の対向電極２との間に働く静電気力により、可動ミラー３が回転軸４を中心として揺動（振動）する。揺動する可動ミラー３によって、入射してきた光を所定の場所に反射することによって、光の走査が実現される。画像形成装置では、この光の走査によって静電潜像が形成される。 FIG. 1 shows a gimbal type optical scanning device. In the optical scanning device, the movable mirror 3 is supported by the torsion bar 1, and the movable mirror 3 swings (vibrates) about the rotation axis 4 by the electrostatic force acting between the movable mirror 3 and the counter electrode 2 of the frame 5. To do. Light scanning is realized by reflecting incident light to a predetermined place by the oscillating movable mirror 3. In the image forming apparatus, an electrostatic latent image is formed by scanning the light.

図２は、二軸変更可能なジンバルタイプの光走査装置を示した図である。図２が示すように、可動ミラー３が２つのトーションバー１でジンバル８に支持される。ジンバル８が別の２つのトーションバー１２でフレーム５に支持される。これにより、可動ミラー３とジンバル８との回転軸が互いに直交する。可動ミラー３の裏面には、可動磁石７が設けられている。可動ミラー３の表面には、反射面９が設けられている。共通基板１１には、上述した２つの対向電極２と、固定コイル６が設けられている。なお、フレーム５はスペーサ１０を介して共通基板１１上に固定されている。 FIG. 2 is a diagram showing a gimbal type optical scanning device capable of changing two axes. As shown in FIG. 2, the movable mirror 3 is supported on the gimbal 8 by two torsion bars 1. The gimbal 8 is supported on the frame 5 by two other torsion bars 12. Thereby, the rotational axes of the movable mirror 3 and the gimbal 8 are orthogonal to each other. A movable magnet 7 is provided on the back surface of the movable mirror 3. A reflecting surface 9 is provided on the surface of the movable mirror 3. The common substrate 11 is provided with the two counter electrodes 2 and the fixed coil 6 described above. The frame 5 is fixed on the common substrate 11 via the spacer 10.

図３は、圧電体を利用したマイクロミラーデバイスを示した図である。図４は、マイクロミラーデバイスの動作原理を示した図である。基板３０上に形成された圧電体３１に交流電圧を印加すると、基板３０が変位し板波が発生する（特許文献２）。この板波がトーションバー１に支持された可動ミラー３に回転力を与える。これにより、可動ミラー３が捩り振動する。マイクロミラーデバイスの共振周波数を利用すれば、比較的小さな駆動力であっても大きな振幅を得られ、かつ、少ない電力で高速・高変位の駆動が可能となる。このように圧電体３１に交流を印加して変形させるには、圧電体３１に電極となる導電材が必要となる。しかし、基板３０が導電性材料で形成されていれば、この１つを省くことが可能となる。さらに、このような板波を使ったモデルは、全体の形状が非常に単純であり、かつ薄板を使用する。そのため、マイクロプレスと言ったプレスプロセスでの作製が容易である。これよりコスト的に大幅な優位性が生じる。
特開２００５−１７３４１１号公報特開２００６−２９３１１号公報 FIG. 3 is a diagram showing a micromirror device using a piezoelectric body. FIG. 4 is a diagram illustrating the operation principle of the micromirror device. When an AC voltage is applied to the piezoelectric body 31 formed on the substrate 30, the substrate 30 is displaced and a plate wave is generated (Patent Document 2). This plate wave gives a rotational force to the movable mirror 3 supported by the torsion bar 1. Thereby, the movable mirror 3 is torsionally vibrated. By utilizing the resonance frequency of the micromirror device, a large amplitude can be obtained even with a relatively small driving force, and high-speed and high-displacement driving can be performed with less power. In this way, in order to deform the piezoelectric body 31 by applying an alternating current, the piezoelectric body 31 needs a conductive material to be an electrode. However, if the substrate 30 is formed of a conductive material, this one can be omitted. Furthermore, the model using such a plate wave has a very simple overall shape and uses a thin plate. Therefore, it is easy to produce by a press process called micro press. This provides a significant cost advantage.
JP-A-2005-173411 JP 2006-29311 A

しかし、特許文献２に記載されたマイクロミラーデバイスで所望の共振周波数を得るためには、その板厚が比較的薄く５０μｍ以下になってしまうことがある。５０μｍ程度のＳＵＳ板に鏡面加工を施すと、加工によって表面に歪み変形が起きる可能性が高い。しかも、この歪みは常に同一の変形形状にはならず、再現性が低い。 However, in order to obtain a desired resonance frequency with the micromirror device described in Patent Document 2, the plate thickness may be relatively thin and may be 50 μm or less. If a SUS plate having a thickness of about 50 μm is mirror-finished, the surface is likely to be deformed by the processing. Moreover, this distortion does not always have the same deformed shape, and the reproducibility is low.

このように変形が起きると、マイクロミラーデバイスごとに共振周波数がバラツいてしまう。一般的に、このようなマイクロミラーデバイスの共振周波数を駆動周波数とすることで、比較的小さな入力でも大きな変位を得られるように設計される。しかし、加工精度に伴う共振周波数の設計値とのずれは比較的大きな値となるため、マイクロミラーデバイスの駆動効率を著しく低下させてしまう。また、場合によってはミラー面に捩り振動以外のモードを誘起してしまう。 When the deformation occurs in this way, the resonance frequency varies for each micromirror device. In general, by using the resonance frequency of such a micromirror device as a driving frequency, the micromirror device is designed so that a large displacement can be obtained even with a relatively small input. However, since the deviation from the design value of the resonance frequency accompanying the processing accuracy is a relatively large value, the driving efficiency of the micromirror device is significantly reduced. In some cases, a mode other than torsional vibration is induced on the mirror surface.

一方、板厚を厚くすることで鏡面加工による母材の歪みを低減することが考えられる。しかし、これでは以下のような問題が発生する。 On the other hand, it is conceivable to reduce the distortion of the base material due to mirror finishing by increasing the plate thickness. However, this causes the following problems.

図５は、板厚を厚くすることで鏡面加工による母材の歪みを低減したモデルを示した図である。トーションバー１のバネ定数をｋ、可動ミラー３の慣性モーメントをＩとすると、このモデルのθ軸５１に関する共振周波数ｆは以下の次式で与えられる。 FIG. 5 is a diagram showing a model in which distortion of the base material due to mirror finishing is reduced by increasing the plate thickness. When the spring constant of the torsion bar 1 is k and the moment of inertia of the movable mirror 3 is I, the resonance frequency f related to the θ axis 51 of this model is given by the following equation.

（１）式より、共振周波数は可動ミラー３の慣性モーメントやトーションバー１のバネ定数に大きく依存していることがわかる。慣性モーメントやバネ定数は、部材の物性的要素だけではなく、外形形状にも大きく依存する。
From the equation (1), it can be seen that the resonance frequency greatly depends on the moment of inertia of the movable mirror 3 and the spring constant of the torsion bar 1. The moment of inertia and the spring constant greatly depend not only on the physical properties of the member but also on the external shape.

図６は、板厚を厚くすることで鏡面加工による母材の歪みを低減した他のモデルを示した図である。図６のモデルは両持ちの３振動子の系のモデルである。このように、モデルが複雑化した場合であっても、共振周波数とバネ定数・慣性モーメントとの依存関係は変わらない。 FIG. 6 is a diagram showing another model in which the distortion of the base material due to mirror finishing is reduced by increasing the plate thickness. The model of FIG. 6 is a model of a system of three oscillators that are both supported. Thus, even when the model is complicated, the dependency relationship between the resonance frequency and the spring constant / moment of inertia does not change.

基材厚を増加させたことにより、バネ定数も増加するが、慣性モーメントの増加率の方が大きい。可動ミラーの基材厚を増加させると、ミラー面の質量及び断面積が増加し、慣性モーメントが増加してしまう。これが高速動作を必要とする機械要素、特に所定角度内を回動振動する機械要素においては、駆動スピードの大きな阻害要素となってしまう。従って、所望する共振周波数を得るためにはバネ定数を大きくする必要があるが、特にミラーを含む揺動体と捩りバネを一体的な材料で形成した最も一般的な構成のマイクロミラーデバイスの場合、捩りバネには高い破断応力に耐えうる特性が必要となる。これにより、所望する振幅を得るためには捩りバネの全長を長くする必要があり、その結果、マイクロミラーデバイスが大きくなってしまう。 Increasing the base material thickness increases the spring constant, but the rate of increase of the moment of inertia is greater. When the substrate thickness of the movable mirror is increased, the mass and cross-sectional area of the mirror surface are increased, and the moment of inertia is increased. This is a large impediment to driving speed in machine elements that require high-speed operation, particularly machine elements that rotate and vibrate within a predetermined angle. Therefore, in order to obtain a desired resonance frequency, it is necessary to increase the spring constant. In particular, in the case of a micromirror device having the most general configuration in which an oscillating body including a mirror and a torsion spring are formed of an integral material, The torsion spring needs to be able to withstand a high breaking stress. Accordingly, in order to obtain a desired amplitude, it is necessary to lengthen the entire length of the torsion spring, and as a result, the micromirror device becomes large.

さらには、研磨プロセスで発生するコンタミネーションの発生が問題になる場合もある。 Furthermore, the occurrence of contamination in the polishing process may be a problem.

また、特許文献１におけるマイクロミラーデバイスにおいては、単結晶Ｓｉウエハをベースとして、レジストの塗布とエッチングにより微細加工を行う、いわゆるフォトリソプロセスのような複雑なプロセスは、低コスト化の障害となる。よって、このようなＳｉプロセス以外の比較的単純なプロセスで作製を試みた場合、一般的にはＳｉ以外の材料を選択し形成することになろう。この場合であっても上述した問題と同様の問題が発生する。従って、これを解決するにはＳｉのような鏡面を持つ、非常に限られた材料でしか、マイクロミラーデバイスを作製することができない。 Further, in the micromirror device disclosed in Patent Document 1, a complicated process such as a so-called photolithography process in which fine processing is performed by applying a resist and etching using a single crystal Si wafer as a base is an obstacle to cost reduction. Therefore, when production is attempted by a relatively simple process other than the Si process, generally, a material other than Si will be selected and formed. Even in this case, the same problem as described above occurs. Therefore, in order to solve this, a micromirror device can be manufactured only with a very limited material having a mirror surface such as Si.

さらに、Ｓｉプロセスであったとしても、生成プロセスの過程で浮遊するゴミや、加工により発生したコンタミネーションの影響でミラー面に異物が付着することがある。一般的にはＳｉの反射率だけでは、所望する反射率を得ることができない。そのため、ベース材の上に反射膜などが積層される。従って、ミラーに付着した異物が完全に除去されない場合、表面形状に凹凸が発生してしまう。しかも、膜の生成プロセス後にはこれらの異物を除去することができない。 Furthermore, even if it is a Si process, foreign matter may adhere to the mirror surface due to dust floating during the generation process or contamination caused by processing. In general, a desired reflectance cannot be obtained only by the reflectance of Si. Therefore, a reflective film or the like is laminated on the base material. Therefore, when the foreign matter adhering to the mirror is not completely removed, the surface shape is uneven. Moreover, these foreign substances cannot be removed after the film formation process.

そこで、本発明は、このような課題および他の課題のうち、少なくとも１つを解決することを目的とする。例えば、ミラー表面の平滑性を向上させたマイクロミラーデバイスを提供することを目的とする。なお、他の課題については明細書の全体を通して理解できよう。 Therefore, an object of the present invention is to solve at least one of such problems and other problems. For example, it aims at providing the micromirror device which improved the smoothness of the mirror surface. Other issues can be understood throughout the specification.

本発明のマイクロミラーデバイスは、
トーションバーと、
該トーションバーの一端に支持されたミラーと、
該トーションバーの他端が結合された基板と、
前記基板に設けられ、前記ミラーを揺動させる揺動部と
を備えたマイクロミラーデバイスであって、
前記ミラーは、
母材と、
該母材の表面粗さを平滑化するための平滑化層と、
該平滑化層の上に形成された反射面と
を備えたことを特徴とする。 The micromirror device of the present invention is
A torsion bar,
A mirror supported at one end of the torsion bar;
A substrate to which the other end of the torsion bar is coupled;
A micromirror device provided on the substrate and provided with an oscillating portion for oscillating the mirror,
The mirror is
With the base material,
A smoothing layer for smoothing the surface roughness of the base material;
And a reflective surface formed on the smoothing layer.

本発明によれば、ミラーの母材上に表面粗さを低減するための平滑化層を形成したため、ミラーの反射面も平滑化される。さらに、平滑化層を導入することで、ミラー母材の材質や厚さによらず、所望する共振周波数と振幅を得やすくなる。すなわち、低電力であっても高速駆動が可能となり、比較的に大きな変位角を確保しやすくなる。さらに、母材の厚さを増加させることで発生するマイクロミラーデバイスの大型化についても、本発明を採用すれば解決できよう。 According to the present invention, since the smoothing layer for reducing the surface roughness is formed on the base material of the mirror, the reflecting surface of the mirror is also smoothed. Furthermore, by introducing a smoothing layer, it becomes easy to obtain a desired resonance frequency and amplitude regardless of the material and thickness of the mirror base material. That is, high-speed driving is possible even with low power, and a relatively large displacement angle is easily secured. Furthermore, an increase in the size of the micromirror device that occurs when the thickness of the base material is increased can be solved by employing the present invention.

以下に本発明の一実施形態を示す。以下で説明される個別の実施形態は、本発明の上位概念、中位概念および下位概念など種々の概念を理解するために役立つであろう。また、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲によって確定されるのであって、以下の個別の実施形態によって限定されるわけではない。 An embodiment of the present invention is shown below. The individual embodiments described below will help to understand various concepts, such as the superordinate concept, intermediate concept and subordinate concept of the present invention. Further, the technical scope of the present invention is determined by the scope of the claims, and is not limited by the following individual embodiments.

以下に示す実施形態は、金属製の基板（母材）上に平滑化層を形成し、真空蒸着法により反射膜、及び増反射膜を形成して作製されたマイクロミラーデバイスに関する。なお、本発明の目的がミラー面の平滑化であることから、ミラー面に焦点を絞り、かつ、ミラー面の形状も矩形といった簡易なモデルを採用して説明する。また、マイクロミラーデバイスの基板として金属材料を使用した例を記述するが、基板の材料はこれに限らず、Ｓｉやセラミックス材であっても良い。 The embodiment described below relates to a micromirror device manufactured by forming a smoothing layer on a metal substrate (base material) and forming a reflection film and an increased reflection film by a vacuum deposition method. Since the object of the present invention is to smooth the mirror surface, a simple model in which the focal point is focused on the mirror surface and the shape of the mirror surface is rectangular will be described. Moreover, although the example which uses a metal material as a board | substrate of a micromirror device is described, the material of a board | substrate is not restricted to this, Si and a ceramic material may be sufficient.

＜実施形態１＞
本実施形態は、図１ないし図６を用いて説明した光走査装置を改良発展させたものである。よって、既に説明した箇所には同一の参照符号を付与することで、説明を簡潔にする。なお、可動ミラー３は、捩りバネ（トーションバー１）の一端に支持されたミラーの一例である。また、基板３０やジンバル８などは、トーションバー１の他端が結合された基板の一例である。また、固定コイル６、可動磁石７、圧電体３１などは、基板に設けられ、ミラーを揺動させる揺動部の一例である。 <Embodiment 1>
In this embodiment, the optical scanning device described with reference to FIGS. 1 to 6 is improved and developed. Therefore, the description is simplified by giving the same reference numerals to the already described portions. The movable mirror 3 is an example of a mirror supported on one end of a torsion spring (torsion bar 1). The substrate 30 and the gimbal 8 are examples of the substrate to which the other end of the torsion bar 1 is coupled. In addition, the fixed coil 6, the movable magnet 7, the piezoelectric body 31, and the like are examples of a swinging part that is provided on the substrate and swings the mirror.

（反射面平滑化層について）
図７は、反射面を平滑するための平滑化層の断面図である。図７が示しているように、可動ミラー３の母材２３の表面には凹凸がある。仮に、平滑化層２４を設けることなく母材２３の上に直接的に反射面２５を形成してしまうと、反射面２５にも凹凸が生じる。そこで、図７が示すように、ミラー面の母材２３の上に平滑化層２４を設け、その上に反射面２５を形成すれば、反射面２５の凹凸が大幅に軽減される。よって、可動ミラー３の母材２３に鏡面加工等を施さなくても、反射面２５を鏡面にすることが可能となる。 (Reflecting surface smoothing layer)
FIG. 7 is a cross-sectional view of a smoothing layer for smoothing the reflection surface. As shown in FIG. 7, the surface of the base material 23 of the movable mirror 3 has irregularities. If the reflecting surface 25 is formed directly on the base material 23 without providing the smoothing layer 24, the reflecting surface 25 is also uneven. Therefore, as shown in FIG. 7, if the smoothing layer 24 is provided on the base material 23 of the mirror surface and the reflection surface 25 is formed thereon, the unevenness of the reflection surface 25 is greatly reduced. Therefore, even if the base material 23 of the movable mirror 3 is not mirror-finished, the reflecting surface 25 can be made into a mirror surface.

このように、平滑化層２４を可動ミラー３の母材２３と反射面２５との間に介在させることで、母材２３の表面を機械的・化学的に研磨する工程を省略でき、母材２３の材料を多様に選択できるようになる。とりわけ、５０μｍ以下の板厚を有する母材であっても良いため、所望の共振周波数で所望の変位を獲得しやすくなる。また、必要以上に母材の厚さを厚くする必要がなくなるため、マイクロミラーデバイスの小型化も可能となる。 Thus, by interposing the smoothing layer 24 between the base material 23 and the reflecting surface 25 of the movable mirror 3, the step of mechanically and chemically polishing the surface of the base material 23 can be omitted, and the base material 23 materials can be selected variously. In particular, since a base material having a thickness of 50 μm or less may be used, a desired displacement can be easily obtained at a desired resonance frequency. Further, since it is not necessary to increase the thickness of the base material more than necessary, the micromirror device can be miniaturized.

研磨プロセスが存在するとコンタミネーションの発生が懸念される。しかし、本実施形態では、研磨プロセスを省略できるため、コンタミネーションや、ミラー面へのゴミの付着等を低減できる。 If there is a polishing process, there is a risk of contamination. However, in this embodiment, since the polishing process can be omitted, contamination, adhesion of dust to the mirror surface, and the like can be reduced.

ところで、単結晶Ｓｉウエハを母材として採用するには、フォトリソプロセスが必要となる。フォトリソプロセスではミラー面にレジストが塗布される。しかし、レジストの極一部が洗浄プロセスでも除去しきれずにミラー面に残ってしまうことがある。このように、単結晶Ｓｉウエハのような鏡面を持つ材料であっても、平滑化層２４を形成することで残存レジストの影響が緩和される。すなわち、反射面の平面度が向上する。 By the way, in order to employ a single crystal Si wafer as a base material, a photolithography process is required. In the photolithography process, a resist is applied to the mirror surface. However, a part of the resist may not be completely removed by the cleaning process and may remain on the mirror surface. As described above, even if the material has a mirror surface such as a single crystal Si wafer, the influence of the remaining resist is reduced by forming the smoothing layer 24. That is, the flatness of the reflecting surface is improved.

平滑化層２４の具体的な材料としては、例えば、化薬マイクロケム社製のＸＰＳＵ−８３０００や、新日鉄化学社製のＶＰＡ２０４などの樹脂材料を採用することができる。これらの樹脂材料をスピンコート法やディッピング法、インクジェット法などで母材２３上に積層する。なお、本発明の目的が母材２３の表面の凹凸に起因した反射面の凹凸を低減することであるため、必要以上の膜厚となるまで樹脂材料を塗布する必要はない。母材２３の表面粗さに大きく依存するが、平滑化層２４の厚みは、概ね１〜１００μｍ程度となろう。 As a specific material of the smoothing layer 24, for example, a resin material such as XP SU-83000 manufactured by Kayaku Microchem Corporation or VPA204 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. can be used. These resin materials are laminated on the base material 23 by a spin coat method, a dipping method, an ink jet method or the like. In addition, since the objective of this invention is reducing the unevenness | corrugation of the reflective surface resulting from the unevenness | corrugation of the surface of the base material 23, it is not necessary to apply | coat a resin material until it becomes a film thickness more than necessary. Although it largely depends on the surface roughness of the base material 23, the thickness of the smoothing layer 24 will be about 1 to 100 μm.

さらに、ハードディスクの平滑化法として使用されているスパッタ法による埋め戻しプロセスと、ドライエッチング法による平滑化プロセスを組み合わせてもよい。このような方法であれば、平滑化層２４から反射層２５までを一貫してドライプロセスで作製することが可能となる。よって、コスト的に有利となろう。 Further, a backfilling process using a sputtering method used as a smoothing method for a hard disk may be combined with a smoothing process using a dry etching method. With such a method, the smoothing layer 24 to the reflective layer 25 can be manufactured consistently by a dry process. Therefore, it will be advantageous in terms of cost.

（反射膜、増反射膜について）
光走査装置などに使用されるマイクロミラーデバイスの反射層２５としては、例えば、チタン（Ｔｉ）やアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）などの金属膜が用いられる。これらの金属膜は、蒸着やスパッタといった真空蒸着法などにより形成される。 (Reflection film and enhanced reflection film)
As the reflection layer 25 of the micromirror device used for the optical scanning device, for example, a metal film such as titanium (Ti), aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), or the like is used. It is done. These metal films are formed by a vacuum vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering.

しかし、金属膜は比較的表面上に傷がつきやすい。さらに金属膜の表面は酸化しやすい。よって、金属膜のみによる反射層は、徐々に反射率が低下してしまう。そこで、金属膜層を保護するための保護膜が必要となる場合が多い。 However, the metal film is relatively easily damaged on the surface. Furthermore, the surface of the metal film is easily oxidized. Therefore, the reflectance of the reflective layer made of only the metal film gradually decreases. Therefore, a protective film for protecting the metal film layer is often required.

また、金属膜単層では反射層として所望する十分な反射率が得られないことがある。よって、保護膜層に増反射膜としての機能を持たせ、総体としての反射率を高めることができれば、金属膜を保護しつつ、光の利用効率を上げることができる。 In addition, in the case of a single metal film layer, a sufficient reflectivity desired as a reflective layer may not be obtained. Therefore, if the protective film layer has a function as a reflection-increasing film and the reflectance as a whole can be increased, the light use efficiency can be increased while protecting the metal film.

増反射層は、例えば、誘電体の低屈折率材料と高屈折率材料を組み合わせて積層することで形成される。低屈折率材料としては例えば、ＳｉＯ２やＭｇＦ２がある。また、高屈折率材料としては、ＴｉＯ２やＮｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５などがある。ただし、Ａｌ２Ｏ３のような中間屈折率材料を積層してもよい。なお、増反射膜の材料をこれらにのみ限る必要はなく、その時々で最適な材料を選択すれば良い。 The increased reflection layer is formed, for example, by laminating a combination of a dielectric low refractive index material and a high refractive index material. Examples of the low refractive index material include SiO2 and MgF2. Examples of the high refractive index material include TiO2, Nb2O5, ZrO2, and Ta2O5. However, an intermediate refractive index material such as Al2O3 may be laminated. Note that the material of the enhanced reflection film need not be limited to these, and an optimal material may be selected from time to time.

（ミラー面の作製）
厚さ３００μｍのＳＵＳ材（例：ＳＵＳ３０４）の板に鏡面加工を加え、プレス加工により３×１ｍｍの矩形板を切り出す。この矩形板がミラー面となる。本実施形態ではＳＵＳ材をプレス加工したが、本発明はこれに限られることはない。例えば、セラミックス材ならば成形法などが採用される。このように、材料やその後の工程によって最適なプロセスを選択すれば良い。 (Preparation of mirror surface)
Mirror surface processing is applied to a plate of SUS material (eg, SUS304) having a thickness of 300 μm, and a 3 × 1 mm rectangular plate is cut out by pressing. This rectangular plate becomes a mirror surface. In the present embodiment, the SUS material is pressed, but the present invention is not limited to this. For example, if it is a ceramic material, a forming method or the like is employed. In this way, an optimal process may be selected depending on the material and subsequent processes.

また、ミラーは必ずしも矩形である必要はない。例えば、ミラーを高速駆動することにより空気抵抗が問題となる場合は、ミラーの形状を円形や楕円形の形状としてもよい。 Also, the mirror does not necessarily have to be rectangular. For example, when air resistance becomes a problem by driving the mirror at high speed, the shape of the mirror may be circular or elliptical.

３×１ｍｍの矩形板（母材２３）の上に平滑化層２４を形成した。具体的には、スピンコート法により、新日鉄化学社製のＶＰＡ２０４を矩形板上に塗布した。 A smoothing layer 24 was formed on a 3 × 1 mm rectangular plate (base material 23). Specifically, Nippon Steel Chemical Co., Ltd. VPA204 was applied on a rectangular plate by a spin coat method.

その次に、ミラー面の反射率を向上させるために、上述した反射層２５（反射層及び増反射層）を生成した。反射層はＡｌ膜、増反射層はＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を積層して形成した。Ａｌ膜に関しては抵抗加熱法により形成した。増反射膜については、膜応力と光学特性との両立を考慮し、アシストの付加は行わず、電子ビーム共蒸着（ＥＢ蒸着）を行った。 Next, in order to improve the reflectivity of the mirror surface, the above-described reflection layer 25 (reflection layer and increased reflection layer) was generated. The reflective layer was formed by laminating an Al film, and the increased reflective layer was formed by laminating a SiO2 film and a TiO2 film. The Al film was formed by a resistance heating method. The increased reflection film was subjected to electron beam co-evaporation (EB deposition) without adding assist in consideration of compatibility between film stress and optical characteristics.

なお、平滑化層２４の上下での密着が問題となる場合は、母材２３と平滑化層２４との間と、平滑化層２４と反射層２５との間との少なくとも一方に密着層を挿入しても良い。 In addition, when adhesion on the upper and lower sides of the smoothing layer 24 becomes a problem, an adhesion layer is provided between at least one of the base material 23 and the smoothing layer 24 and between the smoothing layer 24 and the reflective layer 25. It may be inserted.

各膜の膜厚については、ミラーとして要求される光学特性だけではなく、静的な撓みを考慮して、ミラー面総体として膜応力の非常に小さい構成にする必要がある。各層の膜応力を可能な限り小さくすることも考えられる。しかし、膜応力が小さい状態は、一般的には膜密度の低い、空隙の多いポーラスな膜質が生じた状態であるため、温度や湿度といった周囲環境により、光学的特性が大きく変化してしまう。よって、光走査装置などとして使用されるマイクロミラーデバイスとしての仕様を満足することが困難となりやすい。 Regarding the film thickness of each film, not only the optical characteristics required for the mirror but also the static deflection must be taken into consideration so that the mirror surface as a whole has a very small film stress. It is also conceivable to reduce the film stress of each layer as much as possible. However, a state where the film stress is small is generally a state where a porous film quality with a low film density and a large number of voids is generated, and thus the optical characteristics greatly change depending on the surrounding environment such as temperature and humidity. Therefore, it is difficult to satisfy the specifications as a micromirror device used as an optical scanning device or the like.

従って、圧縮応力となる層と、引張り応力となる層を積層して、総体として膜応力がキャンセル（相殺）される構成がより望ましい。さらに、光学特性と膜応力のキャンセルとを同時に実現することが難しい場合は、反射層と母材との間に膜応力を低減するための膜応力緩和層を挿入しても良い。 Therefore, a configuration in which a layer that becomes a compressive stress and a layer that becomes a tensile stress are stacked to cancel (cancel) the film stress as a whole is more desirable. Furthermore, when it is difficult to simultaneously cancel the optical characteristics and the film stress, a film stress relaxation layer for reducing the film stress may be inserted between the reflective layer and the base material.

このような膜応力緩和層を金属膜層の直前に形成するには、膜応力緩和層も無加熱状態で成膜すると、成膜の効率化の点で利点がある。しかし、応力緩和層に用いる蒸着膜を無加熱状態で形成すると、膜の密度が低下する。一般に、膜応力の絶対値は小さい値になるため、所望の応力を持った膜を形成できない可能性もある。よって、膜応力緩和層を加熱状態で成膜し、その後、基板温度が低下してから、金属膜層以降の層を前記と同様に生成しても良い。 In order to form such a film stress relaxation layer immediately before the metal film layer, forming the film stress relaxation layer in an unheated state is advantageous in terms of efficiency of film formation. However, when the vapor deposition film used for the stress relaxation layer is formed without heating, the density of the film is lowered. In general, since the absolute value of the film stress is small, there is a possibility that a film having a desired stress cannot be formed. Therefore, the film stress relaxation layer may be formed in a heated state, and after that, after the substrate temperature has decreased, the layers after the metal film layer may be generated in the same manner as described above.

（光走査装置）
図８は、板波を利用した光走査装置を示す図である。厚さ３００μｍのＳＵＳ３０４板（基板３０）から、プレス加工により図８に示したような形状を打ち抜く。すなわち、基板３０、トーションバー１及び可動ミラーとが同一の素材により一体的に構成されている。すなわち、基板３０、トーションバー１及び可動ミラーとが１枚の金属板を打ち抜くことで形成されている。なお、素材は、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）である。 (Optical scanning device)
FIG. 8 is a diagram showing an optical scanning device using plate waves. A shape as shown in FIG. 8 is punched out from a SUS304 plate (substrate 30) having a thickness of 300 μm by press working. That is, the substrate 30, the torsion bar 1, and the movable mirror are integrally formed of the same material. That is, the substrate 30, the torsion bar 1, and the movable mirror are formed by punching one metal plate. The material is, for example, stainless steel (SUS).

打ち抜かれた基板３０のうち、少なくとも可動ミラー３の部分に平滑化層２４を形成し、さらに増反射層を含む反射層２５を形成した。平滑化層２４の材料は新日鉄化学社製のＶＰＡ２０４である。 A smoothing layer 24 is formed at least on the movable mirror 3 portion of the punched substrate 30, and a reflection layer 25 including an increased reflection layer is formed. The material of the smoothing layer 24 is VPA204 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.

次に、基板３０のうち基板駆動源設置領域３２に圧電体３１を生成した。本実施形態では圧電体３１を基板３０上に接着した。圧電体３１は、可動ミラー３を揺動させるための板波を基板３０に発生させる板波発生素子の一例である。圧電体３１は、圧電素子と呼ばれることもある。圧電体３１は、接着剤を使用せずに、基板３０上に圧電膜として成膜されてもよい。なお、圧電膜に代えて、基板３０上に磁性膜や磁歪膜を生成することで板波発生素子を形成しても良い。また、揺動部（板波発生素子）として何を選択したかに応じて、適切な製作工程が採用される。 Next, the piezoelectric body 31 was generated in the substrate drive source installation region 32 of the substrate 30. In this embodiment, the piezoelectric body 31 is bonded onto the substrate 30. The piezoelectric body 31 is an example of a plate wave generating element that generates a plate wave on the substrate 30 for swinging the movable mirror 3. The piezoelectric body 31 is sometimes called a piezoelectric element. The piezoelectric body 31 may be formed as a piezoelectric film on the substrate 30 without using an adhesive. Instead of the piezoelectric film, a plate wave generating element may be formed by forming a magnetic film or a magnetostrictive film on the substrate 30. Further, an appropriate manufacturing process is adopted depending on what is selected as the swinging portion (plate wave generating element).

なお、図８によれば、可動ミラー３には、加工精度誤差に起因する共振周波数を補正するための共振周波数調整部３５が設けられている。作製されたマイクロミラーデバイスを実験的に駆動し、その共振周波数を実際に測定する。この測定された共振周波数が所望の共振周波数からずれていれば、４つある共振周波数調整部３５を適宜切除することで、所望の共振周波数を達成する。具体的には、可動ミラー３の裏面側からＣＯ２レーザーを共振周波数調整部３５に照射し、これを焼き切ったり、微少部分を蒸発させたりする。 According to FIG. 8, the movable mirror 3 is provided with a resonance frequency adjusting unit 35 for correcting the resonance frequency caused by the machining accuracy error. The fabricated micromirror device is driven experimentally, and its resonance frequency is actually measured. If the measured resonance frequency deviates from the desired resonance frequency, the desired resonance frequency is achieved by appropriately removing the four resonance frequency adjusting sections 35. Specifically, the CO2 laser is irradiated to the resonance frequency adjusting unit 35 from the back surface side of the movable mirror 3, and this is burned out or a minute portion is evaporated.

また、このようなトリミングを行う場合、トリミング後に回転等の揺動のバランスを崩さないように、可能な限り、共振周波数調整部３５を均等に加工を施す方が好ましい。 In addition, when performing such trimming, it is preferable that the resonance frequency adjusting unit 35 is processed as evenly as possible so that the balance of oscillation such as rotation is not lost after trimming.

このように可動ミラー３の外形形状を変化させることで、可動ミラー３の慣性モーメントを減少させることができる。よって、共振周波数が変化する。共振周波数調整部３５を実際に光が反射する反射面２５とは別に設けた理由は、反射面２５を直接的に加工すると反射面２５が損傷する可能性があるからである。 By changing the outer shape of the movable mirror 3 in this way, the moment of inertia of the movable mirror 3 can be reduced. Therefore, the resonance frequency changes. The reason why the resonance frequency adjusting unit 35 is provided separately from the reflecting surface 25 that actually reflects light is that the reflecting surface 25 may be damaged if the reflecting surface 25 is directly processed.

加工精度による共振周波数の調整を加味して反射面２５を予め光束よりも大きく作製しておくことも可能ではある。しかし、この場合、共振周波数を維持するためには板厚を厚くする必要がある。上述したように板厚を増やすとマイクロミラーデバイス全体が大きくなってしまうと言った別の問題が発生する。さらには揺動する可動ミラー３を大きくすると、可動ミラー３の自重によって慣性力による動的な撓みが大きくなってしまう。可動ミラー３が撓めば、可動ミラー３から反射した光も歪んでしまう。これらの理由から、可動ミラー３は、可能な限り小さくすることが好ましい。 It is also possible to make the reflecting surface 25 in advance larger than the luminous flux in consideration of the adjustment of the resonance frequency according to the processing accuracy. However, in this case, it is necessary to increase the plate thickness in order to maintain the resonance frequency. As described above, when the plate thickness is increased, another problem that the entire micromirror device becomes large occurs. Furthermore, when the movable mirror 3 to be oscillated is enlarged, the dynamic deflection due to the inertial force increases due to the weight of the movable mirror 3. If the movable mirror 3 bends, the light reflected from the movable mirror 3 will also be distorted. For these reasons, it is preferable to make the movable mirror 3 as small as possible.

ところで、図８によれば、トーションバー１の形状がＹ字形状となっている。この理由を以下で説明する。 By the way, according to FIG. 8, the shape of the torsion bar 1 is Y-shaped. The reason for this will be described below.

図９は、ミラーに発生する動撓みを説明するための図である。とりわけ、図９（ａ）は、ミラーの断面を示している。可動ミラー３は、回転軸９０を中心として揺動する。可動ミラー３に対して捩り振動を与えると、図９（ｂ）が示すように、反射面２５が変形する。これを動撓みという。この動撓みを補正する方法の１つとして、可動ミラー３の剛性を高める方法がある。すなわち、母材２３の両面又は片面にダイヤモンドライクカーボン膜（ＤＬＣ膜）などを形成する。もちろん、ダイヤモンドライクカーボン膜を形成するともに、平滑化層２４を形成すれば、動撓みの発生を低減し、しかも板波を使ったマイクロミラーデバイスを実現できる。さらに、共振周波数調整部３５を可動ミラー３に追加しても良い。 FIG. 9 is a diagram for explaining the dynamic deflection that occurs in the mirror. In particular, FIG. 9A shows a cross section of the mirror. The movable mirror 3 swings around the rotation axis 90. When torsional vibration is applied to the movable mirror 3, the reflecting surface 25 is deformed as shown in FIG. 9B. This is called dynamic deflection. One method for correcting this dynamic deflection is to increase the rigidity of the movable mirror 3. That is, a diamond-like carbon film (DLC film) or the like is formed on both surfaces or one surface of the base material 23. Of course, if the diamond-like carbon film is formed and the smoothing layer 24 is formed, the occurrence of dynamic deflection can be reduced, and a micromirror device using plate waves can be realized. Further, the resonance frequency adjusting unit 35 may be added to the movable mirror 3.

なお、最後に圧電体３１の表面に電極が形成される。 Finally, an electrode is formed on the surface of the piezoelectric body 31.

これにより作製された光走査装置は前述したように、圧電体３１に交流電圧を印加することで板波が誘起される。また、マイクロミラーデバイスの共振周波数を利用することで、比較的低電力であっても、高速で高変位の駆動が実現される。 As described above, the optical scanning device thus manufactured induces a plate wave by applying an AC voltage to the piezoelectric body 31. In addition, by using the resonance frequency of the micromirror device, high-displacement driving can be realized at high speed even with relatively low power.

また、マイクロミラーデバイスを光走査装置として使用する場合、静的な撓みを考慮し、マイクロミラーデバイスの長手方向を、重力方向と水平となるように配置することが好ましい。 Further, when the micromirror device is used as an optical scanning device, it is preferable that the longitudinal direction of the micromirror device is horizontal with the gravity direction in consideration of static deflection.

＜実施形態２＞
（光走査装置）
図１０は、片持ち２振動子モデルの光走査装置を示した図である。この光走査装置も実施形態１と同様の方法で作製した。 <Embodiment 2>
(Optical scanning device)
FIG. 10 is a view showing an optical scanning device of a cantilever two-vibrator model. This optical scanning device was also produced by the same method as in the first embodiment.

厚さ３００μｍのＳＵＳ３０４板を、プレス加工により図１０に示したような形状に切り出し、これに平滑化層を形成し、さらに反射層、増反射層を形成した。平滑化層にはＶＰＡ２０４を使用した。 A SUS304 plate having a thickness of 300 μm was cut into a shape as shown in FIG. 10 by press working, a smoothing layer was formed thereon, and a reflective layer and an increased reflective layer were further formed. VPA204 was used for the smoothing layer.

次に、駆動源設置領域１０４に永久磁石を接着した。本実施形態では永久磁石を接着したが、基板に直接、磁性膜、磁歪膜を生成してもよい。また、このような片持ち２振動子の系であっても、圧電体や圧電膜を形成して駆動する方法を採用してもよい。 Next, a permanent magnet was bonded to the drive source installation area 104. In the present embodiment, a permanent magnet is bonded, but a magnetic film or a magnetostrictive film may be generated directly on the substrate. Further, even in such a cantilevered two-vibrator system, a method of forming and driving a piezoelectric body or a piezoelectric film may be employed.

揺動体１０２には、加工精度誤差に起因する共振周波数を補正する為の共振周波数調整部１０５を設けている。 The oscillating body 102 is provided with a resonance frequency adjusting unit 105 for correcting the resonance frequency caused by the machining accuracy error.

このような系でミラー面の動撓みが問題になる場合は、軽くて剛性の高いＤＬＣ膜や、単結晶Ｓｉウエハをエッチング法やダイシング法により切り出し、貼り付けることで総体として剛性を高めてもよい。ただし、ミラー面を貼り付ける場合には、切り出す加工を施す前に反射膜及び増反射膜を形成した方が好ましい。これは、切り出し加工において、エッチング液残りや、コンタミネーションが発生し、表面の平滑性に問題が生じるからである。 If dynamic deflection of the mirror surface becomes a problem in such a system, it is possible to increase the rigidity as a whole by cutting and pasting a light and rigid DLC film or a single crystal Si wafer by etching or dicing. Good. However, when a mirror surface is pasted, it is preferable to form a reflective film and an increased reflective film before the cutting process. This is because the etching solution remains and contamination occurs in the cut-out process, causing a problem in surface smoothness.

このように作製されたマイクロミラーデバイスは固定部１０６が固定され、永久磁石を実装した揺動体の１０２の近傍に、透磁率の高い材料で作製されたコア材の周囲にコイルを巻きつけた部材が配置される。このコイルに電流を流すことで、揺動体１０２に回転振動を与える。この回転振動がトーションバー１０３を伝わり、可動ミラー１０１が回転振動する。 In the micromirror device manufactured in this way, the fixed portion 106 is fixed, and a member in which a coil is wound around a core material made of a material having high magnetic permeability in the vicinity of the oscillator 102 on which a permanent magnet is mounted. Is placed. By causing a current to flow through this coil, rotational vibration is applied to the oscillator 102. This rotational vibration is transmitted through the torsion bar 103, and the movable mirror 101 is rotationally vibrated.

＜他の実施形態＞
上述した光走査装置は、光ビームを射出する光源と、光ビームを走査するマイクロミラーデバイスとを備える。このような光走査装置を画像形成装置に採用してもよい。画像形成装置は、光走査装置と、光走査装置により画像信号に応じた潜像を表面に形成される像担持体と、潜像を現像しトナー像を形成する現像装置と、トナー像を記録媒体上に転写する転写装置と、トナー像を記録媒体に定着させる定着装置とを備えている。 <Other embodiments>
The above-described optical scanning apparatus includes a light source that emits a light beam and a micromirror device that scans the light beam. Such an optical scanning device may be employed in the image forming apparatus. The image forming apparatus includes an optical scanning device, an image carrier on which a latent image corresponding to an image signal is formed by the optical scanning device, a developing device that develops the latent image to form a toner image, and records the toner image The image forming apparatus includes a transfer device that transfers onto a medium and a fixing device that fixes a toner image on a recording medium.

もちろん、上述した光走査装置をヘッドマウントディスプレイなどの表示装置に組み込んでもよい。また、バーコードリーダ等の入力装置等にも適用可能である。 Of course, the above-described optical scanning device may be incorporated in a display device such as a head-mounted display. The present invention can also be applied to an input device such as a barcode reader.

さらに、本発明であれば２次元走査が可能なマイクロミラーデバイスにも適用可能であり、これをディスプレイなどに用いられる２次元光走査装置に採用する事もできる。 Furthermore, if it is this invention, it is applicable also to the micromirror device in which two-dimensional scanning is possible, and this can also be employ | adopted for the two-dimensional optical scanning apparatus used for a display etc.

ジンバルタイプの光走査装置を示した図である。It is the figure which showed the gimbal type optical scanning device. 二軸変更可能なジンバルタイプの光走査装置を示した図である。It is the figure which showed the gimbal type optical scanning device which can change biaxially. 圧電体を利用したマイクロミラーデバイスを示した図である。It is the figure which showed the micromirror device using a piezoelectric material. マイクロミラーデバイスの動作原理を示した図である。It is the figure which showed the principle of operation of the micromirror device. 板厚を厚くすることで鏡面加工による母材の歪みを低減したモデルを示した図である。It is the figure which showed the model which reduced the distortion | strain of the base material by mirror surface processing by making board thickness thick. 板厚を厚くすることで鏡面加工による母材の歪みを低減した他のモデルを示した図である。It is the figure which showed the other model which reduced the distortion | strain of the base material by mirror surface processing by making board thickness thick. 反射面を平滑するための平滑化層の断面図である。It is sectional drawing of the smoothing layer for smoothing a reflective surface. 板波を利用した光走査装置を示す図である。It is a figure which shows the optical scanning device using a plate wave. ミラーに発生する動撓みを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the dynamic deflection which generate | occur | produces in a mirror. 片持ち２振動子モデルの光走査装置を示した図である。It is the figure which showed the optical scanning apparatus of the cantilever 2 oscillator model.

Claims

トーションバーと、
該トーションバーの一端に支持されたミラーと、
該トーションバーの他端が結合された基板と、
前記基板に設けられ、前記ミラーを揺動させる揺動部と
を備えたマイクロミラーデバイスであって、
前記ミラーは、
母材と、
該母材の表面粗さを平滑化するための平滑化層と、
該平滑化層の上に形成された反射面と
を備えたことを特徴とするマイクロミラーデバイス。 A torsion bar,
A mirror supported at one end of the torsion bar;
A substrate to which the other end of the torsion bar is coupled;
A micromirror device provided on the substrate and provided with an oscillating portion for oscillating the mirror,
The mirror is
With the base material,
A smoothing layer for smoothing the surface roughness of the base material;
A micromirror device, comprising: a reflective surface formed on the smoothing layer.

前記基板、前記トーションバー及び前記ミラーとが同一の素材により一体的に構成されていることを特徴とする請求項１に記載のマイクロミラーデバイス。 The micromirror device according to claim 1, wherein the substrate, the torsion bar, and the mirror are integrally formed of the same material.

前記トーションバーと、前記ミラーと、前記基板とが、１枚の金属板を打ち抜くことで形成されていることを特徴とする請求項２に記載のマイクロミラーデバイス。 3. The micromirror device according to claim 2, wherein the torsion bar, the mirror, and the substrate are formed by punching one metal plate.

前記金属板は、ＳＵＳであることを特徴とする請求項３に記載のマイクロミラーデバイス。 The micromirror device according to claim 3, wherein the metal plate is SUS.

前記揺動部は、前記ミラーを揺動させるための板波を前記基板に発生させる板波発生素子であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか1項に記載のマイクロミラーデバイス。 5. The micromirror device according to claim 1, wherein the oscillating portion is a plate wave generating element that generates a plate wave for oscillating the mirror on the substrate. 6.

前記板波発生素子は、圧電素子であることを特徴とする請求項５に記載のマイクロミラーデバイス。 6. The micromirror device according to claim 5, wherein the plate wave generating element is a piezoelectric element.

光走査装置であって、
光ビームを射出する光源と、
前記光ビームを走査する、請求項１ないし６のいずれか１項に記載のマイクロミラーデバイスと
を含むことを特徴とする光走査装置。 An optical scanning device,
A light source that emits a light beam;
An optical scanning apparatus comprising: the micromirror device according to claim 1, which scans the light beam.

画像形成装置であって、
請求項７に記載の光走査装置と、
前記光走査装置により画像信号に応じた潜像を表面に形成される像担持体と、
前記潜像を現像しトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を記録媒体上に転写する転写装置と、
前記トナー像を前記記録媒体に定着させる定着装置と
を含むことを特徴とする画像形成装置。 An image forming apparatus,
An optical scanning device according to claim 7,
An image carrier on the surface of which a latent image corresponding to an image signal is formed by the optical scanning device;
A developing device for developing the latent image to form a toner image;
A transfer device for transferring the toner image onto a recording medium;
An image forming apparatus comprising: a fixing device that fixes the toner image to the recording medium.